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简单地介绍了金属光学零件的特点及其车削加工的原理。以具体实例说明了金属光学零件的精密加工过程,同时介绍了金属光学零件的测量方法。 相似文献
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本文介绍了一种加工YVO4晶体薄片的新工艺。采用这一工艺,一次加工36片YVO4晶体薄片,成品率达到96%。在确保晶体加工质量的前提下,明显提高了加工效率。经过二年多的实际应用,这个新工艺很适用批量加工。 相似文献
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光学非球曲面器件的超精密磨削加工技术研究 总被引:7,自引:1,他引:7
为磨削加工出高精度、高质量的光学非球曲面器件。详尽分析了砂轮的安装及半径等误差对零件加工精度的影响。设计研制出了一套非球曲面磨削系统 ,并用它进行了实验研究。实验结果表明 :要获得高精度的非球曲面器件 ,只有当金刚石砂轮的平均磨粒尺寸低于 10 μm ,并在采用较高的砂轮线速度和较小的进给量的情况下 ,才能实现光学非球曲面的超精密磨削加工 ,经过各种磨削参数的优化选择 ,其非球曲面最终的零件轮廓精度为 0 4 μm ,表面粗糙度Ra优于 0 0 1μm。 相似文献
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脆性光学材料超精密加工技术 总被引:2,自引:0,他引:2
如何在光学晶体、光学玻璃等脆性材料上高效地制取纳米级光学表现是现代超精密加工技术领域的重点研究课题。近年来,此项技术取得了突破性进展,出现了浮法抛光、离子束加工、韧性加工等新一代脆性光学材料超精密加工技术。从加工机理、加工精度、表面质量、生产率等方面对其进行分析比较,并讨论了令人瞩目的韧性加工技术。 相似文献
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在大口径超精密平面光学元件加工中,环抛是一种重要的抛光技术,作为古典抛光的一种改进工艺,它在光学加工中得到了广泛的应用。但是它目前还存在着一些问题:对操作者的经验依赖太强,加工效率不高,加工质量也不稳定。根本原因是人们对抛光磨削的规律还认识不够,尤其是—些工艺参数的影响。 相似文献
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大口径平面光学元件超精密加工技术的研究 总被引:4,自引:1,他引:4
为了解决激光核聚变装置中大口径平面光学元件的批量制造难题,将先进制造技术和传统抛光技术相结合,提出了一种新的工艺方法,即使用ELID(在线电解)磨削代替传统的铣磨和初抛工序,以提高生产效率。利用数控抛光将工件抛光至最终的面形精度,以提高生产效率和减少边缘效应。将连续抛光作为最终加工工序,使加工工件的表面粗糙度和波纹度达到工程要求。实验证明这一新的工艺方法是可行的。 相似文献
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激光核聚变光学元件超精密加工技术的研究 总被引:10,自引:0,他引:10
论述了脆性材料延性加工机理。应用超精密加工技术解决了激光核聚变光学元件的大批量加工问题。研究了平面光学元件、KDP晶体和方形透镜超精密加工技术,给出了这三类光学元件超精密加工的工艺过程、机床设计准则和最佳工艺参数。 相似文献
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黄燕华 《工程物理研究院科技年报》2009,(1):14-15
黑腔制备是间接驱动惯性约束聚变靶制备的重要环节。一般的方法要把金电镀在芯轴上,具体制备工艺步骤包括:车削制作芯轴;用电镀法,在芯轴表面镀上适当厚度的金层;镀金芯轴二次装夹,按要求加工金层;溶掉芯轴,得到金空腔。由此可以看出,芯轴加工作为空腔制备工艺过程的首道加工工序,也是最重要的一道工序。芯轴加工质量决定了空腔制备所能达到的质量上限。因此,国内外都把其作为靶制备的重要环节加以研究。 相似文献
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研究了采用单点金刚石超精密车削加工技术(SPDT)加工多模调制曲面过程中的刀具轨迹优化方法,首先,分析了SPDT方法加工多模调制曲面的基本原理;其次,理论分析了平行弦双圆弧插补算法的基本原理,推导了插补误差计算公式。在此基础上,提出采用插补步长伸缩变化方式实现了插补误差的动态控制,并获得了完整的插补计算公式;最后,采用Matlab软件对该插补算法进行了实例仿真分析,并分别与直线插补算法和固定步长双圆弧插补算法进行了对比分析,结果表明,该方法能在保证插补允差的前提下最大程度的减少插补区间数,从而有助于提高加工效率和延长刀具寿命。该方法在调制靶金属模板的制备中获得了广泛应用。 相似文献
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研究了采用单点金刚石超精密车削加工技术(SPDT)加工多模调制曲面过程中的刀具轨迹优化方法,首先,分析了SPDT方法加工多模调制曲面的基本原理;其次,理论分析了平行弦双圆弧插补算法的基本原理,推导了插补误差计算公式。在此基础上,提出采用插补步长伸缩变化方式实现了插补误差的动态控制,并获得了完整的插补计算公式;最后,采用Matlab软件对该插补算法进行了实例仿真分析,并分别与直线插补算法和固定步长双圆弧插补算法进行了对比分析,结果表明,该方法能在保证插补允差的前提下最大程度的减少插补区间数,从而有助于提高加工效率和延长刀具寿命。该方法在调制靶金属模板的制备中获得了广泛应用。 相似文献
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本文提出了一种在轨迹成型法加工光学零件磨床上实现脆性材料超精密磨削的微进给电控装置。试验表明,在轨迹成型法加工光学零件磨床上应用本装置对光学透镜进行磨削后,工件表面粗糙度可达Ra=0.02μm,能够达到光学零件精磨的粗糙度要求。 相似文献
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为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究,设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索,分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系,得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明:工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律,掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障,同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。 相似文献