研究固体微结构的X射线粉末衍射全谱图拟合方法

Ｘ射线粉末衍射全谱图拟合的Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法是一种有效的晶体结构和微结构的分析方法。本文介绍了Ｘ射线粉末衍射全谱图拟合的Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法的基本原理，综述了该方法中的线形分析、校正及其在晶体结构分析、微结构分析、相定量分析和衍射图谱指标化等方面应用的最新进展。文章最后介绍了在实验方案选取方面的新概念     

晶体结构的X射线粉末衍射法测定

晶体结构是了解固体材料性质的重要基础。广泛应用的测定晶体结构的有效方法是Ｘ射线单昌结构分析。然而许多固态材料不可能获得满足单昌结构分析所需要的尺寸和质量，在这种情况下，实质上有关结构的信息来自粉末衍射数据。文章综述了根据粉衍射数据，应用单昌结构分析方法测定晶体结构的进展，同时着重讨论了粉末衍射重叠峰的分离方法。     

X射线粉末衍射的新起点—Rietveld全谱拟合

Ｒｉｅｔｖｅｌｄ全谱拟合法及高分辨Ｘ射线粉末衍射实验方法的出现与发展,使Ｘ射线粉末衍射进入了一个新阶段,不但提高了分析结果的质量,并且使从头晶体结构测定成为可能。本文扼要介绍了Ｒｉｅｔｖｅｌｄ全谱拟合法的理论;高分辨高准确的粉末衍射装置,从头晶体结构测定方法及多晶材料结构表征的全谱拟合法（包括作物相定性分析、物相定量分析、晶粒大小及点阵畸变的测定等）     

X射线多重衍射的进展

若晶体具有多个（≥３）原子平面同时满足Ｂｒａｇｇ定律,并同时衍射一单色入射Ｘ射线光束,这就是多重衍射现象。本文介绍Ｘ射线多重衍射的基本原理,获得多重衍射花样的实验方法、衍射理论和若干应用。     

多晶材料X射线衍射定量分析的多项式拟合法

提出了多晶材料X射线衍 (XRD)射定量分析的多项式拟合法 ,该方法将数学函数模型与计算机技术相结合 ,在建立衍射峰数学函数模型的基础上 ,利用计算机软件对谱线进行多项式全谱拟合 ,分析实验获得的XRD图谱 ,并求得各衍射峰的积分强度 ,从而精确求出混合试样中各相物质的重量分数。文章主要工作包括 3部分 :1 根据混合物的粉末衍射谱是各组成物相的粉末谱的权重叠加 ,各相的权重因子是与该相在混合物中的体积或重量分数有关的事实 ,建立全谱多项式拟合理论 ,找出各相的权重因子 ,进而求出其重量分数 ;2 数据采集与分析 ,给出了数据的处理方法及步骤 ;3 对定量分析的结果进行了比较讨论。该方法简化了数据处理的过程 ,提高了分析结果的精度 ,使粉末衍射数据处理工作变得相对容易     

同步辐射X射线和中子粉末衍射及Rietveld精化（1）

把Rietveld精化方法用于处理同步辐射X射线和中子粉末衍射数据，使得粉末试样的结构研究有很大发展。本文在简要介绍两种粉末衍射术和Rietveld方法之后，用实例描述它们在结构精化、解未知结构、沸石、有关微孔材料及磁结构材料测定中的应用。     

X射线多重衍射的进展

若晶体具有多个原子平面同时满足Ｂｒａｇｇ定律,并同时衍射一单个入射Ｘ射线光束,这就是多重衍射现象。本文介绍Ｘ射线多重衍射的基本原理,获得多重衍射花样的实验方法,衍射理论和若干应用。     

X射线三晶衍射及其应用

Ｘ射线三晶衍射由于同时采用了单色器和分析器，因而能区分样品中由完美晶体部分对Ｘ射线的动力学衍射和由缺陷部分引起的运动学散射，还可把晶体中晶格常数的变化和晶格取向缺陷区别开，并可测定倒易点附近Ｘ射线散射强度的二维分布图。近来，Ｘ射线三晶衍射技术广泛应用于研究晶体的表面和界面精糙度、表面损伤、晶体内的微缺陷以及精确确定外延膜的结构参数等。此外，还简要地介绍了Ｘ射线三晶衍射的技术、原理和应用。     

发散X射线晶体衍射模拟研究

根据晶体的对称性、衍射几何和衍射规律,研究了复杂的发散X射线晶体衍射。描述了模拟这种衍射的方法。由计算机产生的背射赝Kossel线花样与实验结果完全相符,并能识别出衍射图中所有线条的衍射指数。完成了一套由计算机绘制的〈100〉,〈110〉和〈111〉取向的Si单晶的发散衍射标准图谱。 关键词：     

X射线衍射法检测氰化钾

建立X射线衍射仪检测氰化钾的方法。与传统分析方法相比,该方法具有简便、快速、准确以及不破坏样品的特点。     

应用XRD方法研究AlN粉体的冲击波改性

 利用X射线衍射分析技术及Warren-Averbch分析方法，详细地研究了氮化铝陶瓷粉体在“名义压力”为9.8 GPa的冲击波压力作用下的晶格缺陷，得到了晶格畸变与晶胞柱尺寸的关系数值，分析结果表明，其相干散射区域尺寸远小于颗粒的真实尺寸，说明冲击波作用在氮化铝陶瓷粉体中产生了严重的晶格缺陷。     

iC多型体X射线定量分析的Rietveld方法

鉴于SIC多型体的主要衍射线完全重叠，用常规X射线粉末衍射方法确定SiC陶瓷材料中多型体含量的分布是非常困难的．提出以X射线粉末衍射全谱拟合的Rietveld方法进行SiC多型体定量分析，阐述了原理及方法．对含3C，4H，6H和15R4种多型体衍射数据的定量分析结果表明：Rietveld方法可对SiC材料中常见多型体的定量分析给出准确的结果．还给出了各自的标准偏差，并估计了该方法对各多型体能给出精确结果的最低含量     

X射线单色四重聚焦照相机单色器的衍射几何

本文详细分析了不对称Johann型单色器和不对称对数螺线型单色器的衍射几何。给出了计算X射线源焦点到单色器距离L₁、射线源及聚焦线交叉区散焦宽度b₁,b₂的表达式。根据理论分析的结果,在试制聚焦相机时采用了近似不对称Johann型的可调弯曲石英单色器。 关键词：     

择优取向对X射线衍射积分强度的影响

概要地介绍了X射线衍射原理及积分强度公式,探讨了多晶粉末样品的择优取向现象,分析了择优取向对X射线衍射积分强度的影响,并提出了较正的方法。     

EFFECT OF HIGH-ANGLE DIFFRACTION DATA ON RIETVELD STRUCTURE REFINEMENT

By utilizing the powder X-ray step-scanning diffraction data of PbSO₄, we have studied the effect of the diffraction data (with different high-angle upper-limit: 2θ_m= 160,140,120,100,80, 70 and 60°) on the precision of the Rietveld refined lattice constants, structure parameters, and agreement indices. Tbese refined results are compared with those obtained from the single crystal data. It is revealed that the deviations of the refined lattice constants, atomic positions and isotropic temperature factors decrease, and agreement indices become smaller With the increase of 2θ_m. But when 2θ_m> 120°, the deviations and agreement indices decrease very slowly. Therefore, in general cases, 2θ_m should be taken to be 120°or larger in order to get satisfactory refined results in the Rietveld crystal structure refinement.     

低强度X射线影像仪的新发展

扼要介绍国内外Ｌｉｘｉｓｃｏｐｅ的概况。提出在国产系统中在Ｘ射线源前加置Ｘ射线准直器,Ｘ射线影像增强采用纤维光学输出窗和小孔径大面积微反,可以必普像质、扩大视场。     

电子束管中的涂屏技术

在用PVA-发光粉泥浆技术涂制电视显象管的发光屏中PVA(AD)树脂的光反应是将发光粉粘结在底板上的关键环节。包有树脂的这些颗粒组成有最佳颗粒层数的发光屏(例如,1.4层)。在发光颗粒表面散射的紫外光只有当PVA-发光粉泥浆的pH值被调到7附近时才可能到达发光颗粒层的底面。在底板上被散射紫外光的强度决定于颗粒的光学不均匀性,而这个不规则性对球形颗粒是最大。紫外光的强度及其光程断面和高质量的发光粉是制备优良发光屏的保证。     

计算机单缝衍射光强分布曲线的拟合

先将单缝衍射光强分布的实验数据用五点三次平滑处理,以减少误差。再用牛顿插值求出光强分布公式中的单缝宽度。从而用计算机得出拟合曲线。     

关于由衍射片的背面反射光形成的衍射图样的讨论

在光的衍射实验中,我们看到的一般是由通过衍射片的直射光形成的衍射图样,但在衍射片的另一面,同样存在着另一个衍射图样,它是由衍射片的背面反射光形成的,两个衍射图样关于衍射片对称.本文给出了这种实验现象,并用巴比涅原理解释了这种现象.     

阴极射线荧光粉经高激发密度灼伤后发光效率的研究

近年来发光材料在应用中所处激发密度越来越高,在使用中往往造成荧光粉的饱和和灼伤.本文研究高清晰投影电视管用绿色荧光粉ZnSiO4Mn和YAGGTb在高激发密度阴极射线束灼伤后影响发光效率的主要环节,发现ZnSiO4Mn的表面深层处材料的吸收和传递机制受到损伤,而YAGGTb的发光中心受到损伤,出现饱和.