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本文是作者在实践中的研究成果与总结。介绍了透明塑料光学透镜、棱镜注塑模具型芯常用材料应具备的基本特性及选取原则。同时还介绍了实践中碰到的一些具体问题,期望与同行共同探讨。 相似文献
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光学塑料注射成型的状态分析 总被引:2,自引:0,他引:2
本文通过对塑料光学元件注射成型过程的分析,以光学塑料熔体的状态方程以及流变学Ha-gen-Poisellile方程为出发点,讨论并给出了光学塑料零件的成型工艺及模具浇注系统的设计准则。 相似文献
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ZrO2薄膜微观结构和光学性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
无论是在300℃或室温下,用PVD方法淀积的ZrO_2薄膜,达到一定厚度后都出现晶相非均匀性,在基底侧为四方相,空气侧为单斜相.本文给出了ZrO_2薄膜中四方相存在的原因,并用晶体生长过程中的择优生长特性讨论了薄膜柱状体结构的成因,从而解释了薄膜的折射率非均匀性. 相似文献
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磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系 总被引:5,自引:0,他引:5
对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行.衬底温度(Ts)保持在350℃.衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。 相似文献
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对单层、双层非线性光学薄膜的输出特性进行数值计算,发现材料非线性特性对光学双稳态输出特性影响较大,而选择合适的双层结构可以获得较低的双稳态阈值光强以及光放大作用。双层非线性光学薄膜间的距离以及入射光的准直性极大地影响着双稳态输出特性. 相似文献
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报道用常压化学汽相沉积(APCVD)工艺制备TiOx纳米光学薄膜的研究结果,分析衬底温度对薄膜结构及折射率的影响,讨论在抛光硅片及绒面硅片上制备的TiOx薄膜光学减反射特性,并优化了工艺条件。 相似文献
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碳涂覆光纤表面碳膜形成机理研究 总被引:1,自引:0,他引:1
通过分析碳涂覆光纤的测试结果,研究碳涂覆光纤碳膜的形成机理,并应用该机理解释涂覆光纤的高可靠性问题和影响光纤初始强度大小的因素。 相似文献
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光纤涂料特性及其对光纤强度的影响 总被引:4,自引:1,他引:3
本文叙述光纤涂料的特性并就其对光纤强度的影响进行了分析研究,最后指出应根据光纤的技术要求及控制工艺,选择适当的涂料方能达到满意的效果。 相似文献