化学镀镍铜磷在钕铁硼表面处理上的应用研究

为提高钕铁硼表面镀层的耐蚀性,使其具有更高的经济附加值,采用在化学镀镍磷合金液中添加适量的铜离子及其复合络合剂,制得镍铜磷三元合金。研究了镍离子、铜离子、次亚磷酸钠、复合络合剂添加量,沉积温度、pH值对合金镀层沉积速度的影响。利用中性盐雾试验比较了其与电镀镍、化学镀镍磷合金的耐蚀性能。结果表明：化学镀镍铜磷合金能明显提高钕铁硼表面处理后的耐蚀能力。     

镍铬合金在酸性CuCl2溶液中反应机理

对铜在酸性CuCl_2溶液中蚀刻反应机理论述,利用氧化-还原电动势原理,详细论述了Ni80Cr20合金在酸性CuCl_2溶液中化学蚀刻反应机理,以及影响蚀刻速度的因素,并对溶液中金属离子的存在形式作了验证。     

化学镀铜溶液中稳定剂和铜沉积层质量的关系

在化学镀铜溶液中，稳定剂有主配位剂、副反应抑制剂和第三类稳定剂三种类型。添加主配位剂和副反应抑制剂有利于提高铜沉积层质量，而添加第三类稳定剂既有减少铜无效消耗量的正面效应，又有降低铜沉积层质量的负面影响。本文还从理论上探讨离甲醛与第三类稳定剂的关系。     

pH对化学镀镍-磷法制作的埋嵌电阻方块电阻影响的研究

文章主要介绍了pH对通过化学镀镍-磷法制作埋嵌电阻时镍-磷合金层方块电阻的影响。在温度相同的条件下,当镀液的pH不同时,探究了两种基材表面上镍-磷合金层方块电阻与反应时间的关系,并分析了适合用于制作埋嵌电阻的镍-磷合金层方块电阻值,以及最佳的化学镀镍-磷反应pH值。从实验结果可知,当反应时间相同时,随着pH的减小两种基材表面上镍-磷合金层的方块电阻将会逐渐大;适合用于埋嵌电阻制作的化学镀镍-磷反应pH为3.4~3.7,反应时间为3min~8min,方块电阻为15Ω/□～200Ω/□。     

316L不锈钢在硫酸溶液中腐蚀行为的研究

采用浸泡和电化学试验方法对316L不锈钢在不同浓度、温度H₂SO₄溶液中的腐蚀行为进行研究。通过观察不锈钢的表面腐蚀形貌,腐蚀速率与动电位极化曲线,分析其在硫酸溶液中的腐蚀特性。结果表明,316L不锈钢在20℃下5%H₂SO₄溶液中浸泡48d后,其表面会出现腐蚀坑点;而在同一温度下,随着H₂SO₄溶液浓度的提高,自腐蚀电流密度逐渐降低;但在同一浓度下,随着温度的升高,自腐蚀电流密度不断地增大,其耐腐蚀性能降低。