化学增幅抗蚀剂用光产酸源

对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了阐述。介绍了化学增幅作用中的关键组分——光产酸源和酸增殖剂的发展概况，并对重氮盐、锘盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述。从目前国际发展的趋势来看，硫锘盐和磺酸酯类的光产酸源占据主要地位，有机多卤化物中的三嗪化合物还有少量应用。频哪醇单磺酸酯类化合物作为酸增殖剂使用较为普遍。     

硫鎓盐产酸剂的合成及其产酸效率

合成了6种适用于248 nm光致抗蚀剂的硫鎓盐产酸剂,其中吩噻(噁)体系的产酸剂为自行设计合成. 利用IR、H NMR、UV等测试技术进行了结构表征和紫外吸收测定,各化合物的最大紫外吸收在250～285 nm之间,吸收域较宽,适用性较强.同时,利用酸敏染料罗丹明B遇酸异构变色的特点,使用紫外!可见分光光度计定量检测了6种产酸剂在乙腈溶剂中的产酸效率,其中硫杂蒽酮系列的产酸剂产酸性能最好. 最后使用荧光追踪法研究了溶剂极性对产酸效率的影响,发现产酸剂的产酸性能同溶剂的选取密切相关,随着溶剂极性的减小,产酸效率随之降低. 对6种硫鎓盐的产酸效率检测结果可以为产酸剂进一步用于248 nm光致抗蚀剂配方提供详细的参考.     

新型硫鎓盐产酸剂的合成及其产酸效率研究

本文合成了六种适用于248nm光致抗蚀剂的产酸剂,其中吩噻口恶 体系的产酸剂由本研究室自主设计合成。六种产酸剂均通过IR,HNMR,UV等进行了结构表征,并利用酸敏染料遇酸异构变色的特点定量检测了六种产酸剂的产酸效率,同时使用荧光追踪法研究了溶剂极性对产酸效率的影响,优选出了硫杂蒽酮系列的产酸剂,为进一步用于248nm光致抗蚀剂提供参考。     

甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究

本文利用二苯碘 盐为光敏产酸物,吩噻嗪为敏化剂,配制了一种甲酚醛树脂——六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM)负性水型紫外化学增抗蚀剂,并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应,通过优化后的光刻工艺条件得到了分辨率为1.24μm的光刻图形。     

一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究

通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸——丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶.因此,用此二酸、二乙烯基醚和产酸剂可组成一种正型的光致抗蚀剂,当用254 nm的低压汞灯曝光时,其感度在30 mJ/cm²以下.     

一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质

制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂.     

重氮萘醌系正性抗蚀剂“增感”的进展

近年来有关重氮萘醌系正性抗蚀剂提高感度的研究文献综述均对应用较为成功的多酚化合物作了较为详细的介绍.     

两种耐高温紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及性能

分别通过N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺与N-苯基马来酰亚胺、N-苯基甲基丙烯酰胺与N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的共聚合,制备了两种聚合物树脂聚N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(HPMA-co-PMI))和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺(poly(MPA-co-HPMI)).结果表明,这两种聚合物都是按1∶1的摩尔比交替共聚的,它们都具有良好的溶解性、成膜性和亲水性,并且它们的玻璃化温度Tg都在280℃以上.将它们分别与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物、助剂二苯甲酮等复配成两种紫外正型光刻胶,初步光刻实验表明,其最大分辨率都可以达到1μm,并且都可以耐270℃的高温.