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相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 531 毫秒
1.
针对高平均功率固体激光器对Nd:YAG晶体板条的技术需求,进行了Nd:YAG晶体板条低透射波前误差加工技术研究。详细分析了光学加工过程中引起板条端面透射波前畸变的误差来源,并提出工艺技术解决方案。实验结果表明,在板条抛光阶段通过采用合成盘硬抛光工艺以及新的工件装夹技术,能够解决传统板条加工工艺在面形及楔角精度方面可控性差的问题,更容易实现Nd:YAG晶体板条的低透射波前误差加工。对于150mm×30mm×2.5mm规格的Nd:YAG晶体板条元件,端面透射波前畸变PV值达到0.74λ。  相似文献   

2.
针对高平均功率固体激光器对Nd:YAG晶体板条的技术需求,进行了Nd:YAG晶体板条低透射波前误差加工技术研究。详细分析了光学加工过程中引起板条端面透射波前畸变的误差来源,并提出工艺技术解决方案。实验结果表明,在板条抛光阶段通过采用合成盘硬抛光工艺以及新的工件装夹技术,能够解决传统板条加工工艺在面形及楔角精度方面可控性差的问题,更容易实现Nd:YAG晶体板条的低透射波前误差加工。对于150mm×30mm×2.5mm规格的Nd:YAG晶体板条元件,端面透射波前畸变PV值达到0.74λ。  相似文献   

3.
根据弹性板壳理论,建立了大口径光学元件的几种理论模型。提出了一种补偿大口径光学元件重力变形的方法,该方法通过在透镜镜框边缘施加作用力,使透镜产生与重力变形反向的挠性变形,抵消重力变形的影响。建立了带镜框的大口径透镜的分析模型,证明了通过优化施加力的大小和支撑点位置使透镜产生挠性变形的方法能有效消除重力变形的影响。  相似文献   

4.
大口径光学元件重力变形补偿的设计分析   总被引:2,自引:0,他引:2  
根据弹性板壳理论,建立了大口径光学元件的几种理论模型.提出了一种补偿大口径光学元件重力变形的方法,该方法通过在透镜镜框边缘施加作用力,使透镜产生与重力变形反向的挠性变形,抵消重力变形的影响.建立了带镜框的大口径透镜的分析模型,证明了通过优化施加力的大小和支撑点位置使透镜产生挠性变形的方法能有效消除重力变形的影响.  相似文献   

5.
针对超薄光学元件在加工过程中因重力和磨头产生应力形变的特点,提出了一种高效、先进的超薄光学元件综合加工方法。该方法综合运用了精密铣磨、精密抛光、离子束修形等先进技术进行面形控制。在铣磨阶段采用受力分析和误差补偿的方法降低了元件变形引入的面形误差;在抛光阶段通过气囊抛光和沥青抛光的迭代实现了面形快速收敛;在离子束加工阶段充分利用其非接触、无应力的加工特点实现了高精度面形修正。实验选择径厚比为34(边长152 mm,厚度6.35 mm)的方形融石英材料进行加工实验。结果表明:在铣磨、抛光、修形阶段的各项指标都达到了精密光学元件的加工水平,最终的面形精度为PV=25 nm,RMS=1.5 nm。该加工方法可以广泛应用于超薄光学元件的高精度加工。  相似文献   

6.
由于激光器生产者对大功率的追求和新应用的开发,不断研制出了C0_2激光器的光学元件。激光材料加工应用日益广泛,这就要求使用革新的光学元件,以提高性能,或执行新功能。下面介绍透射和反射光学元件的一些新研究成果和典型应用。  相似文献   

7.
针对高功率激光装置所需的大口径光学元件,进行了小工具数控抛光中频误差控制工艺研究。对数控加工过程中卷积效应对中频误差的影响进行分析,并建立了残余误差分析模型,对卷积效应所引入的残余误差进行定量分析。利用该模型对中频误差修正工艺参数进行了仿真分析,并进行了修正工艺参数实验验证,确定了全面匀滑最优化参数。在最优化工艺参数的基础上,针对大口径光学元件开展了数控抛光中频误差控制工艺实验验证,使400 mm口径平面窗口元件加工精度达到透射波前PV值为0.27,透射波前PSD1 RMS值为1.67 nm。该实验结果表明,通过400 mm口径平面窗口元件的中频PSD1控制技术研究,使窗口元件能够达到高功率激光装置对中频PSD1的指标要求。  相似文献   

8.
本文介绍了光学元件高效加工工艺的主要特点和国内外高效加工工艺的状况和水平。着重提出了我国现阶段应建立两种不同类型的高效生产线,即成盘(刚性盘)高效线和单件(机械装夹)高效生产线。文章对光学元件高效加工工艺中存在的一些问题进行了较详尽的阐述,并对如何建成全面的高效生产线(包括特种加工在内)提出了一些想法。  相似文献   

9.
针对传统光学元件增透的方法中存在物理、化学性质的限制而导致热失配、稳定性不足等问题,提出了对光学表面直接加工圆球和圆锥形两种微纳结构的增透方式;构建了两种微结构模型并以0.38~0.9μm的入射光在不同入射角的条件下对二者进行数值仿真;分析了两种模型随波长与入射角变化的反射率、透射率和电场的变化情况,并对两种实验元件进行实验测试;结合两种微纳结构的仿真和实验数据结果进行对比,获得了两种微纳结构对光透射性能的影响情况。结果表明:入射光波长由小增大时,光学元件透射率增大,并随着波长继续增大透射率逐渐趋于稳定。可为表面微纳结构对光透射性能的影响研究,以及对微纳光学器件的优化设计、制造提供参考。  相似文献   

10.
大口径非球面元件可控气囊抛光系统   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
根据大口径非球面光学元件的实际加工需要,设计并制造可控气囊抛光系统,并对机构进行运动学仿真,仿真结果表明,气囊自转轴的运动空间可以满足大口径非球面光学元件的连续进动加工要求。为了证明所设计系统的可加工性,以直径320 mm的圆形平面光学元件进行加工实验。经过该气囊抛光工具24 h的抛光后,工件达到较好的面型精度,光学元件的表面粗糙度由0.272减小到0.068(=632.8 nm), PV值从1.671降低到0.905。对光学元件的实际加工实验结果表明:可控气囊抛光系统在加工过程中结构稳定性好,符合设计要求,可有效提高加工工件面型精度。  相似文献   

11.
惯性约束聚变频率转换系统中,大口径薄型KDP晶体的面形质量是影响频率转换效率能否达到设计要求的关键因素之一。针对45放置状态下口径为400 mm400 mm的三倍频KDP晶体,采用ANSYS有限元分析软件,建立了不同夹持方式和具有不同加工误差的KDP晶体模型和夹具模型,分析了加工误差对不同夹持方式下KDP晶体附加面形的影响,给出了不同加工误差和不同夹持情况下,KDP晶体附加面形的P-V值和RMS值。研究结果表明,夹持方式和加工误差是引起KDP晶体附加面形变化的重要因素,正面压条夹持方式即使在晶体和夹具存在加工误差时也可以较好地控制晶体的附加面形。  相似文献   

12.
The application of electron-beam lithography to the generation of diffractive optical elements topology is examined. The formula for the estimation of exposure data volume for variable-shaped electron-beam lithography is presented as a function of diffractive optical element parameters and approximation accuracy. A special software dedicated to preparing exposure data for fabrication of diffractive optical elements is developed. Diffractive optical elements with an artificial refractive index are manufactured with a feature size much less than the wavelength. Design and experimental results on photomasks fabrication for an optical element focusing radiation into a ring with pregiven parameters are presented. The photomask set is manufactured for a reflecting optical element focusing the high power CO2 laser beam into two points with required parameters for laser welding.  相似文献   

13.
1IntroductionWiththedevelopmentofmodernindustry,therearemanylargeandhugeelementsandequipments,suchaslargegeneratorsandwaterw...  相似文献   

14.
 由于空间失重状态与地面状态不同,大口径空间反射镜在地面检测时需要通过特殊支撑结构对其重力进行卸载,同时严格控制支撑力引入的反射镜变形,以满足反射镜高精度面形检测的要求。通过对一口径750 mm的空间SiC非球面反射镜进行检测,对比分析检测结果和有限元仿真结果,研究支撑结构对反射镜面形所造成的影响。主要针对吊带支撑和中心支撑进行详细的检测验证,分析其不能实现该反射镜高精度检测的原因;通过改进支撑方案,最后提出背板支撑,改善支撑变形的影响,不同角度下测量重复性达到纳米级,收到较好的检测效果,为该反射镜加工质量和加工效率的提升奠定了基础。  相似文献   

15.
光束取样光栅(BSG)是一种重要的用于光束取样诊断的衍射光学元件.在惯性约束聚变(ICF)终端光学系统中所使用的BSG,强激光产生的近场调制可能导致其自身的激光诱导损伤从而造成元件不能继续正常工作,为了对其在强激光条件下的正常运行提供分析的依据,采用傅里叶模式理论对BSG内部的近场调制特性进行了模拟计算.计算结果表明,BSG基片内部调制度较小,但仍然存在光强分布不均的情况,增加了这些位置产生激光诱导损伤的风险.另外,通过对BSG制作误差分析得出了其近场调制随各种制作误差的变化关系,结果表明BSG刻槽深度误 关键词: 光束取样光栅 激光诱导损伤 惯性约束聚变 傅里叶模式法  相似文献   

16.
Stretchable and conformable optical devices open up very exciting perspectives for the fabrication of systems incorporating diffracting and optical power in a single element. Supersonic cluster beam implantation of silver nanoparticles in an elastomeric substrate grooved by molding allows effective fabrication of cheap and simple stretchable optical elements able to withstand thousands of deformations and stretching cycles without any degradation of their optical properties. The nanocomposite‐based reflective optical devices were characterized both morphologically and optically showing excellent performances and stability compared to similar devices fabricated with standard techniques. The nanocomposite‐based devices can therefore be applied to arbitrary curved nonoptical grade surfaces in order to achieve optical power and to minimize aberrations like astigmatism. The high resilience of the nanocomposite material on which the devices are based allows them to be peeled and reused multiple times.  相似文献   

17.
用二元光学技术制作计算全息波面变换元件   总被引:9,自引:3,他引:6  
张良  史云飞 《光学学报》2001,21(9):150-1152
基于计算全息原理与二元光学技术设计制作了应用于机载平视显示器(HUD)中的计算全息波面变换元件,该元件具有较高的衍射效率,一块二元相位型计算全息元件的衍射效率比一般计算全息图的衍射效率提高了四倍,并能产生传统光学元件不能实现的光学波面,如非球面,环状面和锥面等,制作工艺简单,复制简便。  相似文献   

18.
For a projection objective of a lithographic setup designed for the wavelength range λ = 13 nm, optical distortions of its mirror components should not exceed a value of about 1 nm. The fabrication of mirrors of such an optical quality is very expensive. We have studied the possibility of using the thermal deformation of an optical element to improve the quality of its surface shape. It is shown, in particular, that, with this method, quasistatic large-scale (no smaller than 20% of the element diameter) optical distortions with an amplitude of about 15 nm can be compensated with an error up to 0.5 nm, that is, λ/20–λ/30.  相似文献   

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