同一分划板上两种宽度线条的刻制

<正> 在同一分划板上制造两种不同宽度的线条,用制板照相及刻制金属膜层的方法是较容易得到的,但用刻蜡酸蚀方法却有一定的困难。近几年来,我厂在加工一些分划板时,常碰到此种情况,我们根据图纸的要求分别采用了以下两种刻制方法。第一种方法:模板矩形线宽法     

分划板光坯返修工艺——返修分划板光坯的新夹具

本文介绍了几种新型的夹具,用来返修分划板光坯,克服了原来使用的夹具对玻璃不能很好地定位等缺点,并提出了返修过程中的一些注意事项。     

特殊分划板的制作工艺改进

<正> 对于瞄准活动目标的分划板,为了使跟踪的目标更加明显,需要在十字交叉缺口处加刻一红点。如图1所示。这里主要介绍这种特殊分划板的技术要求、常规刻划工艺及其改进措施。一、常规刻划工艺1.技术要求制造该分划板,其测标点大小、测标线粗细及其不同心度应满足如下技术要求:(1)测标点的直径为0.04~(±0.004)mm,为红色;     

特别耐高低温分划板的研制

为了解决分划板在高低温情况下容易开胶的问题,通过对几种光学用胶以及制版工艺的选择和探讨,研制出特别耐高低温的分划板。     

介绍一种振荡现象示教板的制作

电容电感振荡电路中所产生的自由电振荡过程,对师范学校学生来说,是一个相当抽象难以理解的电现象。我们在讲解这一现象时曾运用示教板进行了演示实验,效果良好,同学反应“印象深刻,解决问题”。兹将仪器地构及演示方法、步骤、介绍于后,供同志们参考,并希指正。     

介绍一种新型高度数眼镜片

本文简要指出了传统弯月型眼镜片之不足,着重阐述了带有过渡区的非球面缩径眼镜片的优越性、设计原则和简略的加工方法,并用远视和近视两种眼镜片作例子进行了比较计算。至于这种眼镜片的理论设计与传统眼镜片一样,故本文略述。     

带分划板的变倍双目望远镜

本文叙述了原苏联的ＢＫ７～１２×３５，ＢＫ７～１４×３６和ＢＰ１０～１６×４０变倍双目望远镜。给出了这些变倍双目望远镜与固定放大率双目望远镜相比的实验室试验结果。试验结果表明原苏联研制的变倍双目望远镜在光学和技术性能方面基本上与固定放大率双目望远镜不相上下。而且表明研制带分划板的变倍双目望远镜将会导致放大率变化范围的增加，可观察角视场的增大，结构的改进和重量的减轻。     

分划板模板设计问题的一点讨论

<正> 目前国内各光学厂在批量生产分划板的过程中,大都采用浮刻法,即各类分划常用刻线机按模板刻划。因此,模板是刻度工装中非常重要的一种。模板设计的是否合理,直接影响分划板的精度。这里,对模板设计问题进行一点讨论。模板的设计一般分下列几步: 一、求放大率根据国产五轴机的缩放原理其放大率公式为:     

一种新型的石油测井用金属保温瓶

介绍了一种新型的绝热容器的研制过程,该容器用于井下高温环境的保温,要求具有直径小、真空间隙小、耐高压、保温时间长的特点.针对这些特点,我们进行了严格的设计、计算和工艺改进,得到了比较满意的试验结果.     

介绍一种金属矩形扫描光栅的加工方法

矩形扫描光栅是应用于光学传递函数仪的一个关键零件。该零件对线条的宽度、平直度和平行度要求都很严格,加之线条的数目很多,宽度按等比级数变化,所以加工难度较大。目前,国内一般是在玻璃板上或胶片上用照象腐蚀的方法制作,这在可见光波段是可行的,     

铁电体电源起爆金属桥箔的数值计算分析

 为探讨铁电体电源对金属桥箔的起爆作用,对冲击波作用下PZT95/5铁电体对铜桥箔的放电过程进行了数值计算。通过引入金属桥箔电阻非线性变化的FIRESET模型,考虑回路电感及回路电阻,计算了负载为铜桥箔时的铁电体的电响应。讨论了铁电体并联数量、回路电感对桥箔爆炸特性的影响。计算结果表明：当并联排列的铁电体电极面积达到0.006 m²以上时,在桥箔上可产生高于100 GA/m²的电流密度,能够有效起爆桥箔。而回路中存在适当的电感将有利于铁电体电源起爆桥箔。计算方法和结果能够为起爆金属桥箔的铁电体电源设计提供理论根据。     

电爆炸箔驱动绝缘飞片的一维数值模拟

 在一维有限差分反应流体动力学程序SSS中引入电爆炸模型,在此基础上结合新引入的物态方程库,开展了电爆炸加载下飞片运动过程的数值模拟研究。计算结果与实验结果基本吻合,表明SSS对电爆炸驱动飞片的过程的模拟是可靠的,为电炮加载技术的优化设计和电爆炸驱动飞片物理过程的进一步研究提供了一套有效的计算方法和程序。     

一种锗晶体光码盘的分划制作工艺研究

为了在锗晶体光坯上制作出满足要求的码盘图案,分别采用正性光刻胶和负性光刻胶,先镀膜后照相和先照相后镀膜的工艺路线进行工艺实验,并对实验结果进行分析,得出结论:用负性光刻胶按先照相后镀膜的工艺路线为锗晶体光码盘分划制作工艺的最佳方案。实验结果表明:加工出的图案明暗对比度大、边缘不均匀性小于0.008 mm,可实际应用于锗晶体上分划图案的制作。     

New Liquid Metal Experimental Loop

In this paper we report the rebuilding of liquid metal experimental loop （LMEL） to avoid loop danger in running. In the new loop, We have eliminated the hidden trouble of the inherent safety in the former loop, obtained more stable magnetic field region, upgraded the reliability of the data acquisition and processing. New LMEL can provide the more extensive experiments on MHD effects and their thermal-hydraulics on the liquid metal divertor and the liquid metal blanket.     

Matrix Projection Exposure Using an Analogue Liquid Crystal Display Panel in Place of a Reticle

The most serious problems for the matrix projection exposure using a liquid crystal display (LCD) panel in place of a reticle are largely solved by a new breakthrough method. LCD matrix exposure is effective for small volume productions of print circuits, screen masks, micromachine parts, and other items. Since no reticles are needed, all reticle costs are saved, and turnaround times required for changing the patterns are greatly shortened. However, in the conventional method, pattern widths and positions were strictly restricted depending on the geometric size and pitch of the liquid crystal cells. In this paper, a new concept appointing the cell brightness grades continuously using an analogue interface LCD panel is proposed. Calculating the image intensity distributions for various appointments of cell brightness balances to print same wide patterns, it is clarified that the pattern widths and positions are not much different if the pattern widths are wider than 2 cell pitches of the LCD panel. Maximum width and position variations are less than ± 10% even when the patterns are printed at arbitrary positions, of course including halfway ones. The calculated results are proved by experiments using an analogue LCD panel with a cell pitch of 15 μm. Though the cell size are 13 × 10 μm², and different in x and y directions, almost same wide line-and-space patterns are successfully printed at all positions by only one exposure. It is not necessary to shift the reticle for overlapping exposures to print smooth patterns. Oblique patterns and complicated Chinese character patterns are also printed at arbitrary positions. The new breakthrough technology will make the LCD matrix exposure promising for wide uses of printing various rough patterns easily at small costs.     

金属纳米结构增强荧光的研究进展

金属表面等离子体(surface plasmon)是金属与介质界面处传播的电荷振荡密度波。当振荡频率与激发光频率相匹配时将产生金属表面等离子体共振,从而能够在金属结构附近产生强烈的消光和近场增强效应, 该效应在表面等离子共振成像、表面等离子体波导、生物传感、光谱增强等方面有着重要的应用前景。本文综述了金属结构的表面等离子共振效应在增强荧光光谱方面的研究进展。论文首先介绍了金属表面等离子体增强荧光的机理以及影响荧光增强效果的因素;其次,从用于荧光增强的各类金属纳米结构的角度分别综述了荧光增强研究的最新进展;最后,介绍了荧光增强在食品检测、环境监测、光学成像、光电器件、荧光上转换等领域的最新应用情况。     

一种新型金属配合物的非线性光学特性的研究

利用单光束Z扫描技术,在波长532nm、脉宽8ns的条件下研究了新型的金属有机配合物ECuCl2（BOEP）2]的三阶非线性光学性质。由实验结果发现配位化合物虽然没有明显的非线性吸收性质,但是其三阶非线性折射率比相应配体大很多。探讨了配合物的结构和其三阶非线性光学性质的关系,认为配位化合物的丌共轭离域体系的增大和金属中心离子与配体之间的电子转移是配合物具有更大非线性折射率的主要原因。选择具有π键的配体与金属离子合成为配合物,使其非线性效应明显增强,这对合成性能更好的非线性材料有一定的参考价值。     

Dynamics of the Surface Morphology of a Tungsten Foil under Load

Physics of the Solid State - The dynamics of changes in the surface morphology of recrystallized tungsten foil under the action of uniaxial tension was studied in situ by the methods of low-energy...     

铁质类金属热导率改变的新发现

实验通过使用TC-3型固体热导率测定仪[1]来分别测量无加磁场金属圆柱和外加磁场金属圆柱的热导率,并采用控制变量法,来探究磁场对固体热导率的影响,发现外加磁场对铁质类金属的热导率有一定的影响。     

ASAY膜法测量微物质喷射总质量不确定度的初步实验研究

 采用在不锈钢样品上用油脂粘贴给定质量的铝粉作为模拟喷射体的方法,对ASAY膜法测量微物质喷射总质量的不确定度进行了初步实验检验。实验结果表明,对于mg/cm²量级的微物质喷射总质量,目前ASAY膜法测量的不确定度可以小于50%。