全息凹面光栅

一、机械刻划光栅与全息记录光栅机械刻划光栅已有１５０年以上的历史,它是用金刚刀在镀金属膜的玻璃基片上刻划出一系列平行而等间距的槽线,由于机械的周期性误差和不规则震动带来了罗兰鬼线和赖曼鬼线,虽经激光干涉控制槽距,鬼线可压缩至豆１０－４－１０－６数量级,但杂散光仍相当可观,加以工艺条件十分苛刻,生产效率低,以致光栅生产数量和质量不能满足需要,自激光出现后,法国首先用激光干涉条纹记录在感光材料上?...     

全息凹面光栅单色仪

此种单色仪专配焦比约为F/3的全息凹面光栅。在机械结构简单的前提下,设计了一种新光路,使其聚焦精度尽可能地提高。设计的基本思想是在濑谷-布岗(Seya-Namioka)和Johnson装置的基础上另选转轴的位置,并选用两个标准波长来校正光谱,这类似于三点统调法。所得结果比濑谷-布岗装置和Johnson装置都有改善。按照这种设计装架了JS-II型凹面光栅单色仪。仪器可在波长为2500?至10000?范围内工作,在3500?至6500?范围内,由于聚焦偏离而引起的分辨率损失不超过1?。 关键词：     

全息光栅制作新发现

介绍了全息光栅制作过程中的问题及解决方法,并从实验的角度揭示了马赫-曾特尔全息干涉光路图的局限性,为制作高频全息光栅提供新的思路.     

多级衍射全息光栅

提出用Mach-Zehnder 干涉仪两步记录制作具有多级衍射的全息光栅方法。详细描述这种方法的原理,并提供了光栅样品的傅里叶谱及用这种多级衍射光栅实现图像多重的实验结果。     

三维全息和全息光栅的模压复制技术

<正> 一、引言全息图和全息光学元件的模压复制是国际上七十年代末发展起来的一项新技术。它成功地解决了全息照片的大批量生产问题,是实现全息图商品生产,开辟新的应用领域的关键技术之一,模压全息图的制作可分为三个阶段,即原版全息图的记录、铸金属模板和模压复制。二、原版全息图的记录记录原版全息图是模压复制技术的重要环     

二次全息法复制全息光栅柱面镜

本文叙述了用二次全息复制全息光栅柱面镜的方法。     

高质量全息光栅的制作

全息光栅由感光版记录高斯光束干涉条纹制得 ,干涉条纹的不等宽性降低了光栅品质。制取高质量全息光栅的关键是要用均匀平面波作光源。在分析干涉区内光强分布的基础上 ,给出了制作等周期正弦全息光栅的两种方法 :限制曝光区大小的方法和高斯光束强度均匀化的方法。     

全息凹面光栅的优化设计

分析全息凹面光栅的像差,提出全息凹面光栅的优化设计方法。     

全息离子束刻蚀衍射光栅

全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点．全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软x射线衍射光栅的制作．文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型、研究现状和应用进行了综述．     

凹面全息光栅单色仪设计

提出了单色仪在光纤传感系统中的应用,通过分析Ⅳ型凹面全息光栅的光程函数、像差校正原理和像差校正效果,以光栅为分光元件,设计了一种小型凹面光栅单色仪。单色仪使用自聚焦透镜作为入射狭缝和准直元件,PIN光电二极管作为接收元件,使用步进电机带动凹面光栅旋转扫描光谱。LabVIEW程序控制数据采集卡的数字输出,并显示采集到的光谱。单色仪结构简单、价格低廉,通过实验实现了对单色光的检测。     

全息光栅复制技术的研究

介绍全息光栅的复制原理和复制工艺,并运用复制工艺新技术生产全息光栅。与全息照相法相比,具有成本低、合格率高等优点。     

Seya-Namioka单色仪中全息光栅设计

本文着重讨论如何应用光程函数理论来确定IV型光栅的记录参数和工作参数,并给出设计实例。     

一步法设计单色仪凹面全息光栅

凹面全息光栅是光谱分析仪器的核心器件之一,其成像质量直接决定了光谱分析仪器的分辨本领。利用光程函数理论设计凹面全息光栅是一个繁琐的求解非线性方程组的过程,该过程分两步进行,每步需要求解四个非线性方程。分两步求解不但过程麻烦,还不可避免地引入了取舍误差,降低了最优参数的精度。为了解决该问题,本文提出了一种设计单色仪凹面全息光栅的新方法——一步法,该方法不但可以简化求解过程、降低最优参数的误差,还可以方便地控制整体像差的变化趋势。采用有较强全局搜索能力的遗传算法求解该方法中非线性方程的极值问题,并与传统的方法对比验证了该方法的可行性和正确性,结果表明,一步法不但在方法上比两步法简便,其设计结果还优于两步法。     

全息光栅复制工艺的研究

本文叙述了全息光栅的复制原理和金息光栅的复制工艺。同时介绍了金息母光栅所用材料,镀膜机的清洗和分离器具的结构。     

全息光栅的制作和应用

光栅是由大量等宽、等间距的平行狭缝组成的光学器件.它是一种重要的分光元件,过去制作光栅都是用刻线机刻划一个母光栅然后进行复制.     

高质量全息光栅实验系统研究

基于全息光栅在信息光学及光谱仪中的重要地位,对全息光栅进行了理论分析,提出了一种新的制作高质量全息光栅的实验系统.该实验系统的优点在于:将激光器发出的高斯光束改造成为均匀平面光波,以此平面光波作为光源可以制作出高质量的全息光栅.     

数字平面全息光栅实验研究

通过数字全息实验平台,制作平面全息光栅,利用高精度CMOS相机记录两束平行光的干涉,改变两平行光束的夹角和光斑相对方向,观测干涉条纹的疏密变化和方向变化,加深学生对光的干涉的理解,训练学生基本光路的搭建与调整。     

利用迈克尔逊干涉仪制备全息光栅

利用迈克尔逊干涉仪上调节出的等厚干涉条纹,将全息干版放置在观察屏处曝光,经过处理后得到全息光栅,利用分光计测出光栅常数.     

扫描平场全息凹面光栅

从全息凹面光栅像差理论出发,考虑到扫描平场光谱仪的结构特点,推广全息凹面光栅优化设计的基本方程使之适用于扫描平场全息凹面光栅(SFHCG),且用在光栅扫描角范围内和在谱面上取点求和来代替复杂的积分运算,简化设计程序。给出一消像散SFHCG的设计实例和用这块光栅所做的实验结果。     

全息光栅掩模应力控制研究

通过干涉法并应用Stoney公式计算的结果，对SiO2基底上光刻胶薄膜的应力进行了研究。采用干涉显微镜在同一样品、不同直径上多点测量的方法，初步得出光刻胶薄膜膜厚均匀性的分布规律。发现在匀胶转速相同的前提下，光刻胶薄膜应力值随加速度的降低而减小，光刻胶薄膜的均匀性随加速度的增加而变好。在4000rpm的低转速时，光刻胶薄膜样品的膜厚均匀性好。因此，在全息光栅匀胶工艺中，要选择适当的转速的加速度，以得到应力较小和均匀性较好的光刻胶薄膜。