苏联光学零件细磨现状

<正> 当今在世界上广泛采用金刚石磨具对光学零件进行细磨加工。在苏联凡年产量超过万件的大型光学仪器厂全采用金刚石磨具细磨。毛坯可以是球面的,也可以是平面的。直径5～     

大非球面主镜细磨时面形的检验

本文采用非电量测量技术来实现大非球面主、副镜在细磨阶段的检验,从而解决了在细磨阶段的非球面度的问题。     

关于锗单晶抛光工艺的点滴体会

锗单晶具有良好的透光性能,而且不易潮解,在红外光学仪器中,常用作光学元件.但是锗单晶质脆较软,加工时要达到比较高的光洁度和较好的平面度比较困难,需要采取一定的措施.由于我们单位科研任务的需要,自己加工了一些锗元件(主要是平行平面锗镜),进行了铭单晶的抛光工艺,现介绍如下,供同志们参考.1.表面细磨 锗单晶磨砂与光学玻璃磨砂差不多.由于锗的硬度较低,在用金钢砂细磨时,表面磨得越细越均匀越好,最后的磨料采用303#-304#.为了保证较好的平面度,最后要在玻璃平板上采用手工细磨几分钟.2.抛光 锗另件的抛光所用的辅料和抛玻璃是不大一样…     

高精度八角平面镜的磨制工艺

本文阐述了460×310×60八角平面镜的粗磨、细磨和抛光修改工艺过程,记叙了对保护玻璃的选择、磨制及拼盘时应注意的事项。     

降低大理石表面粗糙度的简便方法

<正> 随着高层建筑物的日益增多,大理石的需要量也随之迅速增加,但目前生产的大理石日久天长以后会使表面变得粗糙,失去原来的光亮表面,达不到高层建筑物的外观要求。大理石的加工方法很多,但目前的生产工艺不外有锯料、粗磨、细磨、精磨、抛光和打蜡抛光及按尺寸切割等工序。近几年来我们着重研究了抛光和打蜡抛光工序,并取得了一些经验,     

离轴抛物面镜的单件加工技术

介绍了单件加工离轴抛物面镜的基本过程。主要是先按公式算出起始球面半径，并磨好这个球面。然后计算出最大非球面修磨量，根据其大小决定修改非球面从细磨开始还是直接用抛光修改。用刀口检验离轴抛物面时的要点是一定要用直角刀口。修磨时要先修误差最突出的地方。关键的问题是避免出现马鞍形的局部误差。     

化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工

 利用传统光学加工方法，采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD) SiC进行了粗磨、细磨加工；然后，利用颗粒直径从4 μm到1 μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光，发现SiC表面存在纳米级划痕；最后，改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光，表面粗糙度达到0.6 nm(RMS)，表面纳米级划痕得到很好改善，获得了较高表面质量的超光滑表面。     

细磨抛光中镜片腐蚀的一般特征及其解决方法

本文对ＺＦ７玻璃材料在细磨、抛光加工过程中造成镜片的腐蚀进行了分析，并通过试验提出了新的、简易的控制腐蚀的方法。     

金刚石磨具的研磨性能及稳定性的确定

对光学零件用金刚石细磨时提出的基本要求,是保证金刚石磨具的稳定性及坚固性,并在加工后的表面上不得有擦伤。除此之外,为了确定研磨过程的工作参数,还必须掌握有关加工表面的粗糙度、金刚石粉的比耗及生产效率。众所周知,这些参数都是可变的,与金刚石细磨规范、润滑冷却液的理化性能、被加工材料及金刚石磨具的机械性能有关。金刚石磨具的参数或是按一个研磨周期范围内磨具工作能力的变化(测量动力学),或是在研磨时间不变的情况下,按照这     

非球面聚光镜样板及模具线切割程序计算

<正> 加工非球面聚光镜样板和细磨模,过去一般用放大图在投影仪上检查,由钳工制作的办法。上述办法需要投影仪和较熟练的钳工,还要绘制精确的放大图,制作时需多次修改,比较麻烦。当然上述零件也可用坐标铣床加工。但我厂没有坐标铣床。所以我们采用了程序线切割的方法,这个方法虽增加了计算的工作量,但减少了加工的工作量。下面谈谈我们的计算过程。     

铜面平面镜细磨抛光法

<正> 随着现代光学仪器的发展,往往在仪器中采用铜制光学元件,铜面平面镜就是其中的一种。由于铜面平面镜对面形、光洁度要求高。其加工工艺性也不同于光学玻璃,在加工时必然会出现新问题。通过实践,我们对铜面平面镜加工工艺有了初步的认识。现对我们试制的铜面平面镜简述其细磨抛     

高次非球面的工艺技术研究

 高次非球面在光学系统应用中意义重大,但是一直以来缺乏一套快速、有效的工艺方法。利用VC6.0编制了一款面型计算软件以辅助加工,并提出了一种新的高次非球面补偿检验方法。针对一块巡天光谱仪中口径Φ244 mm的一面平面另一面为高次非球面的改正镜开展工艺方法的设计与研究,从铣磨成形开始,根据高次非球面的特点提出了几种新型磨削工艺,建立相应的数学模型。由于高次非球面的特殊性,试验了数控铣磨直接成型法,很大程度上降低后继工艺难度,在细磨和抛光阶段采用数控小工具和整工具研磨相结合,能够很好地克服面型不平滑等技术难题。总结出了一套高效率、低成本、高精度的高次非球面工艺方法。     

紫花苜蓿粗蛋白和粗纤维近红外分析模型的建立

采用近红外漫反射光谱技术,结合偏最小二乘法(PLS),以152个来源不同的紫花苜蓿样品建立了粗蛋白和粗纤维含量的近红外定量分析校正模型。在近红外光谱范围内(950～1 650 nm)对紫花苜蓿样品采集光谱数据时,分别设置了粗磨样、细磨样两种样品的状态和1,2,5 nm三种光谱扫描间隔,对建立的模型进行准确性和重复性的验证,比较其优劣。结果显示：光谱扫描时样品为细磨样,光谱扫描间隔为2 nm时所建立的粗蛋白和粗纤维含量的校正模型最佳,其相关系数(R2_cal)分别是0.97和0.94,最佳因素数时的定标标准差(SECV)分别是0.42和0.78。所建近红外定量分析模型对独立检验集样品粗蛋白和粗纤维含量的预测值与化学值的相关系数(R2_val)分别为0.96和0.92,预测标准差(SEP)分别为0.43和0.79。该研究结果表明：利用近红外漫反射光谱法测定紫花苜蓿内在主要品质性状是可行的,为紫花苜蓿粗蛋白和粗纤维含量的检验提供了新的方法模式。     

侧边抛磨光纤波导传输特性的理论分析

在建立侧边抛磨光纤D型光纤边界条件的基础上,用三维有限差分光束传输法计算和分析了侧边抛磨光纤器件的光功率衰减随光纤的侧边抛磨长度、光纤侧边抛磨后剩余包层的厚度、以及填充聚合物材料折射率三个参量变化的特性.结果表明,侧边抛磨光纤器件的光功率衰减随着抛磨长度的增加而增大;当抛磨长度等于9 mm时,光功率衰减随着剩余包层厚度的增大而单调递减.而当抛磨长度大于9 mm时,剩余包层厚度小于3 μm的范围内,光衰减随着剩余包层厚度的增加出现振荡;当聚合物折射率与纤芯折射率相同时,光功率衰减最大.     

机械合金化过程对硫化铋块体热电性能的影响机理

以机械合金化法(MA)结合放电等离子烧结技术(SPS)制备了Bi₂S₃多晶块体热电材料. 研究了MA过程中干磨转速、湿磨时间和湿磨介质对Bi₂S₃多晶热电材料电传输性能的影响. 分析了样品的物相, 观察了显微组织, 测试了电传输性能和热传输性能. 研究表明, 以无水乙醇为湿磨介质时, 随着湿磨时间的延长, 出现了微量Bi₂O₃第二相, 样品的晶粒尺寸减小, 电阻率大幅增加, 功率因子下降. 以丙酮为湿磨介质时, 虽然不存在微氧化反应, 但是由于样品中存在大量孔洞, 导致功率因子降低. 425 r/min 干磨15 h后未湿磨的样品在573 K取得最大的ZT值0.25, 是目前文献报道的最高值.     

基于光纤侧边抛磨技术的醋酸浓度光纤传感器

演示了两种利用光纤侧边抛磨技术制备的用于醋酸浓度检测的光纤传感器.其中一种光纤传感器采用轮式抛磨法对光纤光栅的光栅区包层进行侧边抛磨加工而成,将醋酸溶液覆盖于光纤光栅的抛磨区,利用侧边抛磨光纤光栅反射峰波长的变化对醋酸浓度进行测量;另一种光纤传感器采用轮式抛磨法对普通单模光纤包层进行侧边抛磨加工而成,将醋酸溶液覆盖于光纤抛磨区,利用抛磨光纤插入损耗的变化对醋酸浓度进行测量.两种光纤传感器的实验都表明:光纤包层抛磨表面与纤芯的距离越小,测量分辨率越高.剩余包层厚度为 0 μm 的侧边抛磨光纤光栅传感器测量醋酸溶液浓度分辨率为6.67%;剩余包层厚度为O.5μm 的侧边抛磨光纤传感器测量醋酸溶液浓度分辨率为0.55%.     

台湾桤木根叶养分内循环对施肥的响应

对比分析了施肥与未施肥退耕地7年生台湾桤木树叶和细根中N、P、K、Ca、Mg 5种元素内循环差异。结果发现：生活叶和落叶,活细根和死细根中各养分含量和5种元素总养分含量均为树叶〉极细根〉细根;树叶和细根都存在养分内循环,但树叶内循环率高于细根。各养分元素在树叶和细根中的内循环率并不一致,三大元素中K内循环率最高,N次之,P最低;Mg的内循环率较低,而Ca则表现为富集。施肥与树叶和细根中养分变化显著相关（P〈0.01）,施肥后树叶和细根中N,K含量和总养分含量增加,而P、Ca、Mg的含量减少;施肥与树叶养分内循环率变化显著相关（P〈0.01）,与细根养分内循环率变化中度相关,而与极细根养分内循环率变化不相关。     

子孔径拼接技术在大口径高陡度非球面检测中的应用

 为了能够精确地完成对大口径高陡度非球面在细磨和抛光过程中的测量,提出了一种将子孔径拼接技术和补偿技术相结合的检测方法。介绍了该方法的基本原理,建立了合理的数学模型,编制了拼接计算软件。利用该方法对一外形尺寸为400 mm×300 mm的高次离轴非球面进行了测试,通过最小二乘法拟合消去各子孔径相对基准子孔径的调整误差以及整个系统的装调定位误差,得到了准确的全孔径面形分布。对实验精度和误差来源进行了分析,并将拼接面形与全孔径测量面形相对比,二者是一致的。     

侧边抛磨区材料折射率对光纤光栅波长的影响

针对轮式光纤侧边抛磨法,研究了在侧边抛磨光纤光栅抛磨区覆盖不同折射率的材料时,侧边抛磨光纤光栅Bragg波长随外界折射率的改变而变化的特性.理论计算与实验结果都表明,侧边抛磨光纤光栅Bragg波长会随抛磨区覆盖材料折射率的增大向长波长方向偏移;侧边抛磨面离光栅区纤芯表面越近,覆盖材料折射率对波长偏移的影响越大.实验指出,当侧边抛磨区覆盖材料的折射率从1.389 7变到1.447 9时,Bragg波长将会发生1.402 nm的偏移.用轮式光纤侧边抛磨法制备的侧边抛磨光纤光栅可应用于光纤光栅的波长调谐或传感器.     

反应烧结碳化硅球面反射镜的光学加工与检测

介绍了250mm口径、4200mm曲率半径的反应烧结碳化硅球面反射镜光学加工和检测的工艺流程;并按照流程依次介绍了在研磨成型、细磨抛光和精抛光过程中使用的机床、磨具、磨料及采用的工艺参数和检测方法。介绍了在光学加工和检测各个步骤中应注意的问题。展示了加工后250mm口径反应烧结碳化硅球面反射镜的实物照片,并给出了面形精度和表面粗糙度的检测结果:面形精度(95%孔径)均方根值(RMS)为0.037波长(λ=632.8nm),表面粗糙度RMS值达到1.92nm(测量区域大小为603.6ⅹ448.4μm)。