光电子学与光电子产业专题系列介绍 光-电子晶体材料和器件的发展趋势

晶体材料和器件是光－电子技术的物质基础．现在已有数十种实用晶体．固体激光正在向全波段、可调谐、全固化和大功率的方向发展；非线性光学除了变频之外，更突出的研究课题是光信息处理和全光学非线性器件的研制．科学技术发展促进材料多样化，如核聚变需要大尺寸的激光材料，光通信、光．计算却要求微型化和光电子集成化，要求材料在一维或二维上控制到１－１０ｎｍ量级．     

光电子学与光电子产业专题系列介绍 量子阱电光调制器和光开关

讨论了半导体量子阱中量子限制Ｓｔａｒｋ效应（ＱＣＳＥ）──垂直于量子阶层而的电场下吸收边的红移现象．由于这个效应,量子阱材料吸收边附近的光学常数受电场调制,其调制率比体村料大得多．利用吸收系数的变化可以制作光强度调制器和光开关,利用折射率的变化可以制作光相位调制器和光开关．这些器件因其工作电压低、调制率高、插入损耗小、功耗小,可以和其他光器件单片集成,在光通信和光信息处理技术中有实用价值．也讨论了半导体超晶格中Ｗａｎｎｉｅｒ－Ｓｔａｒｋ局域化效应,它引起超晶格吸收边的兰移,这一效应也可用于制作光调制器和光     

光电子学与光电子产业专题系列介绍 未来光通信发展的关键──光电子集成回路

本文从光纤通信发展的角度介绍和评述了集成光电子回路（ＯＥＩＣ３）的发展现状和未来趋向,指出了当前光纤通信的三大主要发展方向：超大容量光通信,超高速光通信和综合数字服务网的发展,与集成光电子回路发展有极为密切的关系．文中并指出若干有代表性的集成光电子回路系统的发展对未来光通信产业的重要性．     

光电子学和光电子产业专题系列介绍：光计算发展的动态和前景

本文综述了光计算的主要研究领域和发展动态．介绍了光计算的意义目的，发展方向和技术特点．     

光电子学与光电子产业专题系列介绍：用于X射线光学的多层膜

用于Ｘ射线，特别是软Ｘ射线（波长范围约为３０－１ｎｍ）光学中的多层膜近十年来引起了人们的广泛重视，取得了许多重要进展．本文对这类多层膜的特点、制备和检测方法以及应用等作简要介绍．     

超分子金属有机配合物的光化学和光物理

本文评述了近年来新出现的光化学及光物理领域中的超分子金属有机配合物的研究概况，从光化学分子器件原理，设计及功能入手，对它们各个体系的特性研究及应用前景做了较为详尽的介绍。     

物理学与新型功能材料专题系列介绍(Ⅶ) 高温半导体材料与器件

通信领域要求更高的频率和更大的功率,从飞机发动机直到宇宙飞船都要求器件在恶劣的条件下工作．这些需求激励着高温半导体的研究,因为它们具有制作抗辐照的大功率、高温、高频及光电子器件的潜力．过去十年内在这一领域取得了很大的进展．本文评述了在半导体金刚石、碳化硅和氮化物的研究方面的进展与存在的问题．     

物理学与新型（功能）材料专题系列介绍（Ⅱ）：精细复合功能材料

本文介绍了精细复合功能材料的发展概况和复会材料结构参数（如复合度．联结型、对称性、周期性和标度）的基本概念，讨论了这些结构参数对材料性能的影响；简要地叙述了精细包合功能材料的制备技术，指出了制务技术方面的难点和探索研究的方向；最后扼要地介绍了精细复合功能材料在电子技术中的应用，指出精细复合功能材料可能是一种有价值的光电子材料．     

物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(V) 金刚石薄膜及其应用

金刚石薄膜的气相合成及应用研究近年来取得了飞速发展,气相合成金刚石薄膜的ＣＶＤ方法已达２０几种,最大的沉积速度已达到每小时９３０μｍ．硼掺杂金刚石薄膜的空穴载流子浓度已达到１０～（１８）ｃｍ～（－３）,电阻率已达到１０～（－２）Ω·ｃｍ,在硅衬底表面实现了金刚石薄膜的选择性生长．金刚石薄膜热沉使半导体锁相列阵激光器的输出功率提高了１０％左右,金刚石薄膜作为刀具涂层使刀具的寿命得到提高,金刚石热敏电阻、发光管、场效应管等器件原型电子器件在实验上已获得成功．     

有机电致发光材料分子与器件结构设计

有机电致发光器件是当今显示器件的研究热点，越来越多的人们致力于开发高性能的发光材料和研制高效率的器件结构。本文就有机发光材料的分子结构设计，以及提高有机发光器件性能的主要途径作一简要论述。     

物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(Ⅰ) 金刚石薄膜能成为新一代半导体材料吗?

自从８０年代金刚石薄膜的低压化学汽相淀积获得成功以来,人们对用金刚石薄膜制作高温、高速和大功率器件产生了浓厚的兴趣,因为金刚石的禁带宽,载流子迁移率高,同时具有优异的热学、光学和力学性质．本文对金刚石的电子学特征和金刚石器件的研制现伏作了评述,对发展金刚石器件的若干问题特别是金刚石薄膜的ｎ型掺杂、金刚石膜的异质外延和降低缺陷浓度等作了分析和讨论．金刚石薄膜是一种潜在的新型半导体材料,但要实现器件应用尚需作大量的材料研究．     

物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(Ⅳ) 插层化合物的研究与进展

文章阐述了插层化合物的结构性质和物理性质,也说明了插层化合物尤其是石墨插层化合物的广泛的潜在应用．     

物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(Ⅵ) 光谱烧孔──下一代光存储技术

光存储技术由于能实现比其他信息存储技术更高的密度,受到各国重视．然而现行光存储技术的最高存储密度受到激光聚焦光斑最小尺寸限制．各国科学家竞相研究能突破这一限制．实现超高密度的下一代新技术．光子选通光谱烧孔就是其中的佼佼者．中国科学家在提高光子选通光谱烧孔工作温度方面做出了国际同行公认的贡献．光子选通光谱烧孔实际应用还有许多问题有待解决．     

纳米级介孔分子筛及其超分子发光功能材料的制备与表征

本文在超声波条件下以三甲基十六烷基溴化铵为模板剂,正硅酸乙酯为硅源合成了纳米级（10－40nm)的介孔分子筛（MCM－41）,其筛孔直径在2．7nm左右,选择Eu(Phen)4为客体,纳米级介孔分子筛为主体,在无水乙醇中进行分子组装,制备具有强发光性能的超分子纳米材料MCM－41－Eu(Phen),采用HRTEM,TEM,XRD,TG,IR和荧光光谱检测手段对产物进行了表征。     

首届全国有机分子和聚合物发光与激光学术会议介绍

近年来，世界范围内掀起了一场有机分子和聚合物发光与激光研究的热潮，为集中反映我国在此领域研究的成果，交流信息，探索发展方向，首届全国有机分子和聚合物发光与激光学术会议于１９９８年４月１６日至１８日在北京召开．这次会议是一次展示我国在有机分子和聚合物发...     

物理学与新型(功能)材料专题系列介绍(Ⅲ) 开拓原子和物质的中间领域──纳米微粒与纳米固体

纳米粒子的粒子直径（粒径）与电子的德布罗意波长相当，出现许多异常特性，展现出广阔应用前景．它属于原子与物质的中间领域．对纳米微粒及纳米固体的研究开辟了人们认识世界的新层次．从这里新学科将会诞生，新材料将被创造，新概念新理论将相继建立．在面向２１世纪的科学技术进步中纳米微粒将充当重要角色．     

通过具有偏振选择性的紫外/红外混频超快光谱探测有机光电薄膜中的相对分子取向

分子堆积模式是决定电子/能量转移过程的关键因素,影响有机薄膜器件的光电特性. 本文通过具有偏振选择性的紫外/红外混频超快光谱研究了7-(二乙氨基)香豆素-3-羧酸和苝两种有机分子的薄膜. 并利用分子间能量/电子转移引起的信号各向异性变化来计算供体的电子跃迁偶极矩与受体的振动跃迁偶极矩之间的夹角,从而得出两个相邻分子之间的相对取向. 用这种方法测得7-(二乙氨基)香豆素-3-羧酸薄膜的相对取向角为53.4o,接近其单晶结构的60o,苝薄膜的相对取向角为6.2o,也接近其单晶结构的-0.2o. 除了实验中的不确定性,这种方法确定的角度与单晶的角度之间的微小差异还可能源于薄膜样品是多晶的,且其中一些分子是无定形的.     

希夫碱与介孔分子筛纳米超分子材料的发光

合成了希夫碱N,N′2亚水杨基1,4苯二胺(L1)、4[2羟基1萘甲醛基]苯甲酸(L2)和4[2羟基1苯甲醛基]苯甲酸(L3)。使用1HNMR、IR、UV和元素分析手段对希夫碱的结构进行表征。荧光光谱表明固体粉末希夫碱的L1、L2和L3具有较强的光致发光性能,多个精细特征激发峰,其荧光强度大小顺序为L1>L2>L3。荧光时间分辨实验表明,L1、L2和L3的荧光寿命分别为199,199,214ns。L1、L2和L3在乙醇溶液中荧光强度的顺序则为L3>L2>L1。希夫碱L3、L2和L1的乙醇溶液的荧光量子产率大小分别为0.60,0.56和0.0086。希夫碱L1、L2或L3与(CH3)3Si MCM41超分子材料的发光强度比与MCM41组装的强,说明疏水的分子筛环境有利于客体的发光。客体分子L1、L2和L3的激发光谱存在多个精细的激发峰,最大激发波长皆为468nm。希夫碱L1、L2或L3与分子筛形成的超分子材料的发射峰一般朝短波方向移动;L1、L2与(CH3)3Si MCM41及L2、L3与MCM41组装形成超分子体系后,最大激发峰分别红移到529,507,507,505nm;超分子MCM41L1和(CH3)3Si MCM41L3的最大激发峰波长则保持不变。L1、L2和L3分别与(CH3)3Si MCM41形成的超分子体系的荧光寿命则有较大的变化;而L1、L2和L3分别与MCM41形成超分子体系的荧光寿命几乎没有发生变化。荧光时间分辨实验说明主体对希夫碱客体具有很强的选择性。