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成功引入芳胺基给体,使用溶胶凝胶(sol-gel)技术制备出键连型杂化薄膜(F-TPA),并用原子力显微镜(AFM)研究了F-TPA极化前后的表面形貌.原位光学二次谐波测量表明,此类芳胺基给体型二阶非线性光学杂化薄膜具有良好的非线性光学性能(d33为14.1 pm/V)和较高的取向热稳定性(d33值在115 ℃仍然能保持稳定,半衰温度达到145℃左右).结果接近实用要求,充分显示了其在器件实用化进程中的优势.ITO玻璃表面薄膜样品的极化效果远优于普通玻璃片表面的样品.在不使用平面栅网、单针极化的情况下,仍然能在ITO玻璃表面的薄膜获得均匀、饱和的d33分布. 相似文献
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掺杂CdS超微粒的ZrO2薄膜的光学性质 总被引:4,自引:0,他引:4
研究了用溶胶凝胶方法制备的CdS超微粒 ZrO2 薄膜的发光特性 ,测量了不同退火温度处理的样品的荧光光谱、荧光激发光谱和荧光衰减曲线的变化 ,通过荧光衰减曲线研究了 14 0 ps左右的CdS的带间跃迁发射和较慢的表面态发射。还测量了这种掺有CdS超微粒的ZrO2 薄膜的飞秒光克尔效应 ,得到三阶非线性光学极化率为4 4× 10 - 1 1 esu和大约 10 0fs的响应时间。结果表明 ,这类材料具有较大的光学非线性和快速的响应时间 ,在高速光开关等方面有潜在的应用前景 相似文献
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针对稀土Er掺杂Si光源中Er离子掺杂浓度低的问题,采用溶胶-凝胶(Sol-gel)法在Si(100)和SiO2/Si(100)基片上旋涂法制备Er2O3光学薄膜,Er离子浓度与以前掺杂方法相比提高了2个数量级.900℃热处理获得单一立方结构的Er2O3薄膜材料.光致发光(PL)特性研究表明在654nm波长的激光泵浦下,Er2O3薄膜材料获得了1.535μm的发光峰,并具有较小的温度猝灭1/5.在SiO2/Si(100)基体上制备的Er2O3薄膜材料的光致发光强度比Si(100)基体上制备的薄膜提高2-3倍.研究结果表明具有强光致发光特性的Er2O3薄膜是一种有前景的硅基光源和放大器材料. 相似文献
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传统的塑料闪烁体由于其低有效原子序数和密度,不适用于能谱探测领域。有机重金属化合物掺杂塑料闪烁体的制备为塑料闪烁体实现能谱探测提供了一种有效途径。而有机锡化合物掺杂塑料闪烁体具有高光峰灵敏度,并保留了塑料闪烁体的快衰减特性。本文通过自由基聚合的方法成功制备了不同浓度2-(三丁基锡烷基)呋喃掺杂的聚乙烯基甲苯(PVT)基塑料闪烁体,并对其光学和闪烁性能进行了测试和比较。其中掺杂20%2-(三丁基锡烷基)呋喃的PVT基塑料闪烁体的透光率可达90%,X射线激发发射光谱主峰位于425 nm处,光产额为6700 ph/MeV,能量分辨率为15.8%@662 keV,衰减时间约为4.3 ns。我们也制备了1英寸直径、掺杂20%2-(三丁基锡烷基)呋喃的塑料闪烁体,具有6300 ph/MeV的光产额和15.8%@662 keV的能量分辨率。 相似文献
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针对稀土Er掺杂Si光源中Er离子掺杂浓度低的问题,采用溶胶-凝胶(Sol-gel)法在Si(100)和SiO2/Si(100)基片上旋涂法制备Er2O3光学薄膜,Er离子浓度与以前掺杂方法相比提高了2个数量级.900 ℃热处理获得单一立方结构的Er2O3薄膜材料.光致发光(PL)特性研究表明在654 nm波长的激光泵浦下,Er2O3薄膜材料获得了1.535 μm的发光峰,并具有较小的温度猝灭1/5.在SiO2/Si(100)基体上制备的Er2O3薄膜材料的光致发光强度比Si(100)基体上制备的薄膜提高2-3倍.研究结果表明具有强光致发光特性的Er2O3薄膜是一种有前景的硅基光源和放大器材料. 相似文献
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利用溶胶凝胶法制备了ZnO纳米粒子,用紫外光照射对其进行表面处理.探讨了表面处理对ZnO纳米粒子晶体结构与光学性质的影响.结果显示:在晶体结构方面,紫外光照射会降低ZnO纳米粒子的团聚现象,缩短晶格常数,使其所受应力由压缩应力释放变为伸张应力,增大表面能,使能量最佳化并稳定而导致ZnO纳米粒子形成再构.在光学性质方面,紫外光照射会使ZnO纳米粒子表面产生较多的氧空位,而氧空位又会使其表面容易吸附羟基,使得ZnO纳米粒子变得更加亲水. 相似文献
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利用溶胶凝胶法制备了ZnO纳米粒子,用紫外光照射对其进行表面处理。探讨了表面处理对ZnO纳米粒子晶体结构与光学性质的影响。结果显示:在晶体结构方面,紫外光照射会降低ZnO纳米粒子的团聚现象,缩短晶格常数,使其所受应力由压缩应力释放变为伸张应力,增大表面能,为使能量最佳化并稳定而导致ZnO纳米粒子形成再构。在光学性质方面,紫外光照射会使ZnO纳米粒子表面产生较多的氧空位,而氧空位又会使其表面容易吸附羟基,使得ZnO纳米粒子变得更加亲水。 相似文献
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采用溶胶-凝胶方法制备了ZrO2-TiO2(Ti含量为0-100 mol%)高折射率光学薄膜.借助激光动态光散射技术研究溶胶微结构.采用傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜、薄膜光学常数分析仪、漫反射吸收光谱及强激光辐照实验,对膜层的结构、光学性能及抗激光损伤性能进行了系统表征.结果显示,溶胶-凝胶工艺可以在部分牺牲折射率的情况下,使膜层的抗激光损伤性能得到大幅度提升.随Ti含量从0mol%增加至100 mol%,膜层的平均损伤阈值呈下降趋势,当Ti含量从0mol%增加至60mol%时,平均损伤阈值从57.1 J/cm2下降到21.1 J/cm2(辐照激光波长为1053 nm,脉冲宽度为10 ns,"R/1"测试模式),当Ti含量从60mol%增加至100mol%时,平均损伤阈值变化很小.综合溶胶微结构、膜层光学性能和损伤实验结果可以推断,强激光诱导多光子吸收是引起膜层损伤的主要原因.不同配比的复合膜之间光学带隙的显著差异导致相同辐照激光情况下多光子吸收的概率发生变化,从而导致损伤阈值的规律性变化. 相似文献
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采用溶胶-凝胶法在玻璃衬底上制备了过渡金属元素与F共掺杂Zn0.98-xTMxF0.02O (TMx=Cu0.02, Ni0.01, Mn0.05, Fe0.02, Co0.05)薄膜, 进而利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外-可见透过谱、光致发光及振动样品磁强计等研究了薄膜的表面形貌、微结构、禁带宽度及光致发光(PL)和室温磁学特性. 研究表明: 掺杂离子都以替位的方式进入了ZnO晶格, 掺杂不会破坏ZnO的纤锌矿结构. 其中Zn0.93Co0.05F0.02O薄膜样品的颗粒尺寸最大, 薄膜的结晶度最好且c轴择优取向明显; Zn0.93Mn0.05F0.02O薄膜样品的颗粒尺寸最小, 薄膜结晶度最差且无明显的c轴择优取; Cu, Ni, Fe与F共掺杂样品的颗粒尺寸大小几乎相同. TM掺杂样品均表现出很高的透过率, 同时掺杂后的薄膜样品的禁带宽度都有不同程度的红移. PL谱观察到Zn0.98-xTMxF0.02O薄膜的发射峰主要由较强的紫外发射峰和较弱的蓝光发射峰组成. Zn0.93Mn0.05F0.02O薄膜样品的紫外发光峰最弱, 蓝光发射最强, 饱和磁化强度最大; 与之相反的是Zn0.96Cu0.02F0.02O薄膜, 其紫外发光峰最强, 蓝光发射最弱, 饱和磁化强度最小. 结合微结构和光学性质对Zn0.98-xTMxF0.02O薄膜的磁学性质进行了讨论. 相似文献
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采用溶胶-凝胶方法制备了ZrO2-TiO2(Ti含量为0—100mol%)高折射率光学薄膜. 借助激光动态光散射技术研究溶胶微结构. 采用傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜、薄膜光学常数分析仪、漫反射吸收光谱及强激光辐照实验,对膜层的结构、光学性能及抗激光损伤性能进行了系统表征. 结果显示,溶胶-凝胶工艺可以在部分牺牲折射率的情况下,使膜层的抗激光损伤性能得到大幅度提升. 随Ti含量从0mol%增加至100mol%,膜层的平均损伤阈值呈下降趋势,当Ti含量从0mol%增加至60mol%时,平均损伤阈值从57.1J/cm2下降到21.1J/cm2(辐照激光波长为1053nm,脉冲宽度为10ns,“R/1”测试模式),当Ti含量从60mol%增加至100mol%时,平均损伤阈值变化很小. 综合溶胶微结构、膜层光学性能和损伤实验结果可以推断,强激光诱导多光子吸收是引起膜层损伤的主要原因. 不同配比的复合膜之间光学带隙的显著差异导致相同辐照激光情况下多光子吸收的概率发生变化,从而导致损伤阈值的规律性变化.
关键词:
2-TiO2薄膜')" href="#">ZrO2-TiO2薄膜
溶胶-凝胶
激光诱导损伤
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