矩阵投影算法用于校正ICP—AES中的光谱干扰

本文将矩阵投影算法应用于ＩＣＰ－ＡＥＳ中光谱干扰的校正，在有关文献方法基础上，对残差作了进一步的校正，并采用最优化技术确定背景光谱的最优解，因而提高了方法的准确度。对实际干扰体系的校正结果表明，本方法能够对ＩＣＰ－ＡＥＳ中比较复杂的结构背景以及谱线重叠干扰进行较为准确地校正。     

相互干扰系数法校正ICP—AES多元素同时分析的光谱干扰

提出了一种相互干扰系数法校正ＩＣＰ－ＡＥＳ多元素同时分析的光谱干扰方法。该方法把分析对象视为所有组分之间都相互关联的体系，并选择严密的数学模型来校正复杂组分间的相互干扰。     

ICP—AES分析中干扰及其校正方法的进展（Ⅱ）

本文对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰继续进行综述，本文继（１）而继续对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰进行综述。     

ICP—AES分析中干扰及其校正方法的进展（Ⅰ）

本文对ＩＣＰ－ＡＥＳ分析中的光谱干扰，非光谱干扰及其校正方法的研究及应用的新进展进行了综述。     

人工神经网络法校正ICP—AES中重叠光谱干扰

本文将反向传播人工神经网络（ＢＰ－ＡＮＮ）用ＩＣＰ－ＡＥＳ中重叠光谱干扰的校正，利用模拟的Ｃｅ４１３．３８０ｎｍ和Ｐｒ４１３．３６１ｎｍ光谱对神经网络的训练方式，输入值范围，噪声影响等作了较详细的讨论。     

ICP—AES中四十种常见元素光谱干扰的研究及校正

本文用Leeman Plasma-Spec等离子光谱仪对常见四十种元素的光谱进行了探讨,测定了其光谱干扰系数,并对干扰系数校正法进行了研究。     

ICP—AES光谱模拟和谱线选择

本文采用Ｖｏｉｇｔ线形函数对ＩＣＰ－ＡＥＳ中谱线重叠和结构背景的干扰作了模拟。结果表明，模拟的光谱与实测的光谱基本一致，因而利用模拟光谱对谱线选择具有一定的指导意义。     

稀土元素原子发射光谱及其谱线干扰的高分辨率ICP—AES研究： …

本文是系列工作的第四部分。利用光栅刻线为３６００条／ｍｍ的顺序扫描高分辨率ＩＣＰ－ＡＥＳ光谱仪研究了铕和钆分别作为基体时对其他１４个元素共６６条“首选分析线”的光谱干扰情况,获得了相应的光谱干扰轮廓和其他光谱干扰信息,为选择不同稀土基体中的稀土元素最佳分析线提供了有益的参考依据。     

EDTA—纤维微柱同时富集多种痕量元素以及电感耦合等离子体…

制备了ＥＤＴＡ－纤维滤纸片，以此做为微柱填充同时富集Ｆｅ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｖ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｃｏ和Ｎｉ等离子，结合电耦合等离子体发射光谱法（ＩＣＰ－ＡＥＳ）测定，回收率为９２～１０６％。本法富集倍数为１００以上。     

Measurement of moments for centroid estimation in Shack-Hartmann wavefront sensor—a wavelet-based approach and comparison with other methods

A wavelet-based method of moment calculation with a set of basis functions is presented for centroid estimation in a Shack-Hartmann Wavefront Sensor. The method has been compared with other algorithms such as statistical averaging, FFT and least-squares method. A comparative analysis shows that wavelet method has a high accuracy and processing speed, and better suited for wavefront reconstruction applications. Further, the wavelet method presented here has a variable accuracy and resolution, and can be optimized for a particular application under consideration.     

Fitting models to correlated data III: A comparison between residual analysis and other methods

Applications of the χ² test, the F test, the Durbin-Watson d test, and the f (or Sign) test, to examples of correlated data treatment, show important drawbacks with the d test and (apparently) with the f test. An analytical approach based on residual analysis suggests an improvement in their use that leads to better results at lowest order; it also points out a distinction between goodness-of-fit tests, as the f test, and goodness-of-modeling tests, as the χ² and F tests. The residual analysis method is applied to the same examples; it looks faster, simpler, and often more accurate than the classical ones.     

ICP-AES分析法中铁基体非光谱干扰效应的机理研究

采用电感耦合等离子体发射光谱法研究了浓度为0～5 mg·mL-1的铁基体的非光谱干扰效应.通过计算干扰函数各项的数值及考察各项数值与铁基体浓度的对应关系,初步探讨了铁的非光谱干扰的一些规律,发现铁基体浓度变化对激发温度、电子数密度和电离度并无显著影响,绝大部份分析元素谱线的活度系数项都随铁基体浓度升高而降低,而干扰函数各项对干扰函数的贡献情况,则因离子线和原子线而异,造成这种情况的原因在于二者的电离因子项存在明显的差别.