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相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 62 毫秒
1.
本文用傅里叶及边缘泰勒展开的方法,导出了非圆截面托卡马克等离子体边缘磁面的解析解及其重构的方法。最后作为例子,给出了在TEXT-U装置中按实际参数重构的等离子体边缘磁面结构及重构的误差。  相似文献   

2.
本文将基于体积平均方法的理论模型与拓扑优化工具结合,以减小弥散系数为优化目标对微尺度色谱通道的截面形状进行了优化。优化结果表明色谱通道截面形状优化可以明显削弱通道内弥散过程。优化得到的截面形状明显不同于常见的矩形截面,具体形状取决于流动阻力系数的数值,流动阻力系数越大,截面的宽高比越大。将优化截面用于微尺度色谱设计可以显著改善分离速度及分离精度。  相似文献   

3.
考虑温度、物质密度效应,用相对论Dirac自洽场含温有界原子模型,给出了热物质中连续态电子波函数的能态密度。通过研究Au、Fe、Ar、Kr等元素,分析了光电截面随温度、物质密度的变化规律。  相似文献   

4.
匡光力  G.WAIDMANN 《物理学报》1994,43(9):1466-1475
根据实验数据系统地描述欧姆放电情况下的TEXTOR托卡马克等离子体的磁流休动力学(MHD)振荡(Mirnov振荡)特性,主要包括:MHD振荡的主要模式及各模振荡的相关性;MHD振荡的传播方向;m=2/n=1模的电子温度、密度和密度涨落强度等各量振荡之间的相关特性。 关键词:  相似文献   

5.
采用高阻抗探针,测量了热电子等离子体的高频扰动,扰动频率与外磁场的关系及爆发区域匠实验观察表明,高频扰动为离子漂移回旋不稳定性。  相似文献   

6.
半导体芯片是信息时代的基石,诸如大数据、机器学习、人工智能等新兴技术领域的快速发展离不开源自芯片层面的算力支撑.在越来越高的算力需求驱动下,芯片工艺不断追求更高的集成度与更小的器件体积.作为芯片制造工序的关键环节,刻蚀工艺因此面临巨大的挑战.基于低温等离子体处理技术的干法刻蚀工艺是高精细电路图案刻蚀的首选方案,借助等离子体仿真模拟,人们已经能够在很大程度上缩小实验探索的范围,在海量的参数中找到最优工艺条件.电子碰撞截面是等离子体刻蚀模型的关键输入参数,深刻影响着模型预测结果的可靠性.本文主要介绍了低温等离子体建模的基本理论,重点强调电子碰撞截面数据在数值模拟中的重要作用.与此同时,本文概述了获取刻蚀气体截面数据的理论与实验方法.最后总结了刻蚀相关原子分子的电子碰撞截面研究现状,并展望了未来的研究前景.  相似文献   

7.
因为等离子体最后的封闭磁面(LCFS)最终决定等离子体的截面形状,并且等离子体位形与许多热点的先进托卡马克(AT)和聚变堆课题相联系,例如电流密度的控制、等离子体平衡、刮离层(SOL)、粒子和能量行为、高能等离子体以及MHD不稳定性抑制等,所以目前的托卡马克仍然需要对边界的相关物理进行研究,例如边界确认、等离子体平衡和极向磁通损失等。从控制AT或者研究放电等离子体物理性质来看。获得相对准确的与边界相联系的等离子体平衡性质也是重要的。  相似文献   

8.
本文给出了发射探针和电容探针测量等离子体电位的实验和方法。发射探针采用直流功率加热,并在较强电子发射条件下运行(I_(e0)/I_(e0)>1)。电容探针表面二次电子发射系数δ≥1。本文对发射探针的电子发射性能、工作电流、电容探针的输入、输出电压关系进行了标定实验。得到了电容探针的校准系数分别为3×10(-3)、5×10(-4)。实验给出了MM-4会切中心等离子体电位V_(p4)=-82±9-122±12V;MM-4U东、西会切中心等离子体电位分别为V_(P4u1)=-52.9±3.2V,V_(P4u2)=-62±3.2V。  相似文献   

9.
本文利用环形系统的Grad-Shafranov方程得到了D形截面的托卡马克磁面位形,并利用射线追踪技术研究了D形磁面位形下低杂波的运动形态。定性地研究了D形磁面位形下利用低杂波驱动电流的可行性,优化地给出了驱动电流的最佳方式。  相似文献   

10.
HL-2A装置上一种测量等离子体位移的新方法   总被引:2,自引:2,他引:0  
描述了用非对称结构的拾取线圈测量托卡马克装置等离子体位移和极向场不对称因子的方法,介绍了HL-2A装置拾取线圈的布置和位移测量的实验结果。并把用此方法测量的等离子体位移与用其他诊断方法测量的结果进行了比较。  相似文献   

11.
为了对GaN薄膜低温生长提供更多的活性氮,在一个腔耦合电子回旋共振(ECR)半导体加工装置上,用朗谬探针和二次微分理论,研究了氮ECR等离子体的实际电子能量分布。发现它们都是非麦克斯韦分布,含有高能电子,而且随着放电气压的下降和微波功率的增加,高能电子成分增加。  相似文献   

12.
用一个可移动的静电双探针获得了HL-1装置边缘区电子温度T_e,电子密度n_e的时空分布。实验测得孔栏边缘处T_e和n_e。分别约为12eV和3×10~(11)cm~(-3),n_e沿小半径方向的径向梯度约4.7X 10~(11)cm~(-3);在等离子体边缘区,n_e,T_e的e倍衰减特性长度分别约为20mm和27mm,在删削区内,λ_n,λ_T急剧减小。粒子的横向扩散系数与玻姆系数同量级。  相似文献   

13.
本文用一个内磁探针,获得了“微环”托卡马克的环向电流密度j_φ剖面和磁轴位置随放电条件及时间的变化。观测到j_φ的最大值点偏离小环几何中心5—15mm,并对j_φ在室壁附近出现的反向现象作了初步的物理解释,最后对磁轴位移进行了分析,与等离子体位移的测量结果定性符合。  相似文献   

14.
金属玻璃是由熔态经急冷淬火形成的非晶态金属,具有很高的力学强度和良好的抗腐蚀、耐辐照性能。关于中子、质子、电子和He、Ar离子等分别对金属玻璃的辐照损伤效应已有一些研究报道。托卡马克装置中的等离子体辐照是一种十分复杂的过程,它包括有质子、电子、光子、氘核和少量杂质重离子与中性粒子的混合辐照。本工作研究了某些金属玻璃在托卡马克装置真空器壁处经等离子体辐照以后的结构变化,探索金属玻璃用于托卡马克核聚变装置真空器壁的可能性。  相似文献   

15.
HT-7托卡马克中等离子体平衡研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文解决了二维轴对称近似下带铁芯的托卡马克中等离子体平衡问题,计算了HT-7托卡马克中的等离子体平衡位形以及极向场系统的非线性电感和垂直场系数。最后应用Kirchhoff方程组和平衡垂直场公式得到了一组等离子体、加热场和垂直场线圈的电流波形的自洽曲线。  相似文献   

16.
本文描述HL-1装置放电过程中,等离子体破裂及环形导体中感应电压和电流的精细测量。给出了破裂时内真空室和铜壳的感应涡流、磁场和电动力。分析了它们对装置工程的影响。  相似文献   

17.
等离子体电位是托卡马克装置的一个重要参数。它的测量在放电机制、等离子体的平衡与稳定、等离子体-表面相互作用以及杂质控制等研究课题中有着极其重要的作用。 本文描述用朗谬尔探针,以及由它组成的对称双探钎系统(以下简称SDP系统)测量微环托卡马克边界区等离子体电位V_0的两种方法和结果。  相似文献   

18.
本文提出了会切磁场多极离子源中,磁场对等离子体参数以及可引出离子束流和放电室阳极收集的离子电流影响的实验研究结果,并对该结果进行了分析讨论。  相似文献   

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