扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

在综合研究已有的各种复合物镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上,本文对复合物镜的一般理论进行了探讨,推导了普遍化计算公式,并提出新的复合物镜(弯曲物镜)系统。采用解析函数近似表示系统场分布,对弯曲物镜系统象差进行了理论分析,并设计出一个实际系统。数值计算结果给出该系统在55mm2扫描场内,束孔径角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,横向色差0.001m。     

变形电子束曝光机成形偏转器的设计和性能

在变形电子束曝光机中,为使曝光均匀必须保证靶上束斑电流密度物边缘分辨率不随束斑形状和尺寸的变化而改变。实现这一目标的关键是正确设计成形偏转器。本文讨论采用高灵敏度平行板偏转器实现成形偏转时,为达到上述目标应进行的线性补偿和旋转补偿的设计计算方法。给出了用实验方法改变电子源象与偏转板几何中心的轴向距离所测得的线性补偿因子和旋转补偿因子的值。实验结果与计算值符合较好。     

DJ-2型可变矩形电子束曝光机电子光学设计

本文讨论可变矩形电子束曝光机的电子光学设计,着重分析光路构成和变形偏转补偿等问题。DJ-2型机使用最少的透镜数实现变形束曝光机的功能要求。为实现高速变形偏转,采用高灵敏度串接式平板静电偏转器,通过精确的线性补偿和旋转补偿,使靶上束斑电流密度和分辨率以及原点位置不受束斑尺寸改变的影响。实验结果表明,用发夹型钨丝阴极时的束流密度大于0.4A/cm2;22mm扫描场内边缘分辨率优于0.2m。     

电子束曝光机扫描场非正交性畸变校正

本文介绍了我校研制的矢量扫描电子束曝光机中，扫描场非正交性畸变的校正情况，该机器的偏转系统为内透镜双磁偏转方式。     

DJ—2可变矩形电子束曝光机

电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。     

电子束直接曝光机简介

电子束直接曝光机简介郑国强（甘肃平凉市电子部第４５研究所，７４４０００）１引言电子束曝光技术是集光、机、电、计算机和超高真空技术为一体的综合性技术，它可以把亚微米工艺的集成电路和器件图形直接光刻在Ｓｉ和ＧａＡｓ等圆片上。电子束直接曝光设备在军事微电子...     

电子束曝光机自动套准系统的研究

本文描述了用于电子束曝光机的芯片自动套准系统，该系统包括：扫描控制器、图象采集子系统、相关位置计算单元和位置与角度修正子系统。利用该系统，完成一次双标记识别及修正的循环需时１１秒；角度最小修正值为０．０１４度，最终实现的套准精度达到３σ≤０．０７μｍ。     

DY—5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型微米电子束曝光机的主要技术性能；最细特征线宽０．４μｍ，图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ＾２和２×２ｍｍ＾２；最高扫描速度１ＭＨｚ，可加工１００×１００ｍｍ＾２掩模版或Х７５硅圆片，给出了部分曝光试验结果。     

电子束曝光机吊装结构工作台的分析研究

本文介绍了电子束曝光机激光定位工作台的一种新型吊装结构。用有限元法分析了吊装结构工作台的静态特性及其对测量系统定位精度的影响,并用散斑摄影法测试了模拟吊装结构工作台的静态变形位移。分析与实验表明吊装结构工作台是实现亚微米定位精度较理想的切实可行的结构方案。     

电子束曝光机图形处理系统

本文针对现有电子束曝光机在图形处理过程中存在的一些问题，提出了以辅配微机来增强原机处理能力的方法。对曝光机的图形处理过程及异机通讯等问题作了较详细的介绍。     

影响电子束曝光机加工微细化的因素

结合实际工作,分析、探讨了影响电子束曝光机加工微细化的因素。这些因素主要有:抗蚀剂材料、电子束本身、电子束曝光机控制线路、器件结构和电子束工艺等。在诸影响因素中,工艺的影响是目前一个较大且较主要的影响因素,其次是背散射电子束的影响,对后者,我们采用辅助曝光方法加以改善,效果良好。但对工艺等的影响因素的改善尚待继续研究、摸索。     

电子束曝光机束闸电路

介绍了一个输出电压为１０４Ｖ，开关时间为３４ｎｓ的电子束曝光机束闸电路。     

电子束曝光机的误差与数据处理

本文综合分析了影响电子束曝光机加工精度的各种误差的来源与类型，误差的影响与估算．以及误差的综合与数据处理。     

提高电子束曝光机分辨率的探讨

某些电子束曝光机光刻出的线条是弯曲的 ,因而影响了机器分辨率的提高 ,本文对此现象做了分析 ,并提出可能产生这种现象的原因。这对于解决上述问题 ,提高电子束曝光机的分辨率具有重要意义。     

亚微米电子束曝光机数控电流源系统

本文介绍了亚微米电子束曝光机电流源系统。该系统在国内首次使用计算机实现了自动化调节,系统内关键部位使用了大量先进器件,多达20路独立可调的电流输出,稳定度均达到2×10~(-5)/1小时。其中对稳定度要求最高的物镜电源,由于首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源系统,形成了一个闭环反馈控制电路,使它达到5×10~(-6)/4小时的稳定度。该系统还具有很强的抗干扰能力,纹波<1×10~(-5)V_(P-P)。这些指标保证了0.1μm束斑的精度要求,它的研制成功为电子束曝光机的自动化调机奠定了基础。