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采用定电容电压法,测量了n型Al0.26Ga0.74As:Sn中DX中心电子热俘获瞬态,以及不同俘获时间后的电子热发射瞬态;并对瞬态数据进行数值Laplace变换,得到其Laplace缺陷谱(LDS)。通过分析LDS谱,确定了电子热俘获和热发射LDS谱之间的对应关系,从而得到热俘获系数对温度依赖关系,以及与Sn相关的DX中心部分电子热俘获势垒的精细结构;通过第一原理赝势法计算表明,Sn附近的Al/Ga原子的不同配置是电子热俘获势垒精细结构产生的主要原因。 相似文献
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利用深能级瞬态谱(DLTS)和瞬态光电阻率谱(TPRS)研究了利用金属有机物化学汽相沉淀(MOCVD)生长的未有意掺杂的In0.49Ga0.51P中缺陷对载流子的俘获过程和发射过程.利用DLTS测量观测到了一个激活能为0.37eV的缺陷,该缺陷的俘获势垒值介于180meV到240meV之间.该缺陷的俘获势垒值的大的分布被解释为缺陷周围原子重组的微观波动.在研究中发现研究这些缺陷的俘获过程比发射过程更有效,俘获势垒为0.06eV和0.40eV的两个缺陷在俘获过程中被观测到,而在发射过程中并没有观测到 相似文献
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基于极化子和双极化子的物理图像,采用无拟合参数的巨正则统计方法计算了Si掺杂的AlxGa1-xAs的导带载流子浓度,计算得到的理论结果从高温到低温都与实验结果定量一致.计算证实了AlxGa1-xAs:Si中的DX中心的基态DX-是电子-晶格相互作用产生的负电双极化子.处于热平衡状态时,施主Si在AlxGa1-xAs中除了电离状态,处于不同晶格构型的单、双极化子态共存,低温时双极化子态被冻结;光照下发生持续光电导时,双极化子态变成单极化子态同时向导带释放一个电子,此过程伴随着进一步的晶格弛豫.理论与实验的对照说明单电子局域的DX0态在热平衡时并不能稳定存在,这和提出的双极化子机制是完全一致的. 相似文献
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研究分子束外延(MBE)生长的应变In0.2Ga0.8AsGaAs折射率梯度变化异质结单量子阱激光二极管的快速热处理(RTA)效应.结果表明,RTA移除了InGaAsGaAs界面非辐射中心,提高77K光致发光效率和有源层电子发射.同时Al和Ga原子互扩散,也增加了AlGaAs波导层DX中心浓度.RTA处理后样品电流冲击老化实验证明DX中心浓度呈现出相应的增加.这表明DX中心可能是激光二极管性能退化的原因之一.
关键词:
量子阱
快速热处理
电子发射
DX中心 相似文献
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电子俘获材料Eu,Sm∶CaS荧光特性的研究 总被引:1,自引:1,他引:0
研究了电子俘获材料Eu ,Sm∶CaS在室温下的荧光激发谱和荧光辐射谱。荧光激发谱由四个激发带构成 ,是由Eu2 + 的 4f7→ 4f55d跃迁和基质吸收所产生的。可见光激发下的荧光辐射谱是由一个极强的宽带和两个极弱的窄带构成 ,紫外光激发下的荧光辐射谱中不仅出现了以上三个辐射带 ,还出现了七个较强的窄带。这些荧光辐射带分别是由Eu2 + 的 4f65d → 4f7、Sm3 + 的 f→ f、Eu3 + 的 f→ f跃迁所产生的。研究还发现 ,当激剂浓度一定时 ,Eu2 + 的辐射带明显比Sm3 + 的辐射带强。 相似文献
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用考虑边界修正的一级玻恩畸变波方法(BIB)计算了质子与He原子碰撞中的电子俘获面。结果表明在所关心的能区(100keV~2400keV)与实验结果较好地一致 相似文献
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用两态原子轨道展开方法研究计算了中高能α粒子与类氦离子(Be2+,B3+,C4+,N5+,O6+)和Li原子碰撞中电子俘获截面。结果表明,在中高能区的结果与实验较好地符合。 相似文献
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P. M. Mooney 《辐射效应与固体损伤》2013,168(1-2):281-298
Abstract The DX center, the lowest energy state of the donor in AIGaAs with x < 0.22, is responsible for the reduced conductivity as well as the persistent photoconductivity observed in this material at low temperature. Extensive studies of the properties of this deep level in Si-doped AIGaAs are reviewed here. Data are presented showing that the characteristics of the DX center remain essentially unchanged when it is resonant with the conduction band (x < 0.22) and that, independent of other compensation mechanisms, the DX center therefore limits the free carrier concentration in Si-doped GaAs to a maximum of about 2 × 1019 cm?3. Recent measurements suggesting that the lattice relaxation involves the motion of the Si atom from the substitutional site toward an interstitial site are also presented. Evidence for the negative U model, that the DX level is the two electron state of the substitutional donor, is discussed. 相似文献
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The significance of both the density N, and the apparent built-in voltage Va, as usually obtained from C-V measurements on Schottky barriers containing DX centers, is clarified. It is also shown that, owing to the non-equilibrium occupancy of the DX center, at low temperature the electron density in the flat-band region depends on the cooling rate of the sample. 相似文献
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E. P. O'reilly C. G. Crookes D. Lancefield A. R. Adams J. J. Harris C. T. Foxon 《高压研究》2013,33(1-6):34-36
Abstract The electron mobility of heavily n-dopped GaAs and AlGaAs increases rapidly with applied hydrostatic pressure as carriers are trapped at DX centres. This has been taken as evidence against the Chadi and Chang (CC) negative charge state model of the DX centre. We argue that DX? centres are formed close to d+ centres in highly doped samples, and that the mobility data is in fact fully consistent with the CC model, when such dipole-like correlations are included. 相似文献
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