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相似文献
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1.
单晶硅表面微结构对晶体硅光电转换性能有非常重要的影响, 晶体硅表面微结构的调节技术一直是半导体、 太阳能电池领域研究的热点之一.利用碱液与单晶硅异向腐蚀特性的刻蚀技术, 在单晶硅表面可以获得布满金字塔的绒面, 但普通碱液刻蚀的绒面, 其金字塔大小、 形貌和分布随机性大, 不利于提高硅太阳电池的转换效率.在普通的碱腐蚀液中加入不同量的特种添加剂, 然后在相同的温度、 时间下刻蚀单晶硅表面, 通过观察样品表面SEM图, 发现在普通碱液中加入适量添加剂后刻蚀的单晶硅表面能形成均匀密集分布金字塔, 金字塔大小在2—4μupm 之间, 棱边圆滑, 表面金字塔覆盖率高; 用积分反射仪测量了样品的反射率曲线, 发现样品平均反射率下降到12.51%.实验结果表明, 在普通碱液中加入特种添加剂, 能控制单晶硅表面金字塔的大小和分布.  相似文献   

2.
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2 mL的刻蚀液中,经过10 min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区|刻蚀15 min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小|刻蚀20 min硅片表面形成平均尺寸为2~4 μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高|刻蚀25 min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.  相似文献   

3.
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2 mL的刻蚀液中,经过10 min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15 min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20 min硅片表面形成平均尺寸...  相似文献   

4.
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.  相似文献   

5.
单晶硅表面均匀小尺寸金字塔制备及其特性研究   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
表面织构是一种通过有效的光俘获增加短路电流从而提高太阳电池效率的主要途径之一.在加入间隙式超声和NaClO添加剂的碱性四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液中对单晶硅表面进行织构化处理,研究超声与NaClO在织构过程中对金字塔成核和生长的影响,以及金字塔大小对高温工艺之后的单晶硅少子寿命的影响.研究表明,通过在织构溶液中加入间隙式超声控制气泡停留在硅片表面的时间和脱离硅片表面速度,增强了小尺寸金字塔的均匀分布.织构之后硅片在AM1.5G光谱下的加权平均反射率能够达到12.4%,在高温扩散和氧化之后少子寿命的大小与金字塔大小之间存在近似于指数衰减函数的关系. 关键词: 表面织构化 反射率 少子寿命 单晶硅太阳电池  相似文献   

6.
多晶硅不同晶面陷阱坑形貌与陷光效应的关系   总被引:1,自引:0,他引:1  
提出了多晶硅表面陷阱坑内表面高次绒面的陷光模型。利用测不准原理,分析了光子散射方向与绒面上凸点大小的关系,利用光学傅里叶变换推导了光子逃逸陷阱坑概率与绒面陷阱坑形貌的关系。理论分析结果表明内表面布满凹凸点的U字形陷阱坑反射率比V字形的低;而内表面光滑的U字形陷阱坑的反射率比V字形的高。利用扫描电子显微镜拍摄了碱液刻蚀的多晶硅样品表面图像,分析了碱液刻蚀的不同晶面陷阱坑的形貌。[100]晶面呈峡谷状的陷阱坑,[111]晶面呈扭曲的U字形凹坑,[110]晶面则显示混合结构。实验测量了样品不同晶面的反射率曲线,证实了U字形陷阱坑的绒面具有相对低的反射率,与理论分析结果基本吻合。  相似文献   

7.
钱勇  冯仕猛 《光学学报》2012,32(2):224001-306
利用光学傅里叶变换研究多晶硅绒面微结构形貌与反射率之间的关系。理论分析表明:多晶硅绒面反射率与表面微结构形貌、单位面积上陷阱坑数量有关。如绒面由V字型槽或坑构成,则绒面反射率比较高;如多晶硅表面上密集布满U字形坑或槽、内表面绒面化,这种结构构成的绒面反射率低。实验上用不同比例的酸液刻蚀多晶体表面,用扫描电镜(SEM)观察多晶硅表面SEM图,测量了其表面反射率,分析表面结构形貌与反射率的关系。实验结果与理论分析相吻合。  相似文献   

8.
晶体硅太阳电池表面纳米线阵列减反射特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
梁磊  徐琴芳  忽满利  孙浩  向光华  周利斌 《物理学报》2013,62(3):37301-037301
为增强晶体硅太阳电池的光利用率, 提高光电转换效率, 研究了硅纳米线阵列的光学散射性质. 运用严格耦合波理论对硅纳米线阵列在310—1127 nm波段的反射率进行了模拟计算, 用田口方法对硅纳米线阵列的表面传输效率进行了优化. 结果表明, 当硅纳米线阵列的周期为50 nm, 占空比为0.6, 高度约1000 nm时减反射效果最佳; 该结构在上述波段的平均反射率约为2%, 且在较大入射角度范围保持不变. 采用金属催化化学腐蚀法, 于室温、室压条件下在单晶硅表面制备周期为60 nm,占空比为0.53, 高度为500 nm的硅纳米线阵列结构, 其反射率的实验测试结果与计算模拟值相符, 在上述波段的平均反射率为4%—5%, 相对于单晶硅35%左右的反射率, 减反射效果明显. 这种减反射微结构能够在降低太阳电池成本的同时有效减小单晶硅表面的光反射损失, 提高光电转换效率.  相似文献   

9.
吴以治  许小亮 《物理学报》2017,66(9):96801-096801
光伏器件粉尘堆积伴随的遮光效应极其严重,可导致太阳能电池的光电转换效率降低一半以上,这是任何其他提高光伏器件性能的高新技术所不能弥补的.本文根据Cassie-Baxter理论构建出一种基于光伏器件应用的超疏水自清洁微纳复合结构,即氧化锌纳米线耦合硅金字塔.通过调控硅金字塔的尺寸和均匀性,使其尺寸效应不被遮盖以符合存在微米构型的疏水要求,同时尽量不破坏硅光伏器件绒面的减反性能.本文采用水热法在金字塔表面生长氧化锌纳米线的方案,通过系统的实验设计,首次成功地制备了符合光伏器件应用的接触角高达154?,且接触角滞后小于10?的超疏水自清洁微纳复合结构.此外,我们不仅发现硅金字塔的刻蚀存在"高温促进硅金字塔刻蚀"的温度效应和硅金字塔顶部有"圆润-方正-圆润"的时间效应,还从物理上对高温促进刻蚀、晶体的各向异性刻蚀导致的硅金字塔和我们所制备的氧化锌纳米线耦合硅金字塔复合结构的陷光效应等进行了比较充分的分析.  相似文献   

10.
波长上转换红外探测器具有实现大面阵焦平面的优势, 但光提取效率是制约器件整体效率的关键因素之一. 本文主要研究利用表面微结构来提高波长上转换红外探测器的效率. 首先通过仿真计算研究了表面微结构参数对光提取效率的影响, 然后基于优化设计的参数, 采用聚苯乙烯纳米球掩膜刻蚀的方法制作了具有圆台型表面微结构的波长上转换红外探测器. 测试结果表明, 具有表面微结构的器件的光提取效率比无表面微结构的器件提高了130%. 本文制作表面微结构的方法可以实现波长上转换红外探测器件整体效率的提高.  相似文献   

11.
基于Matlab分析负荷对多联机IPLV的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
多联机有其特殊的优点,但是不同部分负荷的组合对IPLV的影响仍需进一步研究。文中建立IPLV与部分负荷的相关公式,运用MATLAB软件分析不同卸载级负荷与IPLV的关系,从而确定不同部分负荷的最优组合。  相似文献   

12.
The possible influence of the gravitation on the solidification of the binary systems in the framework of the stochastic theory is discussed. The considerations are based on the change of the kinetic parameters of the phase transformation with the change of the concentration of clusters in the melt.  相似文献   

13.
关于工件振动对激光扫描在线检测精度影响的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
乔宏 《光学技术》2000,26(2):150-152
根据激光扫描在线检测的特点 ,在理论上对JSY 1型激光扫描尺寸自动检测仪的平均扫描速度和扫描角进行了分析和计算。通过一些实例 ,探讨了工件振动与扫描检测之间的关系。结果表明 :工件振动对激光扫描检测精度的影响很小 ,调整激光扫描完全适用于工件的非接触在线尺寸检测  相似文献   

14.
基于B样条迭代法的激光光条噪声去除技术研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
在基于线结构光的视觉测量系统中,激光光条中心的提取精度是影响系统最后精度的关键因素。目前常用的光条中心提取方法都没有去除光条上的干扰噪声,在分析现有方法的基础上提出了一种利用B样条迭代去除光条噪声的方法。以光条上的点作为控制顶点拟合B样条曲线,在同一位置下用B样条曲线上的点取代噪声点,这样反复修改噪声点的位置使其逐渐逼近实际曲线,从而达到去除噪声的目的。利用重心法提取去噪后光条的中心,着重分析了参与运算的像素的取值范围。通过对比实验证明该方法的提取精度远高于其它方法,从而验证了去除噪声的有效性。  相似文献   

15.
在不同风机频率及导流罩进出风口弧度半径下对冷风机进行实验测试,得出不同进出风口导流罩弧度半径对冷风机风量及迎风面均匀性的影响规律。结果表明:导流罩进风口更换为弧度半径R_(a,i)为0.1圆弧接口,不同频率下风机风量的提升幅度均10%,且在R_(a,i)为0.3时冷风机的风量达到最大,增幅均13%;迎风面的风速标准偏差随导流罩进风口弧度半径的增大而减小;导流罩出风口弧度半径R_(a,o)为0.4时冷风机的风量达到最大,整体增幅约8%,略低于进风口弧度半径对冷风机风量的影响;在导流罩出风口弧度半径R_(a,o)为0.4时,冷风机迎风面风速均匀性达到最佳。因此,增加导流罩进出风口弧度半径可不同程度增加冷风机风量,提高风速均匀性,改善冷风机性能。  相似文献   

16.
通过对不同厚度壳体的速度和动能进行理论分析,给出了壳体对燃料抛撒的影响规律;同时开展了不同厚度壳体的云爆装置试验,得到了装置威力与壳体厚度的关系.研究结果表明:采用薄壳体,并加强壳体与端盖的连接强度,可以提高中心抛撒药能量的利用率,进而提高一次起爆型燃料空气弹(SEFAE)的威力,试验结果与理论分析结果一致.  相似文献   

17.
光合细菌的抗氧化作用机理探讨   总被引:11,自引:0,他引:11  
俞吉安  张承康  陈峰  王斐 《发光学报》2000,21(3):219-223
活性光合细菌1号株的培养离心得到菌体和上清液两个组分。这两种组分在两个重要离体系统中{牛血清蛋白-亚麻油酸 -Fe^2 (Ⅰ系统)和脑组织匀浆-Fe^2 (Ⅱ系统)}具有明显抗指质过氧化作用。止清液作用较弱,在两个系统中其抑制作用为10.2%-13.4%。而在Ⅰ系统中菌体浓度为5mg/L时,抑制率为56.9%,在Ⅱ系统中菌体浓度仅5ug/L时,抑制率就达到74.1%。进一步研究表明:在碱性条件下,连苯三酚会产生超氧队离子,并由它引发连锁反应而发生氧化。自由氧化进程曲线的斜率K值代表了它自氧化速率的大小。在空白对照情况下K1值为1.33,而添加菌体悬液达250mg/L,K5值下降至0.47,说明光合细菌有显著抑制连苯三酚自氧化作用,其原因是光合细菌中有效成分对超氧阴离子有很好的猝灭作用。  相似文献   

18.
Ge掺杂对InI导电性能影响的第一性原理研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
王永贞  徐朝鹏  张文秀  张欣  王倩  张磊 《物理学报》2014,63(23):237101-237101
采用密度泛函理论框架下的第一性原理平面波超软赝势方法,在相同环境条件下对不同浓度Ge掺杂的In I导电性能进行了研究.建立了由不同浓度的Ge原子替代In原子的In1-x Ge x I(x=0,0.125,0.25)模型.对低温下高掺杂Ge原子的In1-x Ge x I半导体的优化参数、总态密度、能带结构进行了计算.结果表明:Ge的掺入使In1-x Ge x I材料的体积减小,总能量升高,稳定性降低;Ge原子浓度越大,进入导带的相对电子数量越多,In1-x Ge x I电子迁移率减小,电阻率增大,同时最小光学带隙也增大,有利于改善体系的核探测性能.  相似文献   

19.
20.
We obtain the solution to the problem of the skin effect in a metal with specular-diffusion boundary conditions for arbitrary values of the anomaly parameter in the form of the Neumann series. For this purpose, we develop a method based on the idea of representation of not only the boundary condition imposed on the field (as is conventionally done), but also the boundary condition imposed on the distribution function, in the form of a source. The specular reflectance is an arbitrary function of the angle of incidence of electrons on the metal surface.  相似文献   

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