三维全息和全息光栅的模压复制技术

<正> 一、引言全息图和全息光学元件的模压复制是国际上七十年代末发展起来的一项新技术。它成功地解决了全息照片的大批量生产问题,是实现全息图商品生产,开辟新的应用领域的关键技术之一,模压全息图的制作可分为三个阶段,即原版全息图的记录、铸金属模板和模压复制。二、原版全息图的记录记录原版全息图是模压复制技术的重要环     

二维彩虹全息图母版的非相干光拷贝技术

描述一种用非干光制作二维彩虹模压全息图母版的新技术。该技术用紫外灯作为记录光不原,记录系统中不用任何光学元件。记录过程不需防振条件,色彩编码 狭缝像的“彩虹版”上进行条纹复制而获得。彩虹版可以无数次重复使用,所以全息图母版的记录十分简单。该技术投资少、效率高,制出的全息图质量好,对大批量模压全息图制造有很高的实用价值。     

模压全息图的再现过程

本文就模压全息图的再现过程进行了论述。由于模压全息图的特殊性，本文论述了模压全息图再现时的一些现象，这对于设计２Ｄ／３Ｄ模压全息图有一定的参考意义。     

二步合成平板周视彩虹全息术

提出一种将物光波前先分解记录，再合成的二步平板周视彩虹全息术。波前的分解记录与合成彩虹全息图是分别通过转动物体和干板来实现的。记录这种周视全息图，不需要大孔径和其它特殊光学元件，即可获得周视半径大的无象差立体再现象。该方法可直接用于模压全息图母板的制作。     

实用的三维真彩色模压全息

三维真彩色模压全息图从艺术角度、信息量、技术含量和防伪功能均优于平面假彩色和平面真彩色模压全息图。本文分析了拍摄三维真彩色彩虹全息图的原理,给出了本方法实现实用三维真彩色模压全息的特点。     

一种制作多色彩全息图的新方法

本文首先提出了一种制作二维透射物彩虹全息图的新方法，即利用一专门设计的全息光学元件──色编码板，采用单光束制作所需物体的彩虹全息图；在此基础上，通过对色编码板的进一步理论设计，制作了一组对应不同主波长的色编码板，实现了记录物体的多色彩虹再现全息图。实验结果表明，此方案简便易行，光路布置灵活性高，且能有效地消除纵向色差的影响，特别适合于模压全息图制造中母全息图的拍摄，并降低了对环境稳定性的要求。     

横向面积分割法及其在二维/三维模压全息图中的应用

本文提出制造二维/三维模压全息图(又称分层模压全息图)的一种新方法——横向面积分割法,详细介绍了基本原理,设计思想和计算公式.此外,还提出了应用色序双循环或多循环技术增大垂直方向视角、应用定向散斑屏增大水平方向视角的新方法.成功地制造了质量满意的二维/三维模压全息图.     

三维漫射体单波长真彩色彩虹全息术

提出一种新的三维漫反射物体真彩色彩虹全息术,在普通一步法真彩色彩虹全息术的基础上,用单波长激光逆光路再现,可在同一种记录介质上一次曝光记录三维物体的真彩色全息图.因而特别适合于制作光致抗蚀剂模压全息母板.     

模压全息图的衍射效率与光刻胶母版沟纹深度的关系

高衍射效率是优质模压全息图的重要指标之一,它与许多因素有关,本文着重研究了它与光刻胶母版沟纹深度之间的关系,给出了最佳效率PET(聚酯薄膜)模压全息图对光刻胶母版的要求条件.     

模压彩虹全息片的视角和视角的测量

说明了对于２Ｄ／３Ｄ和３Ｄ彩虹全息图，视角作为质量指标的必要性。论述了具体测量视角时，选择激光束作为照明光束缘由，给出了像方视角与物方视角的关系以及具体测量视角的方法。关键词：模压彩虹全息图，视角的测量。     

全息图模压复制技术(Ⅰ)——浮雕型彩虹全息图的形成

浮雕型彩虹全息图是全息图模压复制的基础,它从根本上决定了最后成品的质量和性能。本文在介绍普通彩虹全息图和2D/3D彩虹全息图的基础上,着重介绍了我们在实验中总结出的两种形成浮雕全息图的工艺技术,即用国产的BP-212紫外正型光致抗蚀剂制造浮雕全息图和用银盐感光材料PD法制造浮雕全息图的技术。     

全息图模压复制技术(Ⅱ)——全息金属模版制造工艺

在全息图模压复制技术中,金属模板的制造是至为关键的工艺环节。本文介绍了我们在实验中总结出的全息镍压模制造工艺,包括第一个导电层的形成,电铸与翻铸工作模版;并详细介绍了全息模版的主要质量指标及其控制方法。     

Micro-hot-embossing of 316L stainless steel micro-structures

In this paper, the fabrication of an array of 316L stainless steel cylindrical micro-structures by hot-embossing is studied. The effects of various embossing parameters on the filling of the micro-cavities of silicon mold insert and the demolding of micro-structures are investigated. They include different silicon mold insert configurations, embossing pressure, embossing temperature, embossing time and the thickness of embossing substrate on which the micro-structures stand. Two types of silicon mold insert configurations are investigated. Hot-embossing study with the silicon mold insert attached on the upper mold plate shows that it is not feasible to achieve complete filling. Incomplete filling occurs and increasing the embossing pressure causes excessive thinning of the embossing substrate, so that micro-structures are torn off during demolding. Experiments show that the configuration that the silicon mold insert is positioned flush with lower mold surface improves complete filling. Using suitable embossing pressure and temperature, the larger substrate thickness and longer embossing time ensure the fabrication of defect-free fully filled micro-structures.     

体积全息图中的光子禁带

利用光子晶体的概念和方法分析光学全息,用光子晶体的带结构解释了体积全息图的性质.与超晶格不同,全息光子晶体的介电常量是渐变而不是突变的.着重讨论了一维非倾斜反射全息图在再现光不同角度入射情况下禁带结构的性质,通过基元反射全息实验的验证,证明体全息的禁带分析与实验结果符合得很好. 关键词： 体积全息图 光子晶体 禁带     

Computer-interferometric holograms used for laser beam scanners

We present a new technique to record holograms and its application to holographic laser beam scanners. “Computer-interferometric holograms” (CIH) are recorded interferometrically, one small facet at a time, and under computer control. Constructing scanner holograms by this technique allows for flexibility in the scan path, previously only achieved by computer-generated holograms (CGH). Experiments, demonstrating the useful application of the CIH recording technique to volume holograms, are described in a subsequent paper.     

Electric field selectivity and multiplexing of volume holograms in LiNbO3

Theoretical and experimental investigations of electric field multiplexing and selectivity of reflection volume holograms in LiNbO₃ are reported. Recording of at least five holograms is demonstrated. Equivalent spectral selectivity (5Ƽ.5 pm for the case of three electrically tunable holograms and (5ǁ pm for the case of five electrically tunable holograms are estimated.     

Superimposed volume holograms for measuring the phase and degree of mutual coherence of a light wave

Superimposed volume holograms, which make it possible to determine the phase and degree of mutual coherence of a stationary light wave consisting of partially coherent plane components incident on the holograms at different angles are proposed. To find these parameters of the light wave, the intensities of the waves reconstructed by the holograms are measured in the case of amplitude and phase modulation of the wave incident on the holograms. The phases and degrees of mutual coherence of the components of the wave incident on the holograms are found from the measured data. The holograms are studied based on the modal theory of superimposed volume holograms.