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在硅基OLED微显示器中,为了解决很小的像素驱动电流的难题,论文提出了一种像素电路。此像素电路由2个PMOS、2个NMOS、1个存储电容、1个OLED和4根信号线组成。并且利用HSPICE基于TSMC 0.35μm CMOS 5V工艺的参数进行了仿真验证。在此像素电路中,当OLED发光时流过OLED的电流是恒定的,并且通过控制OLED的发光时间来实现不同的灰度。此像素电路完全由数字信号控制,能实现精确的灰度调节。通过6个子场,实现了21级灰度,进而论证了实现64级灰度(0~63)的可能性。当OLED发光时,流过的恒定电流是35.3nA。 相似文献
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硅基OLED微显示中为了在极小的像素面积内实现微小的OLED工作电流,其像素驱动电路的驱动MOS管一般工作在亚阈值区,存在OLED电流对驱动MOS管的阈值电压和栅源电压失配敏感、外围电路复杂等问题,如果驱动MOS管工作在饱和区则可避免这些问题,但为了获得微小的驱动电流,必须采用尺寸大的倒比MOS管,这又与极小的像素面积冲突。本文提出了一种采用脉宽调制(PWM)技术、驱动MOS管工作在饱和区的OLED微显示像素驱动电路,PWM信号减少了一帧内OLED的实际工作时间,OLED的脉冲电流变大,使驱动MOS倒比管的尺寸减小;由于PWM信号占空比小,同时实现了OLED微小的平均像素驱动电流和亮度。结果表明PWM信号占空比为3%时,实现的OLED驱动电流和像素亮度范围分别为27pA~2.635nA、2.19~225.1cd/m~2,同时采用双像素版图共用技术,在15μm×15μm的像素面积内实现了像素驱动电路的版图设计。 相似文献
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OLED(organic light-emitting diode,OLED)微显示器长时间工作在高对比度、高亮度的状态下,OLED像素衰退不一致,发光亮度衰退也不一致,会产生残影现象。因此,提出了一种改进的电流型PWM像素驱动电路,保持了对OLED像素衰退补偿效果,同时可以读出OLED阳极电压,计算得到OLED衰退信息,以便于对OLED亮度衰退进行有效的补偿。文章中分析了改进的电流型PWM驱动电路结构,及其对OLED衰退补偿和亮度补偿的原理。通过模拟仿真,得到几个影响OLED衰退补偿效果的关键参数。当OLED像素衰退电阻Roled小于40 MΩ时,该电流型PWM驱动电路电流衰退度与传统2T1C驱动电路相比,只为其衰退度的50%。 相似文献
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《固体电子学研究与进展》2015,(3)
提出了一种应用于硅基有机发光二极管(Organic light emitting diode,OLED)微显示驱动芯片的新型像素单元电路,具有三个MOSFET和一个存储电容。相比传统的电压驱动像素单元电路,增加的一个MOSFET,可以根据输入数据的变化,自动调节其等效电阻,降低像素单元的最小输出电流。本像素电路能够在较宽的OLED公共阴极电压范围内维持很大的电流比率。该电路采用SMIC 0.35μm 2P4M混合信号工艺进行设计,目前已成功应用于一款分辨率为800×600,像素节距为15μm×15μm的硅基OLED驱动芯片,经测试验证,输出电流范围为280pA~65nA,可以同时满足OLED阵列高亮度和高对比度的要求。 相似文献
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为了提高硅基OLED微显示器的电流稳定性,提出了一种6T1C型像素电路,该电路既可以减小驱动管阈值电压Vth的偏移,又补偿了OLED发光层电流衰减,利用HSPICE进行仿真,仿真结果表明:在阈值电压偏移量为-7.25mV~ 7.12mV和OLED内部电阻偏移量为0~ 8MΩ时,该像素电路的发光电流偏差分别为-0.144LSB~ 0.416LSB和-0.48LSB~0.6LSB电流稳定性得到大幅提高。同时,为了保证像素电路能精确反映OLED的电流-电压特性,提出了基于TCLC理论的OLED等效电路模型,该OLED等效电路的仿真数据和实验数据具有良好的一致性。 相似文献
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有机电致发光显示器件(OLED)被认为是LCD最强有力的竞争者.因OLED显示屏的像素驱动电路至少由两个TFT管和一个电容组成,在实际制作驱动电路中,电容面积较大,影响显示屏开口率.基于对像素驱动电路的深入研究,提出一种改进的像素驱动电路,改进后的电路面积较小.通过仿真验证和理论推导计算证明该驱动电路不仅性能稳定而且可以明显地提高显示屏的开口率. 相似文献
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OLED像素电路存在驱动晶体管阈值电压漂移的问题,引起显示效果的下降.在专利数据库中进行检索和分析,对韩国三星近年来提出的多种用于抑制驱动晶体管阈值电压漂移的OLED像素电路的原理进行了分析,并提出了一些设计方面的考虑因素. 相似文献
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AM-OLED像素驱动电路的研究 总被引:2,自引:1,他引:1
分析和比较了目前典型的几种AM-OLED单元像素驱动电路,论述了二管驱动OLED电路的设计,最后采用EDA电路通用分析软件AIM-SPICE对所设计的电路进行了验证和优化,为AM-OLED单元像素驱动电路的设计、参数选择和性能分析提供了依据. 相似文献
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文章依据OLED器件的结构和发光机理介绍了OLED的驱动电路,并讨论了各种驱动电路在使用中的一些问题,提出了它们的适用场合. 相似文献
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对纳米MOSFET关断态的栅电流、漏电流和衬底电流进行了模拟,指出边缘直接隧穿电流(IEDT)远远大于传统的栅诱导泄漏电流(IGIDL)、亚阈区泄漏电流(ISUB)及带间隧穿电流(IBTBT)。对50 nm和90 nm MOSFET器件的Id-Vg特性进行了比较,发现在高Vdd下,关态泄漏电流(Ioff)随IEDT的增加而不断增大,并且器件尺寸越小,Ioff越大。高k栅介质能够减小IEDT,进而减小了Ioff,其中HfSiON、HfLaO可以使边缘隧穿电流减小2~5个数量级且边缘诱导的势垒降低(FIBL)效应很小。但当栅介质的k>25以后,由于FIBL效应,关态泄漏电流反而增大。 相似文献