四足配体铽配合物-蒙脱土超分子复合发光材料的插层组装、表征和性质研究

用两种方法分别将四足配体铽配合物[TbL（NO3）]^2＋和[TbL]^3＋插层组装到了蒙脱土（MT）层板间，制备出超分子复合发光材料[TbL（NO3）^2＋-MT和[TbL]^3＋-MT。方法一：通过离子交换反应让配离子[TbL（NO3）]^2＋取代钠＋基蒙脱土（Na-MT）中的Na^＋离子，插层组装到蒙脱土层板间。方法二：用配体L与铽基蒙脱土（Tb-MT）反应，使配体插入蒙脱土层板间与Tb^3＋离子配位。用元素分析、XRD，FT-IR,UV-vis和热分析对材料进行了表征，并对其荧光性质进行了研究。结果表明，复合材料保持了蒙脱土良好的层柱结构特征，其层间距d001值与插层配离予的直径吻合较好，配离子以单层形式分布于蒙脱土层板间，复合材料中配合物的热稳定性有明显提高。在紫外光激发下，复合材料发出较强的Tb^3＋特征荧光，其发射光谱与相应配合物的发射光谱很相似；复合材料中配合物的相对荧光强度较相应纯配合物有明显提高。荧光寿命较长；配合物的激发波长向可见光区发生位移，说明插层组装实现了对配合物激发波长的调制作用。     

新型超分子复合发光材料四足配体铕配合物-蒙脱土的插层组装及发光性质

通过离子交换反应将四足配体铕配合物[EuL(NO3)]2+[L=1,1,1’,1’-四(吡啶-2-羧酸酯基)联三甲基丙烷]插层组装到蒙脱土(MT)层板间, 制备出一种新型的超分子复合发光材料[EuL(NO3)]2+-MT. 用元素分析、XRD、FTIR、UV-Vis和热分析对材料进行了表征, 并对其荧光性质进行了研究. 结果表明, 复合材料保持了蒙脱土良好的层柱结构特征, 其层间距d(001)值与插层配离子的直径吻合得较好, 配离子以单层形式分布于蒙脱土层板间. 在紫外光激发下, 复合材料发出较强的Eu3+特征荧光, 其相对荧光强度、荧光单色性和荧光寿命大大优于相应配合物的乙醇溶液. 复合材料中配合物的发光性能、光稳定性和热稳定性较纯配合物有明显提高.     

镍基蒙脱土/聚苯胺纳米复合材料的制备与表征

首先通过化学氧化法合成了导电聚苯胺,再将聚苯胺引入镍基蒙脱土层间,合成了镍基蒙脱土/聚苯胺纳米复合材料,并用FTIR、XRD、TEM对其结构进行了表征与分析。结果表明,聚苯胺已进入蒙脱土层间,并使蒙脱土片层间距增大。测定了复合前后材料的电导率并对其进行了合理的解释。     

壳聚糖/蒙脱土纳米复合材料的结构与性能研究

以壳聚糖和蒙脱土为原料,将插层复合技术引入天然高分子材料进行改性,制备了壳聚糖/蒙脱土纳米复合材料.红外光谱和X射线衍射分析结果表明,壳聚糖分子已插入蒙脱土层间,形成了插层甚至部分剥离的结构.热重分析、扫描电镜和物理性能测试表明,蒙脱土的引入,大幅度地降低了壳聚糖的热分解速率,明显地提高了壳聚糖的热稳定性和力学性能,有效地抑制了壳聚糖的溶胀.     

甲苯-2,4-二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

用FTIR和WAXD法研究了甲苯-2,4-二异氰酸酯(TDI)的邻位和对位异氰酸酯基团与蒙脱土表面羟基的修饰反应,在此基础上提出了结构模型;用TDI修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯/蒙脱土纳米复合材料,并用WAXD和TEM进行了表征.实验结果表明,修饰后TDI与蒙脱土表面形成化学键,使蒙脱土的片层间距显著增大,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式排列.在苯乙烯插层聚合过程中,蒙脱土层间距进一步扩大,其初级粒子在聚苯乙烯基体中的厚度约20～50nm.     

有机阳离子[C18mim]＋在蒙脱土层间的物理化学吸附与聚集状态*

咪唑基离子液体(N鄄十八烷基鄄N忆鄄甲基溴化咪唑盐[C18mim]Br)中的[C18mim]+可以通过离子交换反应进入蒙脱土层间.本文用TGA、FTIR和XRD 研究了[C18mim]+在蒙脱土层间的物理和化学吸附及其聚集状态. 研究结果表明, 蒙脱土存在着饱和的化学吸附量, 其总吸附量随物理吸附量的增加而增加；随着[C18mim]+在蒙脱土层间吸附量的增加, 其聚集态结构的有序性增加, 并伴有分子链的构象变化,导致层间距的增加.     

丁二烯/苯乙烯/4-乙烯基吡啶共聚物蒙脱土嵌入混杂材料的研究

用聚合物乳液与蒙脱土的水分散体共混共凝的方法制备混杂材料.在混合过程中乳胶粒与蒙脱土晶层相互穿插,用盐酸絮凝,带正电的共聚物能够嵌入带负电的蒙脱土层间.萃取实验发现在混杂材料中蒙脱土吸附了大量的共聚物,说明蒙脱土晶层与共聚物之间存在静电吸附作用.XRD实验发现在混杂材料中蒙脱土的晶层结构发生了膨胀,并且变得混乱,而在共混物中蒙脱土晶层结构几乎不变.用TEM观察在混杂材料中蒙脱土晶层均匀分散于共聚物基体中,蒙脱土的层间距大于6nm.共聚物嵌入蒙脱土的层间,受到蒙脱土晶层的限制作用,共聚物的T_g发生了变化.交联以后的混杂材料的性能比共聚物有了较大的提高,蒙脱土晶层在共聚物基体中起到很好的补强作用.     

聚苯胺/离子液体/蒙脱土纳米复合材料的制备及其导电性能研究

采用1-羧甲基-3-甲基咪唑氯化盐离子液体对钠化蒙脱土进行插层改性,然后用苯胺的盐酸溶液进行二次插层,以过硫酸铵为氧化剂,盐酸溶液为掺杂剂,使进入离子液体/蒙脱土(CMMIm/MMT)层间的苯胺(An)发生氧化聚合反应,制备了一种具有良好导电性的聚苯胺/离子液体/蒙脱土复合材料(PANI/CMMIm/MMT).用红外光谱、X-射线衍射,热重分析和DSC对样品进行了表征.结果表明当离子液体/蒙脱土用量为7.5%、盐酸浓度为1mol/L、过硫酸铵与苯胺的摩尔比为1∶1、0℃下反应6h时制备的PANI/CMMIm/MMT纳米复合材料电导率最高,达到了0.3S/cm,是相同条件下聚苯胺/钠化蒙脱土纳米复合材料电导率的2.5倍,聚苯胺的7.5倍.     

复合发光材料[Eu（phen）2（NO3^-）]^2＋-MT的插层组装研究

合成了铕的邻菲罗啉配合物,并通过离子交换法将其配阳离子插层组装到了蒙脱土的片层间,制备出了一种超分子复合发光材料[Eu(phen)2(NO3-)]2 -MT。通过红外光谱、X射线衍射、热分析等手段对其进行了表征,并对其荧光性质进行了研究。结果表明,复合材料保持了蒙脱土良好的层柱结构特征,其单位质量稀土配合物的相对荧光强度较相应纯配合物有显著改善,复合材料片层间稀土配合物的热稳定性也较纯稀土配合物有所提高。     

甲苯—2,4—二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料？…

用ＦＴＩＲ和ＷＡＸＤ法研究了甲苯－２,４－二异氰酸酯（ＴＤＩ）的邻位和对位异氰酸酯基因与蒙脱土表面羟基的修饰反应,在此基础上提出了结构模型;用ＴＤＩ修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料,并用ＷＡＸＤ和ＴＥＭ进行了表征。实验结果表明,修饰后ＴＤＩ与蒙脱土表面形成化学键,使蒙脱土的片层间距显著增大,十六烷基三甲基溴化铵（ＣＴＡＢ）在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式     

蒙脱土和高岭土对Pb2+的吸附

选择带结构负电荷的蒙脱土和带微量结构负电荷的高岭土,研究了其对Pb2+的吸附性能,并探讨了吸附机理。 研究表明,蒙脱土和高岭土吸附Pb2+的动力学曲线符合准二级动力学方程,吸附等温线符合Langmuir方程。 Pb2+同时以内层络合和外层配合形式吸附,其相对量与pH值有关。 在pH值小于4和大于8的范围内,以内层配合物为主;而pH值在4～8范围内外层配合物比例增大。 Pb2+能进入蒙脱土的层间,而不能进入高岭土的层间;部分Pb2+可进入黏土颗粒的微孔中被固定。 蒙脱土对Pb2+的吸附能力和饱和吸附量明显高于高岭土。     

辐照法制备PVAc/蒙脱土纳米复合材料及其表征

蒙脱土有机化后 ,片层结构间距离增大 ,对有机物的亲和性有所增强 .采用VAc单体渗入有机化蒙脱土层间 .经γ 射线辐照引发原位插层聚合 ,使蒙脱土片层结构发生剥离 ,形成无机 有机纳米复合材料 .并用X衍射、红外光谱、扫描电镜以及透射电镜等现代测试手段对复合材料进行了表征     

改性蒙脱土催化剂制备及催化低浓度乙醇脱水制乙烯研究

采用硫酸将蒙脱土层间杂质溶出、板层发生层离后,基于它的"记忆效应",通过离子交换的方式引入聚羟基铝,再在其表面负载磷钨酸,从而得到不同改性的蒙脱土催化剂.运用氮气吸脱附分析、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱(FT-IR)、热重分析(TG)和NH_3-程序升温脱附(NH_3-TPD)表征手段对催化剂的结构变化进行了分析,通过微反固定床反应器评价不同催化剂在低浓度乙醇脱水制乙烯反应中的催化性能.结果表明:经改性后,蒙脱土比表面积增加,孔容增大,酸含量和分布优化,在低浓度乙醇脱水反应中表现出优异的催化性能,在使用PW-Al-MMT催化剂质量空速为0.65 h~(-1),乙醇体积分数为20%,反应温度为300℃时,反应时间为12 h,乙醇的转化率为95.7%,乙烯的选择性达98.6%以上.     

聚乙二醇／锂化蒙脱土溶液插层纳米复合的研究

通过溶液插层方法制备了聚乙二醇/锂化蒙脱土纳米复合材料。采用XRD、TEM、电子衍射、TGA及DTA对制得的材料进行了分析和表征。结果表明,聚乙二醇插入到锂化蒙脱土层中形成了具有良好离子导电性的纳米复合材料。     

丙烯酸树脂／蒙脱土纳米复合材料的制备研究

采用离子交换法,用十六烷基三甲基溴化铵对钠基蒙脱土(Na-MMT)进行改性制备了有机蒙脱土(OMMT).用丙烯酸(AA)、硫酸化蓖麻油、乳化剂OP-10、过硫酸钾为原料进行水溶液聚合制得丙烯酸树脂.将丙烯酸树脂与改性蒙脱土通过聚合插层制备了丙烯酸树脂/ 蒙脱土纳米复合材料.通过傅立叶变换红外(FTIR)和X-射线衍射 (XRD)等手段对复合材料的结构进行了表征,结果表明:丙烯酸树脂插层进入有机蒙脱土内可形成插层型或剥离型的纳米复合材料.蒙脱土含量及蒙脱土与丙烯酸树脂的反应温度、反应时间均对复合材料的剥离行为产生影响,在蒙脱土含量为树脂固含量的7%、温度为70℃、反应4h的条件下可得到完全剥离的纳米复合材料.     

聚苯乙烯/硅烷偶联剂修饰蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

用硅烷偶联剂修饰蒙脱土，制备了聚苯乙烯/蒙脱土纳米复合材料，并用XRD、FTIR、TEM和TGA等对样品进行了表征，发现硅烷偶联剂对蒙脱土表面进行了良好的修饰；苯乙烯单体在蒙脱土层间的聚合导致蒙脱土片层剥离并无规分散在聚合物基体中，片层长度为100-200nm，厚度小于10nm。     

不同有机离子表面活性剂改性蒙脱土结构与性能比较

分别用阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）、阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠(SDS)以及二者混合物(CTAB-SDS)的水溶液处理天然蒙脱土。 用红外光谱和X射线衍射比较了它们对蒙脱土结构的影响。 证明CTAB及CTAB-SDS处理蒙脱土的层间距分别由1.5420 nm增大至2.1946和1.8935 nm。 表明CTAB插入蒙脱土层间,且CTAB及CTAB-SDS处理蒙脱土在苯乙烯中分散性能明显提高,对有机物表现出良好的吸附性;而阴离子表面活性剂未进入蒙脱土层间,蒙脱土的结构和性能几乎未变。     

聚氧化乙烯/蒙脱土纳米嵌入化合物的制备与结构表征

利用溶液法和熔融法制备聚氧化乙烯(PEO)/蒙脱土纳米嵌入化合物,用XRD、IR和DSC等测试手段对嵌入化合物进行了表征.嵌入的PEO分子同蒙脱土晶层中的Na⁺生成PEO-Na⁺络合物,嵌入化合物具有一定的耐溶剂萃取性,PEO分子以单层螺旋构象排列于蒙脱土的晶层中.PEO分子在蒙脱土层间运动受到限制,致使嵌入化合物的结晶熔融峰减弱.     

静电自组装聚电解质/有机染料插层蒙脱土光致变色纳米复合膜

从构筑静电自组装聚电解质／有机染料插层蒙脱土光致变色纳米复合膜所必需 的基本纳米构件--有机染料插层蒙脱土光致变色纳米复合物的设计出发，制备了具有光致 变色功能的蒙脱土／阳离子偶氮染料（GTL）均插层纳米复合物现，插人蒙脱土层 间的GTL热稳定性大幅度提高．由于GTL在纳米受限空间的超分子有序结构共轭，使 偶氮基发生了高达91 nm的显著红移．使用该插层纳米复合物构件与阳离子聚电解 质（PDAC）通过静电自组装得到了生长均匀、排列规整有序的光致变色聚电解质／ 阳离子偶氮染料插层蒙脱土纳米复合膜.     

尼龙6/蒙脱土纳米复合材料的制备、结构与力学性能的研究

未经处理及经１１ 氨基酸处理的蒙脱土由于己内酰胺的引入而发生膨胀．己内酰氨可以在蒙脱土的硅酸盐片层间聚合，形成尼龙６／蒙脱土纳米复合材料．经１１ 氨基酸处理的蒙脱土和尼龙６分子间有很强的化学相互作用．与未经处理的蒙脱土相比，其所构成的纳米复合材料具有很好的力学性能．