成像X射线光电子能谱定量分析研究

探索了直接用实验测得的XPS图像强度来做元素或化学态相对定量分析的可能性。以AgCl和Na2S2O3样品为例，实验结果表明：XPS图像强度与成像时间有良好的线性关系，根据图像强度对两种元素或化学态进行相对定量是可能的。     

纳米钛薄膜的XPS研究

用 XPS分析了三种纳米钛薄膜表面和经 Ar 溅射后内部碳、氧、氮、钛等的含量和化学态。发现三种薄膜表面碳、氧含量完全一致 ,碳为石墨态 ,氧为吸附态的水。薄膜内部碳、氧、氮的化学态主要为 Ti C、Ti O2 、Ti N。随着分析深度的增加 ,薄膜内金属钛的原子百分比浓度不断增加并逐渐趋于恒定。镀膜时真空度的提高有利于减少碳、氧、氮的污染。Ar 溅射所镀的膜与电子枪所镀的膜相比 ,晶粒尺寸小 ,在表面至浅表层内氧的含量有明显差异。     

含铁化合物的Fe2p和Fe3s电子能谱研究

选择了十几种常见的含铁化合物,分另采集了它们的Fe2p和Fe3s谱。从峰位和峰形上讨论了它们各自的特点,结果表明Fe2p和Fe3s峰的峰形分析（如,shake-up卫星峰及多重分裂峰）像其结合能值一样可以提供化学状态分析的重要信息。     

微胶囊膜表面化学组成的XPS分析

采用XPS表面表征技术对生物微胶囊膜表面化学组成进行了分析。结果表明,海藻酸钠_壳聚糖_海藻酸钠(ACA)微胶囊表面带负电荷的含C基团与带正电荷的含N基团的相对百分含量分别为30·6%与60·4%,而海藻酸钠_聚赖氨酸_海藻酸钠(APA)微胶囊分别为42·3%与30·0%,因此ACA微胶囊表面比APA微胶囊带更多的正电荷,更有利于蛋白质吸附与细胞粘附。为深入了解生物微胶囊表面引起的机体反应过程、改进微胶囊性能,提供了理论依据。     

用XPS研究兖州煤各显微组分中有机硫存在形态

应用ＸＰＳ（Ｘ射线光电子能谱）法研究了兖州煤显微组有机硫的存在形态。按密度不同分离出的兖州煤中各显微且分内的有机硫存在形态是有差异的。据ＸＰＳ分析，稳定组中含有大量的硫砜、硫醚含硫化合物，噻吩型硫闪之；镜质组中硫、硫醚与脂肪族硫化物含量相当；惰性组中噻吩型硫与硫醚和硫醇型硫各占有机硫的一半。噻吩型硫在充州煤各显微组分中，随密度增加。含量有所减少，硫醚、硫醇及二硫化物的含量也有类似的趋势。这些结果将     

稀土富勒烯电子结构的XPS研究

采用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）对富含稀土富勒烯Ｐｒ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ＠Ｃ２ｎ的吡啶提取液的固态沉积膜进行了研究，检测到明确的稀土元素的ＸＰＳ谱峰，表明富勒烯笼内嵌入的稀土元素具有特征的ＸＰＳ谱峰。通过对谱峰的分析，发现稀土富勒烯具有较为稳定的结构。嵌入的Ｐｒ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｅｒ等稀土元素与富勒烯球笼间存在电子的迁移。     

XPS分析中使用样品磁透镜引起的谱峰位移和峰形畸变

发现当使用Mg/Al双阳极和样品磁透镜进行非导电样品（或与样品托绝缘的导电样品）的X射线光电子能谱分析时，谱峰出现异常大的位移和谱形出现畸变；在同时使用电子中和枪时谱峰位移变小，当导电样品与样品托有良好的电接触时谱峰位移消失；作者提出这种异常大的位移来自样品荷电效应，后者是由于样品磁透镜的磁场与来自X射线枪A1窗的低能杂散电子发生了相互作用并使这些杂散电子不能到达样品表面起中和作用所致。     

玻璃表面特性的XPS研究

本文用XPS表征了玻璃表面铜、铅和锡离子的价态,并测定在浮法玻璃底表面锡离子价态的深度分布。对沾锡现象与锡离子价态之间的关系进行了讨论。     

K-Pb-Tl-O复合氧化物的合成和电子结构的XPS研究

用熔盐阳极电沉积法合成了导电的复合氧化物K-Pb-Tl-O晶体.这些晶体具有纳米尺寸层状结构.用XPS对其进行了表征,并与相关的化合物进行了比较.实验表明,氧化物中的Pb和Tl都以高价态的单一价态存在,但电子结合能比相应的非导电低价化合物的低.该文用原子外弛豫效应解释了复合氧化物中的Pb和Tl的结合能的反常现象.讨论了它们的价电子结构与导电性的关系.     

照相明胶与化学增感剂相互作用的XPS研究

本文采用X射线光电子能谱技术研究了两种照相明胶与化学增感剂相互作用的机理.当两种照相明胶样品在HAuCl₄溶液中反应5min后,明胶中的蛋氨酸、蛋氨酸亚砜均被氧化为蛋氨酸砜.与此同时,明胶吸附的大部分Au³⁺被还原为Au⁺,并且Au⁺以络合形态存在于明胶之中.根据与AuCl₃反应之后明胶中Au³⁺与Au⁺的比例,法国明胶的还原性略高于包头明胶.添加到明胶中的Na₂S₂O₃能将明胶大分子所含的蛋氨酸亚砜全部还原为蛋氨酸.S₂O₃^2-、蛋氨酸和蛋氨酸砜可以稳定共存于明胶体系之中,外加的S₂O₃^2-的还原性高于明胶中蛋氨酸、蛋氨酸亚砜的还原性.添加Na₂S₂O₃后的两种照相明胶均可以将其溶胀吸附的Au³⁺全部还原为胶态金.此时,参与氧化还原反应的主要基团是S₂O₃^2-而非明胶中的蛋氨酸残基.由于Na₂S₂O₃的添加,照相明胶对AuCl₃的还原能力增强.     

电子能谱线形分析研究碳物种的化学状态

利用ＸＰＳ的ＣＩｓ携上峰,Ｘ射线激发供歇线形,ＸＰＳ价带谱以及俄歇电子能谱的ＣＫＬＬ线形研究了几处碳材料的化学状态和电子结构。研究结果表明：ＸＰＳ的携上效应可以鉴别不同结构的碳材料。ＸＡＥＳＲ 化学位移和线形也可以有效地研究中不同的碳材料的成像方式。ＸＰＳ的价带谱电子结构的一种有效方法,对碳材料的研究也很有效。ＡＥＳ的ＣＫＬＬ俄歇线形非常适合金属碳化物的鉴别。     

X光电子能谱分析中光电子峰和俄歇峰的干扰及消除

X光电子能谱(XPS)在分析多元素材料时,光电子峰可能受到其它元素俄歇谱的干扰.在AlKα激发CrZnSi合金样品时,光电子峰Cr2p和俄歇峰ZnLMM相互干扰,而换用双阳极中的MgKα源激发,虽可消除此相互干扰,但样品表面的Cls和Nls又会受到ZnLMM干扰.类似地,AlKα激发的GaN样品中Nls受俄歇峰GaLMM的严重干扰,而换用MgKα源激发时,Cls峰又受到的GaLMM的干扰.交替使用Mg/Al双阳极激发源,可改变XPS分析中的俄歇谱及其背景对光电子峰的干扰位置,并用未受干扰的峰互相校正2组谱图能量位置,以对样品谱峰作出正确的分析.     

磁透镜引起的氯化银谱峰异常位移及其在X射线光电子能谱成象分析中的应用

用X射线光电子能谱（XPS）分析了与样品托有良好电接触的银片及其上面的AgCl。观察到在使用样品磁透镜和非单色化X射线源的实验条件下不导电的AgCl的电子峰产生异常大的谱峰位移,还发现这种异常谱峰位移可以应用于XPS成象分析,以提高化学位移很小的元素化学态（如Ag^0和Ag^ )的XPS象的分辨能力。     

Data Preprocessing in Peak Shape Analysis of Auger Electron Spectra

 Factor analysis is an established method of peak shape analysis in Auger electron spectrometry. The influence of different commonly used data preprocessing tools onto the results of factor analysis is demonstrated on AES depth profiles of multilayers and implantation profiles. For the analysis of Auger electron spectra it has been traditional to differentiate spectra by Savitzky and Golay’s method to remove background and to elucidate changes in peak shape. For phosphorus implanted in titanium it is shown that background removal works not ideal so that inelastic losses of the Ti(LMM) Auger peak can affect the result of factor analysis for the P(LVV) peak located at ca. 250 eV lower in kinetic energy. The contribution of such losses to the background can be corrected by shifting the spectra so that the high energy side above the peak equals zero. Numerical differentiation can introduce correlated error into the data set. To diminish edge effects the reduction of filter width at the edges and cutting off the outermost data points is recommended. The precision of spectrum reproduction is considered as a crucial test for the number of principal components. The reliability factor is investigated as a measure for the goodness of spectrum reproduction.     

X-ray photoelectron spectra and Auger studies of the surface oxidation of cobalt

Surface oxidation of Co has been investigated at different temperatures in the 300–600 K range at oxygen exposures upto 10⁶ L by XPES and AES techniques. In the XPES, both the valence band and core level bands have been employed to monitor the oxidation while in the AES, metal Auger intensity ratios as well as O(KLL)/Co(L₂₃M₄₅M₄₅) ratios have been examined. Only CoO is formed on the surface at high oxygen exposures at and above 500 K. Communication No. 62 from the Solid State and Structural Chemistry Unit.     

砷化镓半导体表面自然氧化层的X射线光电子能谱分析

用X射线光电子能谱(XPS)，测量了Ga3d和As3d光电子峰的结合能值，指认了砷化镓(GaAs)晶片表面的氧化物组成，计算了表面氧化层的厚度，定量分析了表面的化学组成；比较了几种不同的砷化镓晶片表面的差异。结果表明：砷化镓表面的自然氧化层主要由Ga2O3、As2O5、As2O3和单质As组成，表面镓砷比明显偏离理想的化学计量比，而且，氧化层的厚度随镓砷比的增大而增加；溶液处理后，砷化镓表面得到了改善。讨论了可能的机理。     

用X—射线光电子能谱对钇的配位化合物价态的研究

二价的配合物3p能级分裂间距大于三价Y的化合物,二价Y的4s多重分裂也是鉴别Y的价态指纹。     

Preliminary Study on Pyrolysis of Polymethylsilsesquioxane by FT—IR and XPS

The term polysilsesquioxanes in this paper refers to all structures with the empiri-cal formulas (RSiO3/2)n where R is hydrogen or any alkyl, alkylene, aryl, arylene, or organo-functional derivatives of alkyl, alkylene, or aryl. Polymethylsilsesquioxane (PMSQ) is characterized by its low weight loss at high temperatures. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) characterization of PMSQ was unavailable from reported literatures. In this study, the pyrolysis was carried out in an inert at…