对特丁氧酰氧基苯乙烯的制备新方法

对特丁氧酰氧基苯乙烯;α-溴代反应;β-消除反应     

苯乙烯和叔丁氧羰氧苯乙烯的分散共聚合

苯乙烯和叔丁氧羰氧苯乙烯在有机溶剂中分散共聚得到１．３～６．６μｍ均一尺寸聚合物粒子。考察了溶剂的溶度参数、反应温度、单体比和分散剂对生成粒子的影响，溶剂和生成的共聚物粒子的极性（溶度参数）相差越大导致位于尺寸减小；反应温度较低时，得到的粒子尺寸亦较小。     

聚对羟基苯乙烯吸附树脂的合成及对咖啡因的吸附机理研究

用正庚烷／正丁醇、正庚烷／环己醇等混合溶剂为致孔剂合成了一系列具有不同比表面积的对羟基苯乙烯－二乙烯苯共聚物,并研究了这些共聚物对咖啡因的吸附性能。结果表明：凝胶型树脂吸附量小,而大孔型树脂吸附量大且比表面积对树脂的吸附量影响不明显。ＩＲ证实这类树脂吸附咖啡因时,氢键起了非常重要的作用。     

N-羟基丁二酰亚胺的合成

N 羟基丁二酰亚胺是一种重要的有机中间体 ,可用于多肽合成中的外消旋抑制剂[1 ] 和一些抗菌素的合成 ,也可用于制备活性酯[1～ 3] 。近年来在生物活性分子的合成[4] 及乙烯型聚合物的分子量控制[5]上也获得了广泛的应用。N 羟基丁二酰亚胺的合成早已有报道[6] ,但收率较低。Hoppe Seyler′s[7] 以水和二氧六环作为丁二酸酐与羟胺反应的混合溶剂 ,加热环合脱水 ,然后用乙酸乙酯反复提取 ,虽可得到75 %收率 ,但产物中往往混有 5 %～ 1 0 %的丁二酸难以除去 ,若要获得商品级产物 ,后处理过程复杂 ,且要损失 1 5 %～ 2 0 %的产物[8] 。Cherut…     

用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的合成及其进展

随着集成电路芯片的发展,生产物理和化学性质均一的高分子光阻剂得到了各信息产业国的重视.到目前为止,含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂已成为光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键技术.本文综述了目前合成窄分布的含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂的各种方法,在此基础上比较了各种合成方法的优缺点,为合成窄分布的含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂提供了必要的指导.     

高分子富氧膜研究 Ⅱ.二甲基硅氧烷齐聚物与对羟基苯乙烯齐聚物交联共聚物的合成与表征

研究了α,ω-双二甲胺基聚二甲基硅氧烷与对羧基苯乙烯齐聚物(pHS)之间的溶液共缩聚反应,制得了高分子量的有机硅交联聚物。用多种方法测定了交联共聚物的结构和性能,发现它存在微观相分离结构,在一定的有机硅含量范围内均为低晶物,共聚物大分子链上尚保留可供进一步化学修饰的官能团,且具有优异的成膜工艺性,较好的氧氮气体选择透过性。     

对(二苯基膦)苯乙烯单体合成方法的改进

以对溴苯乙烯为原料,先将其制备成格氏试剂,再与二苯基氯化膦反应,合成对(二苯基膦)苯乙烯单体.通过向反应体系中添加自由基捕捉剂,改进了对(二苯基膦)苯乙烯单体的合成方法.研究结果表明,当使用物质的量分数是0.2%的对苯二酚为阻聚剂时,对(二苯基膦)苯乙烯单体的收率可提高到78%.     

聚羟基苯乙烯在光致抗蚀剂中的应用及其合成

主要综述了聚羟基苯乙烯用作深紫外光致抗蚀剂主体成膜树脂的发展历程、应用现状以及一些最新的研究进展,并简要介绍了聚羟基苯乙烯的单体衍生物及其聚合物的制备方法.     

一种248 nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究

通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯.通过对具有合适分子量的目标共聚物的有机溶剂溶解性、热性能、成膜性、抗干蚀刻能力和在248 nm处光学吸收(为0.212 μm^-1)性能进行研究,表明该聚合物能满足248 nm光刻胶成膜树脂的要求;此外,目标共聚物还具有酸致脱保性能.具有合适分子量和脱保率的目标共聚物,通过对其酸解留膜率的测试,推测其可能满足248 nm光刻胶的曝光显影工艺过程.     

4-(2-甲基-丁氧基)苯甲酰氧基-4′-苯甲酰氧基苯基卟啉的合成

四 (对羟基苯基 )卟啉 [Ｔ( 4 ＨＰ)Ｐ]具有共扼大π键及刚性平面 ,在 65 0ｎｍ左右产生纯的红色荧光 ,是一种较好的发光材料。依据 4 ( 2 甲基 丁氧基 )苯甲酚氧基 4′ 苯甲酰氧基苯基穴醚 [2 .2 ]具有液晶性[1 ] ,本文设计使Ｔ( 4 -ＨＰ)Ｐ的羟基进行酯化反应后生成的卟啉衍生物同时具有荧光和液晶性质 ,估计在发光材料特别是新近出现的圆偏光电致发光材料中具有潜在的应用[2 ] 。反应混合物通过柱色谱分离得到了酯化程度不同的几种卟啉衍生物。合成路线如下1　实验1 1　仪器及试剂Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ1 70 0红外光谱仪 ,ＫＢｒ压…     

3-(3-叔丁氧基)丁二酰亚胺基单环β-内酰胺衍生物的合成

从苹果酸出发, 经过一系列反应得到3-(3-叔丁氧基)丁二酰亚胺乙酰氯. 3-(3-叔丁氧基)丁二酰亚胺乙酰氯和含不同取代基的Schiff碱1a～1h反应得到8个新的3-(3-叔丁氧基)丁二酰亚胺基单环β-内酰胺衍生物2a～2h, 化合物2a～2h的结构经IR, ¹H NMR, MS和元素分析所确证.     

对硝基苯甲醛缩对羟基苯甲酰腙的合成与晶体结构

合成了一种新的对硝基苯甲醛缩对羟基苯甲酰腙晶体;利用红外光谱、紫外光谱和元素分析对其进行了表征,并利用单晶X射线衍射测定了其晶体结构.结果表明,该晶体属于单斜晶系,P2(1)/n空间群;晶胞参数a=0.766 17(2)nm,b=1.357 3(3)nm,c=1.256 0(3)nm,β=92.71(3)°,V=1.304 7(4)nm3,Z=4,Dc=1.452 g/cm3,μ=0.109 mm-1.12 593个可观察独立衍射点(I2σ(I))偏离因子R1=0.042 5,wR2=0.142 4,S=1.096.     

聚(2-甲氧基-5-丁氧基)对苯乙炔的合成、表征及光性能研究

１９９０年,Ｂｕｒｏｕｇｈｅｓ等［１］发现聚对苯乙炔（ＰＰＶ）类衍生物不仅是导电高分子材料,而且也是性能优良的发光材料．随后,许多科学家立即将注意力集中于这类共轭聚合物的合成及光性能的研究上,并取得了可喜的研究成果［２］．目前,对ＰＰＶ衍生物的合成,...     

聚丙烯酸[2,5-双(对甲氧基苯甲酰氧基)苄酯]及聚甲基丙烯酸[2,5-双(对甲氧基苯甲酰氧基)苄酯]的合成

周其凤等曾报道聚丙烯酸［２,５－双（对甲氧基苯甲酰氧基）节酯］［１］和聚甲基丙烯酸［２,５－双（对甲氧基苯甲酰氧基）苄酯］［２］的合成．但后来的研究发现,在合成单体的条件下出现的一种未见报道的异常反应［３］使产物成分复杂化,因此当时报道的聚合物可能不是聚丙烯酸［２,５－双－（对甲氧基苯甲酰氧基）苄酯］或聚甲基丙烯酸［２,５－双（对甲氧基苯甲酰氧基）苄酯］,而可能是共聚物．针对这一问题,我们重新设计了合成路线以避免发生上述副反应,成功地合成了丙烯酸或ａ－甲基丙烯酸［２,５－双－（对甲氧基苯甲酰氧基…     

(2-羟基-3-丁氧基)丙基-羧甲基壳聚糖的合成及表面性质

(2-羟基-3-丁氧基)丙基-羧甲基壳聚糖的合成及表面性质;壳聚糖衍生物; (羟基丁氧基)丙基-羧甲基壳聚糖;表面活性;表面压     

1-苄氧羰基-3-叔丁氧羰酰氨基氮杂环丁烷的合成工艺改进

以苄胺和环氧氯丙烷为原料,经开环、关环、取代、还原、脱苄等反应合成了1-苄氧羰基-3-叔丁氧羰酰氨基氮杂环丁烷,总收率22.9%.其结构经1H NMR,13C NMR和MS表征.     

2,5-二辛氧基聚对苯的合成及表征

蓝色电致发光;2;5-二辛氧基聚对苯的合成及表征