放电激励的100W XeCl准分子激光器

介绍一台放电泵浦的ＸｅＣｌ准分子激光器。其最大单脉冲能量５５０ｍＪ，在２８０Ｈｚ工作时输出功率达１０６Ｗ     

高分子材料的准分子激光表面处理

设计了３０８ｎｍＸｅＣｌ准分子激光对高分子材料的表面处理系统,初步探讨了紫外激光处理高分子材料表面的物理和化学过程,用本实验装置对聚四氟乙烯材料进行表面处理,改进了材料的粘着性,测定了材料与水的浸润角和激光能量及激光点数的关系曲线。     

20W级高稳定度高效率XeCl准分子激光器的研究

报道了一台中功率高稳定度高效率实用型XeOl准分子激光器及其工作特性.最大单脉冲能量为405mJ,最大平均功率达到3lW.不同电压下的转换效率均大于1.4%,最高达1.8%.在工作电压为22kV左右时进行10~6次寿命试验,其输出功率保持15W,波动性小于±7%.     

磁约束放电激励的XeCl准分子激光器

本文对激光激励的一种新技术—磁约束放电激励技术在XeCl准分子激光器中的应用进行了实验研究。并分析比较了以Ar或He为缓冲气体时磁约束放电激励对XeCl准分子激光输出的影响。     

小型准分子激光泵浦染料激光

本文报道一种染料激光，它的泵浦阈值比用氮激光泵浦的染科激光低几十倍，调谐范围大于300A，且光束质量好。该染料激光是采用Rh6G和Coumarine120，并用我们新研制成的轴向放电激励小型XeCl准分子激光泵浦的。文中还对该纵向XeCl准分子激光的某些性能作了介绍。     

用准分子激光进行微加工

大多数激光材料加工应用都落在两个范畴内，即宏观和亚微米范畴。宏观加工应用指的是焊接、切削和钢板、纸张、尼龙材料的切割。在加工尺寸的另一端，对半导体的亚微米加工可制作现代大容量存储器和中央处理器（CPU）芯片。介于这两者之间的加工方式称做加工，它复盖1μm～1mm之间的范围。读者可能已在广告和文章中看到微加工的图形，如刻写在人头发丝和微型金刚石齿轮上的字符。虽然这种图形有力地说明准分子激光在微加工方面的潜力，但直至最近，这种潜力还没有得到真正实际应用。随着微加工正在成为工业激光市场中最快增长部门之一，以…     

XeCl准分子激光泵浦的二级放大染料激光特性

本文报道了用XeCl准分子激光泵浦Rh6G染料激光振荡放大系统。分别研究了一级、二级的染料激光放大系统，测量了一些参量特性，获得了线宽为0．01A，调谐范围为470A的激光输出。二级放大的转换效率约为9％。     

一种可用于XeCl准分子激光传输的新型金属光波导的研究

研究了一种由表面镀铝的磷青铜作为反射面的矩形型波导传输紫外光束的性能。实验结果表明 ,这种波导能够有效地传输 30 8nm紫外光束 ,传输率可达 72 % m。充入氦气能有效地提高紫外光束的传输率。并对于不同弯曲程度对波导损耗的影响以及如何提高波导传输率 ,降低弯曲损耗进行了分析。     

用准分子激光光刻的下一代集成电路

30多年来，汞弧光一直是制造集成电路的主要光刻光源。由于某些原因，这种灯对制造下一代半导体芯片并不是最佳的。下一代半导体芯片要求的特征尺寸小于0．25μm。汞弧光发射的光谱很宽，降低了分辨率和限制了关键特征的效果。由于汞孤灯发射的光只有少部分在深紫外、并只有少量深紫外光输到晶片表面，因此需要较长曝光时间，降低了产量。另外，新折射工具上透镜数值孔径（NA）很大，使焦深受到限制，减小了汞孤灯所极供的允许带宽。目前，半导体制造正在配合下一代器件的生产。以汞孤灯为基础的光刻机已开始认真地转向以准分子激光为基础…     

用远红外HCN激光干涉仪测量等离子体电子密度

在大多数托克马克上，远红外激光干涉仪是等离子体诊断中的一种重要的装置。本文介绍了用远红外ＨＣＮ激光干涉仪测量等离子体电子密度的原理和激光干涉仪结构，并给了了首次在我国第一以大型超导托克马克ＨＴ－７装置上测到的中心弦等离子体电子平均密度。     

准分子激光掺杂

本文介绍了准分子激光掺杂的基本原理及特点,概括总结了近年来所取得的典型研究结果,最后指出这项技术在集成电路中的应用。     

激光激发等离子体温度空间分布测量研究

采用了一种激光激发等离子体温度空间分布测量的新方法,使用面阵CCD探测等离子体二维光谱,应用玻耳兹曼分布式解析获得激光等离子体温度,以YAG激光为激发源,Cu作样本,当脉冲激光能量为0.1J,脉宽为10ns时,所测得的靶面温度分布在12000K到14000K之间,挖高斯分布。     

准分子激光20年

本文简要地评述了准分子激光问世２０年来的研究、发展与应用概况，并指出准分子激光的发展前景。     

准分子激光微加工用Schwarzchild物镜设计

设计了一种用于248nmKrF准分子激光投影刻蚀加工的反射式物镜。它不仅因无色差具有与可见光同轴观察对准的特性,还满足了激光微加工对物镜大倍率大工作距离的要求。     

激光等离子体形成过程的数值模拟

采用一维单流体双温度辐射流体动力学模型.通过数值模拟方法.研究了XeCl准分子激光辐照金属Al靶时.气化等离子体的形成和演化过程.     

准分子激光刻蚀技术

本文介绍了准分子激光刻蚀的基本原理及特点,综述了近年来有重要意义的实验结果。     

用308nm准分子激光改变二氧化钛陶瓷的电导率

用３０８ｎｍ准分子激光对二氧化钛的陶瓷辐照，当能量密度高于阈值时，使其导电发生了显著的变化，室温下从原来的绝缘体转变为半导体。利用Ｘ射线衍射，Ｘ射线光电子能谱及显微分析等多种测试方法进行了分析，比较，稳定了该过程是由于高峰功率短脉冲的准分子激光对ＴｉＯ２的快速熔凝作用，导致了氧的缺位，引起了化学配比偏离。