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光学薄膜激光预处理能量密度选取 总被引:1,自引:0,他引:1
采用Nd∶YAG三倍频激光对光学薄膜进行了预处理.实验发现三倍频激光预处理对薄膜的抗激光损伤能力有明显的影响,影响规律比较复杂,归纳得出合适激光预处理能量密度与测试激光能量密度有关.理论上借助杂质诱导薄膜损伤的概率统计模型,从激光预处理引起的激光微区退火以及形成微尺寸损伤两个主要方面着手,很好地解释了复杂的实验现象.总体上看,预处理激光能量密度低于激光退火所需临界能量密度时,预处理效果以负作用为主;预处理激光能量密度高于激光退火所需临界能量密度,且低于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果以改善薄膜抗激光损伤能力为主,预处理激光能量密度要尽量选在这个范围内;预处理激光能量密度高于激光诱导薄膜微损伤所需临界能量密度时,预处理效果同样以负作用为主. 相似文献
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介绍了一种基于中等口径光斑的新型激光预处理技术。采用基频最大输出10 J的Nd:YAG调Q激光器,获得了直径5 mm、能量密度满足预处理需求的中等口径光斑。较之于小光斑处理方案,采用中等光斑进行扫描,可以显著压缩大口径光学元件的预处理总耗时。为了验证效果,搭建了实验平台,在陪镀片上开展了光斑扫描与损伤阈值测量实验,设计了合理的中等光斑预处理流程,并对阈值提升效果进行了验证。在此基础上,开展了正式元件的预处理实验,采用大行程二维电动位移台,对430 mm430 mm口径的金属铪蒸发工艺高反膜元件进行了夹持和扫描。实验结果表明,经处理后的高反薄膜元件初步达到了27 J/cm2的阈值水平,证明了该技术对薄膜抗损伤能力的提升效果。 相似文献
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用波长1.06μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为1.06μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观察到的损伤,而且也能发现某些显微镜所不能发现的损伤。由于透射比和反射比可以反映出薄膜对激光的传输性能,因此也能反映出薄膜能否继续工作,以此来判定损伤与否。因此用透射反射扫描法可以作为检测损伤的手段,由于简单易行,可以在线检测。避免目前损伤测试工作中繁重的人工操作。 相似文献
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用波长1.06μm的激光透射反射自动扫描装置扫描了激光辐照前后薄膜的反射比和透射比。薄膜样品的工作波长为1.06μm。将扫描结果与相衬显微镜观察到的形貌相对照。实验结果表明,用透射反射扫描法不仅能反映出相衬显微镜所能观察到的损伤,而且也能发现某些显微镜所不能发现的损伤。由于透射比和反射比可以反映出薄膜对激光的传输性能,因此也能反映出薄膜能否继续工作,以此来判定损伤与否。因此用透射反射扫描法可以作为检测损伤的手段,由于简单易行,可以在线检测。避免目前损伤测试工作中繁重的人工操作。 相似文献
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随着大能量/高功率激光器的发展需求日益突出,光学薄膜的激光损伤阈值逐步成为激光器发展的瓶颈,受到国内外高能激光器研究领域的广泛关注。阐述了光学薄膜激光的损伤机理、激光损伤阈值测试平台及方法,结合自身研究成果,综述性分析了国内外光学薄膜抗激光损伤技术与手段研究的发展情况,主要包括离子束预处理、离子束与退火后处理、虚设保护层等;重点提出了磁过滤结合激光沉积的复合沉积技术,并建议加速推动无缺陷沉积的原子层沉积技术,为大幅提高光学薄膜抗激光损伤能力、满足当前需求提供了理论基础。 相似文献
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实验测量了波长1 064 nm, 10 kHz高重复频率激光辐照下在白宝石、石英玻璃、K9基片上制备的Ta2O5/SiO2高反膜的温度变化,有限元分析的结果与实验结果相一致。用ANSYS程序计算了不同光斑直径、相同功率激光和相同功率密度激光辐照下薄膜元件温升的变化。结果表明:相同功率激光辐照光学薄膜元件时,光斑大小只影响激光辐照点的温升,对基板温升没有影响。基板温升只与激光功率有关,激光功率越大,基板温升越大。相同功率密度激光辐照光学薄膜元件时,光斑越大,激光辐照点温度及基板温度均越高。从激光损伤的热效应考虑,小光斑激光辐照时,光学薄膜的激光损伤阈值较高。 相似文献
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光学元件中的杂质和缺陷会引起其激光损伤阈值的大幅降低,现阶段这一问题已成为激光装置向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”,亟待解决。在对光学元件激光损伤的研究中发现,用低于光学元件损伤阈值的激光对元件表面进行预处理,可以有效提高光学元件的抗激光损伤能力。对激光预处理技术的提出背景、定性作用机理、定量理论模型及国内外技术应用现状进行了概述。并且介绍了一种可在薄膜制备过程中进行原位实时激光预处理的新型薄膜制备技术。最后指出,激光预处理技术作为一种无污染,可有效改善光学薄膜、光学玻璃、光学晶体元件损伤阈值的最有效方法之一,其作用机理、实用化、仪器化还有待进一步发展。 相似文献
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光学元件中的杂质和缺陷会引起其激光损伤阈值的大幅降低,现阶段这一问题已成为激光装置向高功率、高能量方向发展的“瓶颈”,亟待解决。在对光学元件激光损伤的研究中发现,用低于光学元件损伤阈值的激光对元件表面进行预处理,可以有效提高光学元件的抗激光损伤能力。对激光预处理技术的提出背景、定性作用机理、定量理论模型及国内外技术应用现状进行了概述。并且介绍了一种可在薄膜制备过程中进行原位实时激光预处理的新型薄膜制备技术。最后指出,激光预处理技术作为一种无污染,可有效改善光学薄膜、光学玻璃、光学晶体元件损伤阈值的最有效方法之一,其作用机理、实用化、仪器化还有待进一步发展。 相似文献
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StudyonLaserConditioningofOpticalCoatings¥ZHAOQiang;FANZhengxiu;WANGZhijiang(ShanghaiInstituteofOpticsandFineMechanics,Chines... 相似文献
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强反馈光纤光栅外腔半导体激光器 总被引:5,自引:0,他引:5
在理论上对强外腔反馈情形的半导体激光器线宽压窄效应进行了分析,对消反膜剩余反射率,外腔反射率,外腔腔长对线宽压缩的影响进行了研究,在实验上采用光纤光栅作为反馈元件,与一端镀有消反膜的1.5μm波段的常规多纵模交导体激光器耦合,构成强反馈光纤光栅外腔半导体激光器,得到单频窄线宽的激光输出,静态下边模抑制比大于30dB,线宽小于120kHz。 相似文献
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提高强激光反射镜镀膜损伤阈值的激光后处理技术及机理探讨 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了一种提高高功率激光反射镜镀膜损伤阈值的激光后处理技术,并着重就提高激光损伤阈值机理的实验和理论研究作了归纳和探讨。 相似文献
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A multi-beam module using optical waveguides has been studied for a laser scanning optical system. Laser diodes with a wavelength of 780 nm are assembled on a silicon substrate. The beams emitted from the laser diodes are directly coupled into waveguides. This multi-beam module is assembled on a metal substrate with a photodiode. The photodiode controls the power of each laser diode on the silicon substrate. The multi-beam module is able to increase the output speed of high-density image printings, and the speed for high-speed color printings. We have developed the four-beam module with beam divergence angles of 11 degrees and spatial beam interval of 24 μm. Additional heat sink and optimizing tip-bonding between the laser diode and solder pad on the silicon substrate is useful to stabilize laser power against rising temperature. 相似文献
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