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D C Weisser N R Lobanov P A Hausladen L K Fifield H J Wallace S G Tims E G Apushkinsky 《Pramana》2002,59(6):997-1006
The beam optics of a multi-sample sputter ion source, based on the NEC MCSNICS, has been modified to accommodate cathode voltages
higher than 5 kV and dispenses with the nominal extractor. The cathode voltage in Cs sputter sources plays the role of the
classical extractor accomplishing the acceleration of beam particles from eV to keV energy, minimizing space charge effects
and interactions between the beam and residual gas. The higher the cathode voltage, the smaller are these contributions to
the emittance growth. The higher cathode voltage also raises the Child’s law limit on the Cs current resulting in substantially
increased output. The incidental focusing role of the extractor is reallocated to a deceleration Einzel lens and the velocity
change needed to match to the pre-acceleration tube goes to a new electrode at the tube entrance. All electrodes are large
enough to ensure that the beam fills less than 30% of the aperture to minimize aberrations. The improvements are applicable
to sputter sources generally. 相似文献
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The beam optics of the 6 MV folded tandem ion accelerator, that has recently been commissioned at Bhabha Atomic Research Centre,
Mumbai, is presented. Typical beam trajectories for proton and 12C beams under different conditions, are shown. The constraints on the design due to the use of the infrastructure of the Van
de Graaff accelerator, which existed earlier, are discussed. 相似文献
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带电粒子在轴对称磁场中一边沿着对称轴向前运动,一边绕对称轴旋转。所以横向运动可以分解为两部分:聚焦运动和子午面的旋转。因此,4维横向传输矩阵可以表示为聚焦矩阵和旋转矩阵的乘积。用旋转矩阵和聚焦矩阵重新推导了总的传输矩阵。然后给出了相应的相椭圆系数矩阵来进一步估算从ECR离子源引出束流的发射度.详细地讨论了束流分布函数的二次矩。 相似文献
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用离子束溅射方法制备的钛薄膜表面形貌分析 总被引:7,自引:4,他引:7
用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量,通过数值相关运算,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度对薄膜样品表面进行定量描述。利用自仿射分形表面的相关函数对数值运算的结果进行拟合,得出Ti薄膜生长界面的粗糙度指数α=0.72,相应的分形维数Df=2.28,并由此得到在离子束溅射工艺下Ti薄膜屑于守恒生长的结论,其生长动力学过程可用Kuramoto—Sivashinsky方程来描述。 相似文献
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离子束溅射沉积不同厚度铜膜的光学常数研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用Lambda-900分光光度计对离子束溅射沉积不同厚度Cu膜测定的反射率和透射率,运用哈德雷方程,并考虑基片后表面的影响,对离子束溅射沉积的Cu膜光学常数进行了计算。结果表明,在同一波长情况下,膜厚小于100 nm的纳米Cu膜光学常数随膜厚变化明显;膜厚大于100 nm后,Cu膜的光学常数趋于一定值。Cu膜不连续时的光学常数与连续膜时的光学常数随波长变化规律不同;不同厚度的连续膜的光学常数随波长变化规律相同,但大小随膜厚变化而变化。 相似文献
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在中国工程物理研究院流体物理研究所自行研制的负氢潘宁型离子源上进行负氢束流引出测量实验,采用单电极、双电极、三电极束流引出测量方法进行初步束流引出测量,束流强度的实验测量结果远远高于空间限制流的理论计算值。因此,提出一种电屏蔽盒的直流束流引出测量方法。阐述了电屏蔽盒直流束流引出测量的基本方法、束流轨迹的CST数值模拟以及束流引出测量实验结果。研究表明:引出电压为2 kV,引出间隙为3 mm,磁感应强度为0.435 T时,得到较为精确的负氢束流引出强度约100 A。通过空间电荷限制流的V3/2定律进行拟合,推算得到引出电压为40 kV时,负氢束流强度约达到4 mA。 相似文献
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借助于原子力显微镜研究了离子束溅射沉积工艺中入射离子能量对制备的Ti薄膜表面形貌的影响。对薄膜表面高度数据进行相关运算,发现在此工艺条件下制备的薄膜具有典型的分形特征,利用分形表面高度—高度相关函数的唯象表达形式对不同能量下制备Ti薄膜表面的高度相关函数进行拟合。得到了薄膜表面的分形维数、水平相关长度、标准偏差粗糙度等参量。研究发现,入射Ar离子能量在300—700eV之间薄膜表面的粗糙度随着沉积粒子的能量增加而增大,分形维数随着入射离子能量的增加而减少。另外,在得到的分形维数基础上对不同溅射电压下Ti薄膜的生长机制进行了初步研究。 相似文献
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The line width of a tunable optical filter based on free-space optics was analyzed. The relationship between the line width and the Gaussian beam waist was theoretically derived and experimentally verified. The experimental results meet the theoretical analysis well, which is beneficial for the design of a tunable optical filter based on free-space optics. 相似文献
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中国原子能科学研究院于1994年研究建成我国第一台医用强流回旋加速器CYCIAE-30及配套放射性同位素生产线, 目前为了增加气体靶以生产新品种医用同位素, 在原有束流输运线的基础上开展了束流输运系统的升级改造方案设计, 包括束流线的总体布局考虑和光学设计, 并根据束流光学设计的结果, 进行了新增束流线上电磁元件的设计. 在物理设计的基础上, 还进行了施工设计以及各分系统的加工、调试、安装, 并以物理设计得到的参数为依据进行了束流调试, 靶上得到的束斑与理论值有较好的符合, 满足设计要求. 相似文献
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衍射理论对局域空心光束及无衍射光束重建的描述 总被引:8,自引:5,他引:8
利用衍射理论导出了局域空心光束的传输表达式及光强分布,给出了局域空心光束的精细结构,详细分析了其演变过程。讨论了聚焦透镜的焦距f对径向暗域最大尺寸及轴上暗域长度的影响。结果表明,径向暗域最大尺寸及轴上暗域长度都随着f的增大而增大。通过轴棱锥-透镜系统获得局域空心光束,用体视显微镜和CCD照相机组成的系统拍摄光束强度分布。结果表明应用衍射理论可以较精确地描述局域空心光束的演变过程。找出了其应用中的不利因素,更清晰地展现无衍射光束的重建现象。这种描述方法弥补了几何理论和干涉理论的不足。 相似文献
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分子光学及其应用前景 总被引:1,自引:0,他引:1
随着原子光学的快速发展,一门新兴的有关研究中性分子与电场、磁场和光场等物质相互作用及其冷却、囚禁、操控与应用的学科——“分子光学”正在逐步形成.文章首先就分子光学的学术内涵及其研究内容作一简单类比与讨论;其次,就冷分子束的产生与超冷分子样品的实验制备、超冷分子物理与光谱学、非线性与量子分子光学的研究及其最新进展进行简要综述.最后,就分子光学的应用前景进行了展望. 相似文献