弗里曼离子源综述

弗里曼离子源至今已有30多年的历史,仍然是适用面最广、用得最多的一种离子源。由于它能够对大多数元素产生聚焦得很小、束流达毫安级的离子束,而且具有较宽的能量范围,因而成为人们普遍选用的一种离子源。就半导体离子注入的应用来说,该源具有性能好和操作简单等特点,因而被广泛地用作硅器件的掺杂。几十年来弗里曼离子源已成功地应用在离子注入机领域的许多方面,其中包括束流为毫安级的多种金属离子束的常规生产。本文将详细讨论离子束的产生方法,对灯丝寿命和离子源研究的最新进展及今后展望等也分别作了介绍。     

离子注入用强流微波离子源

一种用于强流离子注入的新型2.45GHz微波离子源已由Varian公司研制成功。该源使用永磁铁产生ECR磁场。与典型的螺线型磁场微波源相比,这种源具有设计简单、结构紧凑的特点。利用强磁场和高微波功率密度,引出硼束流中~(11)B~+离子含量可达30％。以前对有关离子注入用微波离子源的研究中,通常都没有涉及到对评估离子源实用性很重要的引出B离子时离子源的性能或寿命,这是由于引出硼离子的微波离子源性能较差且寿命有限。本文对BF_3源的特性和寿命特征作了详细的论述。     

离子注入机金属铝离子源的气源的优选

注铝离子注入机,是宽禁带半导体SiC产业的关键设备,金属铝离子源直接影响了整机的性能指标,特别是PM周期和离子源寿命.为保证离子源的长寿命和铝离子大束流,针对金属铝离子源放电的辅助气源进行了一系列的研究和实验,包括铝离子产额、束流质谱、阴极使用寿命及污染导致的放电打火情况等,通过实验结果筛选出最佳的气源.     

用于强流离子注入的多极头离子源

多极头离子源技术已在融合和等离子加工的中性束加热方面获得了应用,但把这种离子源应用于离子注入的报道却少见。多极头离子源的几何形状能满足离子注入所希望的若干特征,具有束流引出面积大,产生静等离子体和形成手段灵活等特点。与常规的弗里曼源不同,它不需外加磁场、用于强流离子注入机的多极头离子源已研制成功,实验结果表明这种离子源的性能与标准弗里曼源相似,而且源的寿命更长。本文将介绍用BF_3作为掺杂气体的多极头离子源性能和寿命的实验结果。     

高温溅射离子源及其在LC—3型高能离子注入机上的使用

高温溅射离子源已用于LC—3型离子注入机,可以成功地进行全元素注入。 本文描述了该离子源的结构和使用状况,根据我们的实践,改进了源的热炉。束流到达靶上的强度从零点几微安到几个微安。     

金属蒸气真空孤离子源及其束流密度分布

我们研制了一种金属蒸气真空孤(MEVVA)离子源。这是一种新型的强流金属离子源,特别适用于离子注入材料表面改性中。测量了该源的引出束流密度分布,并估算了束散角和发射度。     

高频离子源中等离子体化学反应和非等离子体化学反应的实验

等离子体化学反应在高频离子源中的应用,高频离子源中应用等离子体化学反应和非等离子体化学反应对于引出金属离子的区别已做过报导。这篇文章是叙述一种实验装置,利用它创造一个条件,为了使等离子体和非等离子体对金属的剥蚀速率可以进行比较,排除不同次实验中由于不易看到的条件变化形成的误差,也避免了实验工作者的习惯操作引起的差别。实验为高频离子源中应用等离子体化学反应选择什么结构提供了根据。     

离子束刻蚀设备中离子源故障诊断和维修

介绍了离子束加工技术在半导体工艺中的应用以及离子束刻蚀机的真空和控制系统、Veeco直流栅极离子源及其电源MPS-5001的结构和工作原理、PBN中和器的原理和作用。介绍了离子源电源参数的调整技巧及需要注意的问题,在此基础上给出了离子源常见故障现象的原因及解决办法。     

磁场对脉冲离子源镀膜均匀性的影响

介绍了在各种磁场作用下利用脉冲真空电弧离子源镀膜的实验现象和实验结果,在此基础上,主要分析了磁场对脉冲真空电弧离子源镀膜均匀性的影响。     

宽束矩形冷阴极潘宁离子源研究

根据大面积离子束辅助沉积MgO薄膜的需要，本文研究了具有并行阳极结构的宽束矩形冷阴极潘宁离子源。在简要说明冷阴极潘宁离子源基本原理的基础上，分析了在设计宽束矩形的离子源中主要考虑的问题，并给出初步的实验结果。     

潘宁离子源中电磁场和气压对氢气电离的影响

分析了冷阴极潘宁离子源中氢的碰撞电离过程，定性讨论了电磁场强弱、压强大小对氢电离的影响，并阐述了电极材料的特性及选用方法，可为设计小型潘宁离子源部件提供参考依据，对提高潘宁离子源工作稳定性具有一定的实际意义。     

离子注入硅形成绝缘埋层的红外反射谱分析

高剂量、大束流的O~+或N~+注入硅中经高温退火后能形成质量很好的SOI(Silicon onInsulater)材料。在波数范围为5000—1500cm~(-1)的红外波段内,硅及SiO_2或Si_3N_4绝缘埋层对红外光均无吸收。采用计算机模拟不同处理条件下的样品在该波段范围的红外反射谱,得到了样品的折射率随深度的变化关系,所得结果与透射电子显微镜、离子背散射等方法所得的分析结果符合得很好。     

推荐使用—透射电镜灯丝发射自动控制器

本文介绍了透射电镜灯丝发射自动控制器的原理和特点。本控制器的使用,不仅可简化电镜操作,还可延长灯丝的使用寿命。     

新型大规模三维均匀低温等离子源理论及设计

给出了一种新型大规模三维均匀低温等离子源的工作原理、设计参数和具体实现方案。它使传统感应等离子源由二维均匀转变为三维均匀成为可能，为新型大规模集成芯片加工设备——等离子铣提供了必要的理论及技术准备。     

大角度离子注入机控制系统软件设计

大角度离子注入机的控制系统具有控制部件和控制算法复杂、支持SEMI自动化软件标准等特点,通过优化软件结构和关键控制算法,成功实现控制系统设计和GEM标准组件设计,测试证明软件自动化程度高、稳定、可靠。     

单片机在单纤维电子强力仪中的应用

针对目前美、日、欧洲等国的电子强力仪大部分为通用的材料试验机，而专门用于单纤维测试的产品不多，且这些产品所提供的信息量较少，将单片计算机应用到单纤维电子强力中，使单根纤维的一次拉伸，伸长弹性，负荷弹性，定伸长反复拉伸，递增定负荷反复拉伸，松驰及蠕变等各项性能的测试过程自动完成且能对各项性能指标进行统计运算并自动输出打印。