用复合监控法镀制的TEA CO2激光器增透膜

比较了光学薄膜淀积过程中的晶振监控和光学监控各自的优缺点,提出了一种有效利用这两种监控方法各自优点的复合监控方法,利用该复合监控方法采用离子辅助镀工艺镀制的TEA CO2激光器增透膜,其透射率高于99.5%,且具有良好的稳定性和重复性.     

特凸光学零件镀增透膜

<正> 特凸光学零件的镀膜是一个难题,我们在工作中遇到这样一个零件,其直径为7毫米.凸面的曲率半径为3.5毫米,另一面为平面,零件厚度为4.5毫米,形状如图1所示。透镜材料为锗。在凸表面上需要镀硫化锌增透膜,增透波段为2.2～2.8μ,整个凸球面几乎均为有效表面。这样的零件镀膜时存在三个问题;首先,要保证膜层厚度的均匀性;其次,零件不能直接在膜厚监控仪上用控制光束进行膜厚监控,如果用平面锗片代替,则差别太大;第三,零件如何装夹。     

LBO晶体上1 064，532 nm倍频增透膜的镀制及性能分析

 用电子束蒸发沉积方法在X切LBO（X-LBO）晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532 nm倍频增透膜，其中一种膜系结构为基底/ZrO₂/Y₂O₃/Al₂O₃/SiO₂/空气，另一种为基底/0.5Al₂O₃/ZrO₂/Y₂O₃/Al₂O₃/SiO₂/空气，两种膜系结构的主要差别在于有无氧化铝过渡层。测量了薄膜的反射率光谱曲线，发现两种增透膜在1 064和532 nm处的反射率均小于0.5％，实际镀制结果与理论设计曲线的差异主要是由材料折射率的变化引起的。且对样品在空气环境中进行了温度为473 K的退火处理，结果发现两种膜系结构均表现了较优异的光学性能，氧化铝过渡层的加入使薄膜具有强的热应力性能。     

LBO晶体上1 064，532 nm倍频增透膜的镀制及性能分析

用电子束蒸发沉积方法在X切LBO（X-LBO）晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532 nm倍频增透膜,其中一种膜系结构为基底/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,另一种为基底/0.5Al2O3/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,两种膜系结构的主要差别在于有无氧化铝过渡层。测量了薄膜的反射率光谱曲线,发现两种增透膜在1 064和532 nm处的反射率均小于0.5％,实际镀制结果与理论设计曲线的差异主要是由材料折射率的变化引起的。且对样品在空气环境中进行了温度为473 K的退火处理,结果发现两种膜系结构均表现了较优异的光学性能,氧化铝过渡层的加入使薄膜具有强的热应力性能。     

980nm单模运转未镀增透膜光纤光栅激光器

提出了一种工艺简单的980nm未镀增透膜的光纤光栅外腔半导体激光器。首先从理论上分析了边模抑制比(SMSR)与激光二极管前表面反射率R2、外腔长Lext和激光二极管一光纤耦合效率之间的关系,得出边模抑制比随R2和Lext的增大而减小,而随着激光二极管一光纤的耦合效率的提高而增大。从计算结果中还可以看出,即使半导体激光器不镀增透膜(R2=0．3时)。在其它参量合适的情况下,边模抑制比仍可大于40dB。然后,对其进行实验验证。在半导体激光器未镀模的情况下,选择光纤光栅发射率为0．5,外腔长为12．5cm,输人电流为28．8mA(约为阈值电流的2．4倍)时,通过仔细调节恒温、恒流电路,实现了边模抑制比高于40dB的稳定的单纵模输出,外腔激光器的线宽优于1．6MHz。     

红外高效增透膜镀类金刚石膜的特性研究

外层为氟化物的红外高效膜、膜层软、易吸潮和氧化.本文提出使用类金刚石膜做红外高效膜的保护膜,讨论了镀制类金刚石膜后,镀膜件光谱特性的变化情况.     

比较2种溅射方法镀制的氧化硅薄膜

比较了磁控反应溅射(RMS)法与离子束反应溅射(RIBS)法沉积得到的氧化硅薄膜的光学特性,并确定了其对折射率n、消光系数k、沉积速率和混合工作气体Ar/O2中氧含量的依赖性关系。工作气体中O2含量大于15%时通过RMS法沉积的氧化硅薄膜在0.63μm波长折射率约为1.52~1.55,消光系数低于10-5。当O2含量在80%以上时RIBS方法沉积氧化硅薄膜的折射率n=1.52~1.6,消光系数低于10-5。用RMS沉积SiO2薄膜,当氧气量超过15%时发生反应模式,此时沉积速率下降近5倍。而用RIBS时,沉积速率并不依赖氧气在混合工作气体中的含量。     

用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm～1.1μm超宽带增透膜

对0.4μm~1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。     

镀有增透膜的多层衍射光学元件的优化设计方法

基于等效介质理论和多层衍射元件的本体相位延迟,考虑增透膜相位调制的影响,对多层衍射光学元件的表面微结构参数进行优化;采用优化设计方法分析应用于可见光波段镀有增透膜的多层衍射光学元件。结果表明:优化设计方法在保证增透膜物理作用的前提下,实现了在设计波长处的衍射效率为100%以及在宽波段内具有高多色光积分衍射效率;该方法弥补了传统多层衍射光学元件的设计缺陷,完善了多层衍射光学元件的设计理论,为混合成像系统的设计提供了参考。     

大功率CO_2连续激光镀制超导铅膜研究

设计与安装了光学元件免受蒸发源污染的CO_2连续激光镀膜装置,并用它镀制了超导铅膜。所制铅膜与常规热蒸镀铝膜性能的比较表明,激光镀膜法能得到污染少而结晶性更好的超导铅薄膜。     

用共溅射法镀制光学薄膜

光学薄膜设计技术的发展越来越需要具有各种折射率的光学材料,同时也非常需要具有预定折射率分布的非均匀薄膜。为满足上述需要,目前可采用下列几种方法: (a)用两个或多个精细控制的热源同时进行蒸发; (b)用单个热源蒸发混合物; (c)交错淀积两种不同材料的薄膜; (d)控制氧化条件,反应淀积SiO_x薄膜。然而,所有这些方法或者是需要复杂的设备和精细的镀制技术,或者是不易获得重复性良好的薄膜,或者是不能在多块基片上同时镀制,因而都还处于实验室研究的阶段。例如,图1所示的,用四个热源进行同时蒸发的装置就需     

波长渐变滤光片的镀制

采用常规的真空蒸发镀膜技术,利用自行设计制作的膜厚修正挡板机构,分别在1cm×3cm的条形K9玻璃基底和Si基底上镀制出了波长渐变滤光片。滤光片的波段范围从可见光区直至中红外区。阐述了波长渐变滤光片的镀制工艺及其结果,分析了在实际镀制中膜厚偏差产生的原因,提出了修正系统偏差的可行性方法。     

用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0．4μm-1．1μm超宽带增透膜

对0．4μm-1．1μm超宽带增透膜的镀制工范进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究，结合国产设备的实际情况，在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素；最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0．4μm-1．1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层，结构为：│玻璃│H│M│H│M│H│M│H│L│空气│。制作工艺方便简单、稳定，制做的膜层具有较好的光谱和机械性能，满足光电仪器实际使用要求。     

紫外光学薄膜的镀制结果

介绍使镀膜设备具有镀紫外光学薄膜功能进行的技术改造，给出几种紫外光学薄膜的镀制结果。     

双层变折射率膜的镀制

为满足宽带增透膜的要求,我们选用La_2O_3-MgF_2膜系,因为La_2O_3具有以下特点:1.易蒸发,用钨舟而不用电子枪;2.机械强度好;3.可见区吸收少;4.折射率随La_2O_3含氧量的不同而变化。实际蒸发的La_2O_3-MgF_2双层膜系透过本领较好,彩色还原较为理想。根据含氧量的不同,La_2O_3的折射率可在1.86～1.95的范围内变化。采用La_2O_3作内     

单层增透膜的反射光强问题

推导出单层透明薄膜干涉的反射光强公式,由此公式得到光强为零的条件．     

大口径氟化镁(MgF_2)平面镜的加工

<正> 3～5μ波段大口径红外材料氟化镁平面镜的加工是比较困难的。我们没有这方面的工艺资料。经走访有关单位和查阅有关资料,结合实际情况,我们进行了实验性加工。以下是我们的一点体会。一、对零件要求N=5,△R=0.5,B=? θ=l′,△R=B,φ_效208     

真空方法镀制49号双防保护膜

光学仪器在使用和贮存过程中,要受到霉雾等自然环境因素的危害。多年来国内外光学仪器研究工作者对这个问题极为重视。工作作者们研究了许多方法,探索了许多三防性能较好的新材料。目前,据了解,国外研究较多的一种是真空镀膜(又以等离子体聚合和溅射占优势。)美国等西方国家用得较多;二是离心镀膜法,主要苏联用。     

特宽光谱分光膜的镀制

设计了550～1100nm波段高透、8000～12000nm波段高反的特宽光谱分光膜膜系，即采用｜ZnS｜Ag｜ZnS｜基本膜系结构，外加保护膜，并用该膜系镀制出了透可见、近红外波段，反中远红外波段的平面分光镜。实际使用表明，该膜系效果较好。     

不等厚薄膜的应用和镀制

在光学零件表面镀制特殊要求的不等厚薄膜可使其面形满足特定的函数关系,这对改善光学系统的成象质量具有重要的意义。因此,不等厚薄膜技术颇有实用价值。本文着重介绍使用真空蒸镀工艺获得不等厚薄膜所采用的遮板切口形状的设计方法,作为特例,叙述了航空摄影机光学系统照度补偿板——滤光玻璃不等厚透射膜的制作工艺和测试方法。使用真空蒸镀工艺获得不等厚薄膜,实质上就是有效地控制被镀表面各处所接收的蒸发物质分子的流量。为此,被镀表面与蒸发源之间应置一具有特殊形状切口的遮板,而切口形状与所要求的不等厚薄膜的面形函数相对应。所以,切口形状的设计