先进光刻胶材料的研究进展

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.     

I-Line光刻胶材料的研究进展

酚醛树脂-重氮萘醌正型光刻胶由于其优异的光刻性能,在g-line(436 nm)、i-line(365 nm)光刻中被广泛使用.g-line光刻胶胶、i-line光刻胶,两者虽然都是用线型酚醛树脂做成膜树脂,重氮萘醌型酯化物作感光剂,但当曝光波长从g-line发展到i-line时,为适应对应的曝光波长以及对高分辨率的追求,酚醛树脂及感光剂的微观结构均有变化.在i-line光刻胶中,酚醛树脂的邻-邻'相连程度高,感光剂酯化度高,重氮萘醌基团间的间距远.溶解促进剂是i-line光刻胶的一个重要组分,本文对其也进行了介绍.     

193nm化学放大光刻胶研究进展

193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm化学放大胶的研究进展,概述目前应用及研究中出现的代表性193 nm化学放大胶,总结其优缺点及未来可能的发展方向。     

化学增幅型光刻胶材料研究进展

芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生。"化学增幅"可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫外光刻中得到广泛应用。而高性能树脂作为光刻胶的成膜剂,对光刻胶的性能有重要影响,不同的树脂结构对应不同的反应机理。本文重点对化学增幅型光刻胶中的脱保护、重排、分子内脱水、酯化缩聚、交联、解聚等反应进行了总结,并介绍了对应的树脂结构。     

光刻胶用底部抗反射涂层研究进展

随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注。本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况。重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望。     

用于浸没式工艺的光刻胶研究进展

浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用.本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测.     

淀粉基高分子材料的研究进展

概述了近5年国内外在淀粉的化学、物理改性及其作为一种材料使用方面取得的最新研究进展.淀粉的化学改性主要介绍了淀粉的酯化、醚化、氧化、交联、接枝共聚等,而物理改性主要介绍了淀粉分别与黏土、脂肪族聚酯、聚乙烯醇以及纤维素等天然大分子的共混改性,同时还介绍了通过酸化制备淀粉纳米晶.淀粉基材料除了用于制备可生物降解塑料、吸附材...     

用于光刻技术的新型化学放大光刻胶

Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及Ｓ．Ｙ．Ｓｈｉｍ利用在紫外光作用下能产生强酸，继而参与酸催化过程的方法，使光刻胶膜上的曝光部分变为可溶性而实现整个光刻过程的化学放大作用。聚（二特丁富马酸酯）是一个典型的体系。ＣｌＯＣＣＯＣｌＫＯｔＢｕｔＢｕＯＨＯ２ＣＣＯ２过氧化苯甲酰ΔＯ２ＣＣＯ２　ｎ生成的聚合物具有透明、热稳定性好、易于从一些常用溶剂中注塑成型。此外，酸催化特丁基的丢失。此聚合物对紫外光刻条件敏感，但干刻蚀强度（在氧等离子体作用下）不好。利用掺混其他单体如苯乙烯或烯丙基三甲基硅烷等进行共聚的…     

高分子灌浆材料应用研究进展

结合作者的研究开发和工程应用实践及文献资料综述了高分子化学灌浆材料的应用研究发展历史,现状及发展态势。     

先进光刻材料

随着半导体产业的技术发展与进步,芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进。与此同时,我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求。本文从光刻材料的成分和性能出发,介绍了光刻图形化技术所用的从紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光胶、共轭聚合物光刻材料到导向自组装光刻材料,分析了光刻材料的发展现状,最后总结全文并对国内光刻材料的未来发展趋势进行展望。     

一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备

聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂,初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用KrF激光（248 nm）曝光,在较低的后烘温度下,显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物,可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度,有利于其实际应用.     

一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究

研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺(HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物,而且可以作为阻溶剂.用碘盐作为光敏产酸物,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与HMMM的交联反应;用氢氧化钠-乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形;采用碘盐作为阻溶剂,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形.通过优化后的光刻工艺条件,采用不同的显影液和光刻工艺流程,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转,并分别得到负性和正性光刻图形.     

光刻与光刻胶的研究与发展

本文介绍用于超大规模集成电路的光刻技术及其光刻胶,包括化学增值型光刻胶和无显影气相光刻胶等的研究进展和发展趋势.     

含POSS光刻胶材料研究进展

光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚合物的玻璃化转变温度（T_g）,降低聚合物的介电常数,提高聚合物的力学性能,也提高了含POSS光致抗蚀剂的耐蚀刻性。基于这些优点,含POSS的光刻胶材料得到广泛关注。本文对含POSS光刻胶的研究进展作了简要介绍。     

酸分解高分子的新进展

本文综述了80年代酸分解高分子的进展,并对其作了详细分类。以其不同的结构特征阐明了它们的酸解机理。本文还对酸解高分子用于成像材料、特别是化学增幅抗蚀剂的前景作了展望。     

低聚氨基葡萄糖的化学合成及修饰研究进展

低聚氨基葡萄糖是一种天然多糖,已在医药、农药等领域得到了应用。由于它具有良好的生物活性,因此,低聚氨基葡萄糖的化学合成和修饰成为该研究领域的重要方向之一。本文综述了近年来低聚氨基葡萄糖的化学合成和结构修饰方面的研究进展,着重介绍了化学修饰方法。     

Size-dependent Amplified Spontaneous Emission from Organic Crystal Slabs

The authors investigated size-dependent amplified spontaneous emission(ASE) from organic crystals. Specifically, N-(4-{4-[4-(diphenylamino)styryl]styryl}phenyl)-N-phenylbenzene amine(Ph-TPA2) organic crystals were used in the experiment. The ASE threshold was decreased with the decrease of the width of the crystal at the same gain length, which reflects that total internal reflection plays an important role on the ASE properties in these slab organic crystals. The ASE properties pumped by one- and two-photon were also comparatively studied. We found that the thresholds of ASE in two-photon pumping condition are less size-dependent than those in single- photon condition because of the nonlinear light generation processes in two-photon absorption processes.     

二氧化硫在化学资源化利用中的研究进展

二氧化硫(SO2)过量排放对自然环境造成了严重威胁,使得SO2的捕集和利用在工业生产中被广泛关注.目前,SO2的捕集技术已经相对成熟,对捕集后SO2的高附加值利用成为当前的热点问题.在SO2利用方法中,化学资源化利用由于具有原子经济性高、能耗低等优点,是实现SO2高附加值最有前景的方法之一.本文综述了SO2在无机反应中...     

放大反应比色法测定土壤中微量碘

在酸性条件下,用饱和溴水氧化特测液中Ｉ为ＩＯ３,ＩＯ３与显色剂中过量的Ｉ反应生成Ｉ２,Ｉ２与淀粉作用使溶液呈蓝色,最后用比色法测定含碘量。该法具有较高的灵敏度,检出限为０．０１６９ｍｇ／Ｌ,测定的线性范围为０．０４～０．８ｍｇ／Ｌ;用于土壤中碘含量测定时,ＲＳＤ≤５．３％（ｎ＝４）,加标回收率为９０％～１１２％。