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在应变异质结价带偏移从头算赝势法的理论计算中,建议一种以平均键能为参考能级的△Ev值理论计算方法,该方法在Si为衬底,以Ge为衬底和自由共度生长等3种不同应变情况的Si/Ge异质结价带偏移△Ev值计算中,分别得到0.731eV,0.243eV和0.521eV的计算结果。 相似文献
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采用LMTO能带方法,对两种不同应变状态下(自由形变和以InP为衬底),应变层超晶格(InAs)1(InP)1(001)和与应变层超晶格的分子层相对应的应变体材料,以及无应变的体材料进行了第一原理计算,并采用冻结势方法求出了两种超晶格各分子层的平均键能。结果表明,能存在应变的情况下,异质界面两边的平均键能非常一致,且这种一致性受应变状态的影响很小,因而可以把它用来作为确定应变层超晶格价带边不连续值(△Ev)的普遍适用的参考能级。研究了应变对
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GexSi1—x/Si应变超晶格雪崩光电探测器的分析与优化设计 总被引:1,自引:1,他引:0
对GexSi1-x/Si应变超晶格雪崩光电探测器进行了分析与优化设计,优化结构为:i-Si雪崩区厚是1.8~2μm;p-Si区的掺杂浓度是10^18cm^-3厚为17nm超晶格总厚为340nm,它可探测1.3~1.6μm的红外光。 相似文献
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采用内部求和d轨道处理下的线性丸盒轨道方法,对在GaAs衬底上生长的应变层越晶格(InAs)_n/(GaAs)_n(001),(n=1,2,3,4,5)的电子结构进行了第一性原理计算,得出了其能带结构、带隙值和态密度分布.本文得出的(lnAs)_1(GaAs)_1在布里渊区中各高对称点的能隙值与从头赝势方法的计算结果相一致,得出的带隙值与光致发光实验结果符合得很好.为了确定该系统的价带能量不连续值(△E_(?)),并全面考虑各因素对其的影响,本文提出一种基于自治超原胞计算及其冻结势处理下的形变势方法.该方
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Si基异质结构与应用前景 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了90年代以来SiGe/Si等Si基异质结构材料的优异特性的诱人的应用前景,着重介绍了能带工程为Si基异质结构带来的新特性、新功能。 相似文献
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本文首次在室温和0-2.5GPa静压范围内研究了Znse/Zn0.74Cd0.26Se应变超晶格的静压光致发光,观察到了室温条件下的超晶格阱层的重空穴激子跃迁随压力的亚线性变化的特性.经过计算机拟合实验数据得到了一阶和二阶压力系数.理论计算得到的一阶压力系数与实验得到的压力系数符合得较好. 相似文献
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