低陡度光刻胶光栅槽形研究

为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现：启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1∶1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1∶7的干涉曝光和15℃的显影液.     

导致光聚物全息存储布喇格偏移因素的研究

研究了光聚物高密度全息存储材料在全息记录过程中曝光量、曝光时间、厚度收缩比例、折射率调制度及记录角度等因素对布喇格偏移的影响规律,结果表明:曝光量一定时,布喇格偏移与曝光时间的关系不大,当曝光量不一定时布喇格偏移随曝光时间增加缓慢增加最后达到饱和;而布喇格偏移随厚度收缩比例和折射率调制度的增加以接近正比例的关系增加;记录光栅的倾斜度越大则布喇格偏移也越大.这些结论对光聚物高密度全息存储研究具有重要的意义.     

光学记录、存储与器件

研究了光信息记录材料介质和纳米物理显影核,两者均属于信息记录材料领域研究的热门课题。随着材料科学、光存储技术的发展,国内外对光存储介质的研究不断深人。文章对全息、光谱烧孔、电子俘获、双光子、光致变色     

全息光学元件的军事应用

全息光学元件是利用全息摄影技术制作的薄膜型光学元件。它利用光的衍射原理,象透镜、棱镜等普通光学元件那样,实现光束韵会聚、发散、偏转、分束、色散、扫描等。全息光学元件是在玻璃或塑料基片上涂附记录介质(如光敏材料、光致抗蚀剂)薄膜,然后在专门设计的曝光系统中曝光,再经显影、干燥、峦封等处理而制备成的。浮雕型全息光学元件还可用热压法大量复制。     

提高全息图衍射效率的一种方法

本文介绍用稀释显影提高全息图衍射效率的方法。给出了稀释显影的特性曲线以及衍射效率与显影时间、曝光量之间的关系。得到了三种全息干板的高衍射效率。 关键词：     

激光直接写入过程的计算机仿真研究

基于光刻胶正胶曝光显影过程的理论模型,用梯度折射率介质光线追迹的方法进行了由于局部溶解 同而造成的显影过程 胶面面形随时间变化过程的计算。对任意给定的曝光量分布及显影时间,可以精确地确定显影后的面形,为激光直写研究提供了一种有效的工具。同时,通过对显影速率作阈值近似后,导出了光刻胶曝光显影后面形与表面所需曝光量分布之间的关系,为激光直接写入提供了理论指导。     

全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律

为了在光栅制作中对光栅掩模占宽比及槽深加以控制,结合光刻胶在显影过程中的非线性特性,建立了光栅掩模槽形演化的数学模型,由此分析和模拟曝光量、条纹对比度对光栅槽形的影响。结果表明:在显影条件确定时,光栅掩模占宽比随光刻胶曝光量的增大而减小,条纹对比度减小,则不仅使光栅占宽比减小,同时也是使光栅槽深减小的主要原因,这样做的前提是预先通过实验和计算确定出一个曝光量上限Ec。该方法能够反映光栅掩模形状的演化规律,为全息光栅参数预测和工艺控制提供依据。     

全息光栅实时显影监测曲线的理论模拟

在特定的工艺条件下,光刻胶的非线性效应非常显著;合理地利用非线性效应,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模。为了分析清楚非线性效应对光栅沟槽成形的作用机理,有必要建立一个显影理论模型。模拟得到的光栅轮廓和实验样片的扫描电子显微镜照片结果很吻合。根据这个模型,进而使用光栅严格理论,得到其主要特征与实时监测实验曲线一致的理论模拟监测曲线。理论分析和实验证实,该模型基本表征了工艺条件对光栅沟槽形状的影响,并揭示了光刻胶呈现显著非线性效应时,必然对应着明暗条纹中心位置之间的显影刻蚀速率相差很大。这个模型为全息光栅的工艺研究提供了一个有效的理论分析工具。     

介绍一种提高全息图衍射效率的显影方法

全息术中,研制高衍射效率的新型感光记录材料、探索提高衍射效率的显影工艺成为一个重要的研究课题。本文介绍我们的一项实验研究结果——一种简便易行的显影方法,它能明显地提高普通银盐干板全息图的衍射效率     

全息光学透镜制作工艺及成象分析

本文着重讨论乳状液(文中所指的记录介质)的厚度不均匀与波前再现的影响,以及曝光量对制作全息光学透镜与再现成象的关系。     

重铬酸盐-聚乙烯醇作为全息实时记录材料的研究及应用

本文报道了将重铬盐酸-聚乙烯醇用作全息的实时记录介质的新发现.这种感光材料的分光感度和分辨率同重铬酸明胶不相上下,衍射效率可达30%左右.其独特之处是能够实时显影、原位用热或光定影,用它制作的全息图还具有耐高温、耐潮湿和不发霉等优点.文中分析了重铬酸盐-聚乙烯醇的感光成像机理和全息记录特性,最后还给出了这种材料在实时干涉计量、全息存贮及特征识别三个实验中运用的结果.     

2.5D空间光滤波器设计与制备

纯相位迭代全息图可以用来设计空间光滤波器.由于介质与空气存在折射率差,空间光在经过全息干板时,会产生相位变化.文章以每个像素光刻胶的高度调制相位,设计出了 2.5D灰度全息空间光滤波器.文章还利用电子束光刻机进行灰度曝光,制备不同高度的光刻胶,通过干法刻蚀将图案刻蚀到硅片上.对电子束曝光工艺、显影参数、刻蚀工艺等进行了...     

非线性介质对粒子场同轴全息成像的影响

 通过理论分析和实验验证,研究了非线性折射率介质对粒子场同轴全息成像的影响。利用粒子场同轴夫琅和费全息记录和光束在非线性介质中传输的波动方程,得出了光波的复振幅和强度分布。数值模拟了介质在线性和非线性时全息记录的情况,并进行了实验验证。结果表明：光波经非线性介质传输后,全息干板记录到粒子场的再现图像,这为高功率激光应用于全息照相提供参考,原因是高功率脉冲激光聚焦易击穿介质产生非线性传输。     

非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

从理论和实验两方面研究了非线性曝光对全息方法制作光子晶体的影响.使用低折射率材料（n=152）制作了金刚石结构光子晶体,通过控制曝光量使记录介质工作在非线性曝光区域,发现光子禁带的特性得到了明显的改善.并由此提出了用低折射率材料实现全空间禁带的设想. 关键词： 光子晶体 光学全息 非线性曝光     

一种普适型国产银盐感光胶的全息特性实验研究

实验研究了一种普适型国产HR_1型卤化银乳胶的主要全息特性;论述了其曝光量对衍射效率的影响;比较了两种化学后处理方法对衍射效率和信噪比的影响。实验结果表明,HR_1型卤化银乳胶是一种适合于记录透射和反射型合成全息图的记录介质,可以获得较高的衍射效率和信噪比。     

绿敏全息记录介质的光敏剂合成及性能研究

全息记录介质中光敏剂的用量非常少,但对记录波长的选择起到决定性的作用。针对最常用的532 nm激光器,设计并合成一系列环戊酮类光敏剂,研究它们的光谱特性、敏化引发单体聚合的反应动力学及其在光致聚合物型全息记录介质中的应用性能。结果表明,含有BTMI(2,5-bis(2-（1,3,3-trimethylindolin-2-ylidene）ethylidene)cyclopentanone)的样品具有最优的全息记录性能,在总曝光量为64 mJ/cm²的情况下单光栅衍射效率达到90%,折射率调制度为4.14×10^-4,Bragg光栅选择角的半峰全宽为0.90°。在单个激光脉冲（波长为532 nm,脉宽为150～200 ps,能量密度为25 mJ/cm²）的曝光下,该样品能够获得衍射效率为7%的全息光栅,说明可以实现信息的快速记录。通过配方的优化,BTMI有望应用于制备快速且高密度的全息存储介质。     

全息记录新材料：重铬酸盐—三醋酸纤维素酯

本文报道一种新的全息记录材料：重铬酸盐－三醋酸纤维素酯组成的感光介质。这种全息材料具有较强的实时效应，较高的衍射效率，良好的抗潮能力和环境稳定性等特点。文中分析了这种材料的感光成象机理，通过实验研究了其全息记录特性，给出了实验结果。     

全息光栅非对称曝光显影的理论模拟及实时监测

两束记录光非对称入射必然造成光刻胶中潜像光栅"沟槽"的倾斜,进而影响显影后光栅沟槽的形状。特别是在凹面全息光栅的制作中,两束记录光一般都是非对称入射。为了能够从理论上分析并指导非对称全息光栅的制作,建立了非对称曝光、显影理论模型,重点分析了两束记录光从光栅表面一侧照射的情况。运用此模型模拟了光栅沟槽的形成过程,计算了全息光栅制作中非对称曝光、显影的实时监测曲线。理论计算显示,非对称曝光下,曝光实时监测曲线和显影实时监测曲线变化趋势与对称曝光时相同,只是衍射效率值不同,这与实验结果吻合;数值模拟光栅沟槽的演化发现,非线性效应特别显著时得到的沟槽为倾斜矩形,非线性效应比较显著时得到的沟槽为非对称梯形,非线性效应受到抑制时得到的沟槽为非对称性不明显的正弦形,这与实验结果一致。该模型能够有效地指导全息光栅掩模的制作,有助于为离子束刻蚀工艺提供所需的合格掩模。     

厚层抗蚀剂显影轮廓分析

DILL上曝光模型和MACK显影模型，编制了接触式曝光系统的厚层抗蚀剂光刻模拟软件，用其分析在理想曝光剂量条件下，抗蚀剂显影后的线宽和侧壁陡度随显影时间的变化规律，分析得出了给定厚度的抗蚀剂的显影时间，为实验工艺上严格控制显影时间提供依据。     

CSPD-1溶液物理显影研究

本文介绍了命名为CSPD-1溶液物理显影处理工艺,用于中国全息干板的实验研究结果;全面地总结了实验操作中的技术关键问题;对观察到的新工艺优越性产生的机制,作了初步的理论讨论。