新型减反屏蔽膜系的模拟设计

为解决航空条件下复杂外界环境对液晶显示器的各种干扰,本文设计了一种新型减反屏蔽膜系结构,将ITO透明导电膜层作为减反膜系中的一层,使膜系在达到减反效果的同时还具有屏蔽功能,大大降低了ITO作为屏蔽膜层单独使用时在可见光部分的剩余反射率。通过TFCalc光学膜系设计软件进行模拟．结果表明该膜系结构在可见光部分的剩余反射率明显下降,其中最优膜系的平均剩余反射率为0．43％,面电阻率达到11．8Ω／□,使得液晶显示器在航空环境条件下的工作性能有了显著提高。     

激光/长波红外双谱段减反射薄膜设计与制备

在氟化钡光学元件上设计并制备多谱段减反射薄膜是提升光电系统探测性能的关键。在氟化钡基底上设计并制备了1064 nm激光/长波红外双谱段减反射薄膜。基于周期对称结构膜系导纳计算方法,以及拟合膜层周期数与参考波长的优化算法,开展了复合谱段减反射薄膜初始膜系的设计方法研究。使用热蒸发离子束辅助沉积方法制备了多层减反射薄膜。测试结果表明,该薄膜在1064 nm处透射率为94.0%,在8~12 μm长波红外谱段平均透射率为96.3%,在8.2 μm处的透射率高达99.4%。该激光/长波红外双谱段减反射薄膜具有良好的光学性能,可以应用于多模复合精确探测光电装备之中,对于提升探测系统的工作性能具有重大意义。     

遗传算法设计电磁屏蔽减反膜

将电磁屏蔽层ITO薄膜作为一层光学薄膜,与TiO2、SiO2、MgF2一起,设计了宽带电磁屏蔽减反膜。给出了含有单层、双层、三层ITO的电磁屏蔽减反膜的膜系结构,其在可见光范围内剩余反射率均小于0.5%,满足ISO9211标准。该薄膜既具备光学减反效果,同时又具备电磁屏蔽功能,可以用作电磁屏蔽视窗。     

基于FPC应用的电磁屏蔽膜设计

基于电磁屏蔽膜在FPC应用上日趋广泛,本文以片状银粉作为导电介质,以油墨作为绝缘体,以环氧树脂、固化剂等试剂混合为成膜剂设计出用于FPC软性电路版上的电磁屏蔽薄膜,本电磁薄膜屏蔽效能达到55d B,压合后厚度在15-21um,具有良好的制成适用性、耐高温、抗化学性,符合环保要求,性价比高。     

惯性平台系统的EMC分析与EMI设计

主要针对惯性平台系统的EMC(电磁兼容性)分析和EMI(电磁干扰)设计,给出了EMC的概念,介绍了与惯性平台系统有关的EMI源及其特点,给出了平台系统EMI的耦合途径.依据平台系统EMI的特点和耦合途径,提出了平台系统在进行地线设计、布线、滤波、屏蔽、防止静电放电等方面应遵循的准则和采取的措施.     

ZnS红外窗口的电磁屏蔽设计及试验验证

通过理论计算分析了金属网栅的电磁屏蔽特性与红外透过率之间的关系,发现金属网栅的电学特性与光学特性是相背离的。为满足镀金属网栅后光学镜片的透过率降幅小于等于5%、屏蔽效能大于30 dB (频率范围为14 kHz～18 GHz)的要求,首先通过理论计算选用线宽为10 μm、周期单元的长度和宽度均为500 μm、膜层厚度为1 μm的金属网栅(Ni-Ag)。然后采用直流磁控溅射镀制技术在直径为100 mm的硫化锌基片表面成膜。经过曝光、显影、坚膜、腐蚀、剥离等工艺,获得了镀Ni-Ag频率选择表面(Frequency Selective Surface, FSS)网栅的红外窗口样片。最后对红外窗口样片进行了透过率和屏蔽效能测试。测试结果满足设计要求。该计算数据可用于预估光学窗口的电磁屏蔽性能,为后续的设计工作提供参考。     

金属网栅电磁屏蔽窗口薄膜的设计与制备

通过光刻掩膜技术、电阻热蒸发沉积技术制备电磁屏蔽窗口金属网栅薄膜,研究金属网栅的红外透射率和电磁屏蔽效能。为了能有效地屏蔽电磁波,使用CST Studio Suite电磁仿真软件设计不同周期、线宽的金属网栅,采用光刻掩膜技术、电阻热蒸发技术在双面抛光单晶硅基片上完成线宽为30μm,周期分别为350μm、450μm、550μm、650μm、750μm的金属网栅薄膜的制备。采用真空型傅立叶红外光谱仪和矢量网络分析仪分别对不同结构参数金属网栅薄膜的光谱特性和电磁屏蔽效能进行测试。结果:实现在双面抛光单晶硅基底上制备的网栅在12~18 GHz频段内,网栅的电磁屏蔽效能均达到12 dB以上。在3~5μm波段的透射率损失仅为8%。为了得到既具有高透光率,又具有强电磁屏蔽效能金属网栅薄膜需要合理设计金属网栅的线宽和周期。制备过程中网栅的光学-电学特性不仅受周期和线宽影响,掩膜板的加工精度、金属网栅的加工缺陷等也会造成不同程度的影响。     

一种具有多层ITO结构的高效屏蔽光学视窗

针对现有屏蔽光学视窗透过率低、表面反射率高的缺点,提出一种高效屏蔽光学视窗的设计方法。即将ITO材料作为光学介质的一种,采用匹配的多层膜设计原理,将多层ITO匹配到减反膜系中,通过用Madab语言对膜系进行仿真、优化,实现了反射率低于0．3％,透过率大于99％的光学性能,并通过特殊的结构把多层ITO连接在一起,实现高效电磁屏蔽性能。     

军用方舱的电磁屏蔽设计

阐述了军用方舱电磁屏蔽的重要性,介绍了方舱舱体的屏蔽要求、方舱舱体的结构及舱体材料的选择方法,分析了影响军用方舱屏蔽效能的结构要素,指出舱体设计时应采取的相应屏蔽措施,提出结构设计时保证门、窗、孔口处的电连续性是实现军用方舱电磁兼容性的关键。并指出合理的工艺和生产过程中的严格控制是完成方舱电磁兼容性的有力保证。最后介绍了方舱舱体的接地技术。     

激光/电视分光膜的设计与研制

激光/电视分光膜实现了光路的"二光合一",简化了光学系统结构,在军用光学系统中得到了广泛应用。采用匹配层和Refinement计算机辅助法设计了激光电视分光膜,并对所设计的膜层进行镀制;最后,对制备的激光电视分光膜进行测试,结果表明膜层各项性能指标符合设计要求。     

40W日光灯电子镇流器的EMI滤波器的设计

电子镇流器是一种特殊的开关电源,应用非常广泛,普遍应用于日光灯,节能灯,HID灯等大量的日常照明设备中。为了使我们的电子镇流器符合国家标准GB17743-1999,对应的国际标准是CISPR15-1995,针对目前国内大量的电子镇流器不能达到国家或国际的EMC/EMI标准的突出问题,利用我们的工程经验和电磁兼容理论,采用双π型滤波器,专门研究设计出一种更加经济且小型化的EMI滤波器,使得该镇流器达到国家标准GB17743-1999,使之具有极大的现实意义和应用价值。     

减小等离子显示器电磁噪声的方法研究

根据等离子显示器的工作原理，讨论了表面放电型等离子体显示器在准备、寻址和维持放电发光三个阶段产生电磁噪声，以及驱动电路产生电磁哭声的原因，并针对电磁噪声的来源给出了相应的解决方法，大幅度地减小了等离子体显示器的电磁噪声，电磁辐射以及对其它电器的干扰。     

EMI滤波器的PSpice仿真设计

建立开关电源EMI滤波器的共模和差模等效模型,给出了利用PSpice进行仿真设计的通用的具体步骤和方法,最终得到了实用的结果。     

一种有前景的辐射EMI测试方法--用GTEM小室做EMI测试

文中简介了用GTEM小室做电磁兼容辐射EMI测试的方法，概念，现状和实际测试结果，通过对电偶极源，磁偶极源和一个实际雷达分机在GTEM室和开阔场的实际测试，证实了用GTEM室做辐射EMI预测试或预测试的可行性。     

电磁干扰滤波器磁芯的选择设计

针对开关电源的电磁干扰抑制原理，设计了电磁干扰滤波器磁芯，包括共模感应器材料的选择，磁芯线圈的计算。通过电磁干扰滤波器的设计实例分析，使设计者理解和选择最适宜用于特殊用途的铁氧体材料和成分，掌握共模感应器的设计方法和实际应用中应注意的问题。     

深亚微米结构下的IC设计的电磁干扰（EMI）问题

在深亚微米结构下,集成电路IC的线路延迟和电磁干扰现象对于系统的影响更加突出,尤其是对超大规模集成（VLSI）电路系统。本文仅就深亚微米结构下IC设计的电磁干扰问题,详细分析了其产生的主要来源：宇宙射线、噪声干扰和静电放电ESD．以及预防措施。     

T／R组件中的电磁干扰和电磁兼容

介绍了用于相控阵雷达的Ｔ／Ｒ组件，讨论了Ｔ／Ｒ组件中的电磁干扰（ＥＭＩ）和电磁兼容（ＥＭＣ）问题，阐述了Ｔ／Ｒ组件集成以后ＥＭＣ的重要性，并提出了有效的解决方法。     

EMI滤波器的设计及仿真

介绍一种简单有效的开关电源EMI滤波器设计方法.以分析噪声的传播方式、结合滤波器所需对应的开关电源工作频率为基础来设计滤波器,无需复杂的计算,对不同工作频率的开关电源有较强的针对性.最后通过实例仿真验证了此设计方法的可行性.     

开关电源输入EMI滤波器设计与仿真

开关电源中常用EMI滤波器抑制共模干扰和差模干扰。三端电容器在抑制开关电源高频干扰方面有良好性能。文中在开关电源一般性能EMI滤波器电路结构基础上,给出了使用三端电容器抑制高频噪声的滤波器结构。并使用PSpice软件对插入损耗进行仿真,给出了仿真结果。