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用射频磁控反射溅方法，在高纯Ｎ２，Ａｒ的气氛中，以高纯Ａｌ为靶材，成功地制备了ＡｌＮ薄膜，研究了不同气体组分，不同衬底温度对薄膜结晶性的影响。 相似文献
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