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设$F$是域, 记 $G_{n}(F)=\{\{a,
\Phi_{n}(a)\} \in K_{2}(F)\mid {a, \Phi_{n}(a)} \in F^{*}\},$
这里$\Phi_{n}(x)$ 是$n$次分圆多项式. 首先,
使用关于数域上的Mordell猜想的Faltings定理证明了若$F$是数域, $n\neq
1, 4, 8, 12$且含有平方因子, 则$G_{n}(F)$不是$K_{2}(F)$的子群; 然后,
使用Manin, Grauert, Samuel和李克正关于
函数域上的Mordell猜想的结果, 对代数闭域上的函数域证明了类似的结果. 相似文献
\Phi_{n}(a)\} \in K_{2}(F)\mid {a, \Phi_{n}(a)} \in F^{*}\},$
这里$\Phi_{n}(x)$ 是$n$次分圆多项式. 首先,
使用关于数域上的Mordell猜想的Faltings定理证明了若$F$是数域, $n\neq
1, 4, 8, 12$且含有平方因子, 则$G_{n}(F)$不是$K_{2}(F)$的子群; 然后,
使用Manin, Grauert, Samuel和李克正关于
函数域上的Mordell猜想的结果, 对代数闭域上的函数域证明了类似的结果. 相似文献
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本文研究了Y替代Ca对Bi2Sr2Ca1-xYxCu2O8+y,超导体晶体结构和电子状态的影响,发现:Y替代Ca后至少使得Bi-O双层中所夹的一层额外的氧原子发生了变化,沿b轴方向的无公度超格子的调制周期从4.7b连续减小到大约为4.0b;并发现当Y完全替代Ca时,则同时存在大约为4b和8b的调制周期.用XPS进一步研究其电子状态变化的结果表明,超导电性的变化不是由于晶体结构的微小变化引起的,而主要是由CuO2层中O2p轨道空穴的逐步填充所致.结果明确表明,对于该替代体系依然是当Cu离子3d轨道存在一个空穴时(3d9态)对应于强关联的反铁磁绝缘体,而当CuO2层中氧离子2p轨道存在额外的空穴时(即3d9L态)对应于超导体. 相似文献
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用矩形单模TE10n(n=3,5)微波腔体成功地烧结得到了致密的Y-TZP陶瓷及Y-TZP/Al2O3复相陶瓷材料.材料的微波加热特性与其组分有关.Y-TZP含量高有利于提高样品的加热速率并降低加热所需时间.试样加热至600—800℃之后,需随时调整输入功率、短路活塞位置及可调偶合窗开启尺寸,以保持腔体谐振和最佳偶合状态,从而保持一定的升温速度和达到稳定的最终烧结温度.纯Y-TZP及含20Vol%Al2O3的Y-TZP/Al2O3陶瓷材料均可微波烧结至相对密度98%以上,而晶粒尺寸则分别不大于0.4和1.0μm.实验还发现,温度过高时,试样中心由于达到高于其表面的温度而发生过烧现象. 相似文献
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本文用DLTS测量了P型硅MOS结构Si-SiO2界面的缺陷,发现了一个主界面缺陷Hit(0.503),其特点是:在测量温度范围内,它的平均空穴离化吉布斯自由能ΔGP≥0.503eV;当栅压使Si-SiO2界面处Fermi能级与硅价带顶的距离明显小于ΔGP时,它仍然具有很高的DLTS峰;随着半导体表面电位势的缩小,它的空穴表现激活能明显增大;它对空穴的俘获过程造成合脉冲宽度的多指数电容瞬态,难于用有限宽度的脉冲电压引进的空穴对其作饱和填充。上述实验结果表明:热氧化生长形成的Si-SiO2系统的能带是从共价键硅的能带连续过渡到SiO2的能带;Hit(0.503)分布在其中的过渡区中,它的能级与价带的距离随着离开硅表面越远而越大。 相似文献
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在C60单晶(111)解理面上制备出厚度约30 nm的K3C60单晶膜.利用同步辐射光源,在低温下(约150K)测量了样品法向发射的角分辨光电子谱.观察到K3C60导带和价带明显的色散.导带的光电子谱峰可清晰分辨出4个子峰,这些子峰的最大色散超过0.5eV,并且色散曲线与K3C60的一维无序晶体结构模型下的能带理论基本吻合,只是子带间隔差异较大. 相似文献
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设ψ : D → Ω 是一个单叶函数, 利用Schwarzian 导数, 本文获得了log ψ′ 属于QK 空间的一个充要条件. 此外, 本文运用了一个几何条件来刻画QK 空间. 相似文献
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采用机械合金法制备了纳米复合材料Fex(SiO2)1-x系列样品 .用X射线粉末衍射 (XRD)、透射电子显微镜 (TEM )、M ssbauer谱和Faraday磁天平系统地研究了该系列样品不同Fe合量和不同球磨时间的微结构和磁性 .实验表明样品的微结构和磁性与球磨时间和Fe含量密切相关 .当样品的Fe含量少于 2 0wt% ,并球磨了 80h后呈现出非常复杂的微观结构 :α -Fe纳米晶粒和Fe团簇镶嵌在SiO2 基质中 ,形成α -Fe纳米岛状和纳米尺度的类三明治结构 .Fe-SiO2 界面的相互作用和渗透效应、纳米晶的尺寸效应和类三明治的特殊微观结构导致了纳米复合材料Fex(SiO2)1-x的物理性能的变化 相似文献
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一个图G 的无圈k- 边染色是指G 的一个正常的不产生双色圈的k- 边染色. G 的无圈边色数a′(G) 定义为使得G 有一个无圈k- 边染色的最小的整数k. 本文完全刻画了最大度不为4 的没有K4-图子式的图的无圈边色数. 相似文献
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利用高分辨透射电子显微镜对高Tc YBa2Cu3O7/PrBa2Cu3O7(以下简称为YBCO/PrBCO)超晶格的微结构进行了系统的观察分析,高分辨电子显微象(HREM)表明YBCO/PrBCO超晶格层与层之间具有清晰的衬度,没有界面互扩散,通过HREM象观察,发现衬底表面的原子台阶和缺陷使薄膜最初1—2个晶胞层中出现层错等缺陷,但这些缺陷并没有向薄膜内部扩展,当薄膜厚度超过几个晶胞层后,其结构趋于完整。另外,在HREM照片上还可看出YBCO/PrBCO超晶格的调制周期存在波动,波动范围相当于一个晶胞层厚度,实验结果表明,利用YBCO/PrBCO超晶格研究CuO2面的二维超导电性时,临界温度Tc和临界电流密度Jc的变化不仅与二维CuO2面的失耦程度有关,还会受到各种晶格缺陷的影响,对YBCO/PrBCO超晶格和超薄YBCO膜的输运特性进行理论解释时,必须考虑衬底和晶格缺陷造成的影响。 相似文献
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图 $G$ 的邻点可区别全染色是$G$ 的一个正常全染色, 使得每一对相邻顶点有不同的颜色集合. $G$的邻点可区别全色数$\chi''''_{a}(G)$是使得$G$有一个$k$-\!邻点可区别全染色的最小的整数$k$. 本文完整刻画了没有$K_4$-\!图子式的图的邻点可区别全色数. 证明了:如果 $G$是一个满足最大度$\Delta \ge 3$且没有$K_4$-\!图子式的图, 则$\Delta+1\le \chi''''_{a}(G)\le \Delta+2$, 且$\chi''''_{a}(G)=\Delta+2$当且仅当$G$中含有两个相邻最大度点. 相似文献
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给出实二次域K=Q(m)的理想类群含n阶循环子群的充分必要条件,以及满足这些条件的判别方法;并给出具有此性质的8类实二次域,例如m=(zn+t-1)2+4t(其中t|zn-1);后者包含m=4zn+1和m=z2n+4为特例。所用方法还可以给出许多有此性质的域。 相似文献