基于局域场加强的近场纳米加工技术

介绍了一种全新的基于飞秒激光局域场加强效应的纳米加工技术,通过使用了微焦级别脉宽为130 fs、波长800 nm的飞秒激光照射于原子力显微镜的探针针尖,利用其局域场加强效应在金薄膜表面加工出各种纳米图形。对加工参数对加工线宽的影响中,我们发现了随着加工能量的减小和加工速度的不断增大将导致加工线宽不断减小,最终达到了极限线宽(～10 nm)。这项技术可以广泛的应用与各种材料的加工中,尤其适合各种金属薄膜的加工,特别是结合了现有的自动化控制系统更是可以加工出任意复杂的二维纳米图形。     

双层石墨烯在栅压调控下的各向异性刻蚀

石墨烯纳米结构在纳电子学研究领域表现出了良好的应用前景.氢等离子体各向异性刻蚀技术是加工石墨烯精细纳米结构的关键技术之一,可以实现10 nm以下平整的锯齿型石墨烯纳米带的可控加工.本文系统研究了外加电场对石墨烯各向异性刻蚀效应的影响,利用外加栅压实现了氧化硅衬底上的双层石墨烯各向异性刻蚀速率的调控.在±30 V栅压变化范围内,刻蚀速率比可达45.由此不仅可以提高大批量加工石墨烯纳米结构的效率,还可以实现5 nm以下极小尺寸石墨烯纳米带的可控加工.研究结果为石墨烯精细纳米结构器件的高效批量加工提供了思路.     

光学仪器 观测、投影仪器

TH741．5 2006065466 LED光源照明微投影仪系统的设计=Design of micro-pro- jector light sources[刊,中]/王蓉(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室．浙江,杭州(310027)),刘玉玲…//光学仪器．—2006．28(2)．—22-26采用两个LED面光源作为投影仪的照明光源,使用包括了与偏振光转换系统耦合的光棒以及照明透镜的FF光学系统,使光源发出的光得到充分的均匀,并尽量地会聚在LCOS上。模拟结果表明,该照明系统达到了所要求的照度,整个系统结构简单,非常紧凑。图11参3(严寒)     

几何光学 光学镜头、光学零部件

O435 2006064847同轴单棱镜整形研究=Study on beam shaping of collinear single prism[刊,中]/勾志勇(西南技术物理研究所．四川,成都(610041)),王江…//光学仪器．-2006,28(2)．- 42-45介绍一种新的半导体激光整形系统一同轴单棱镜整形系统,详细地叙述了单棱镜的设计原理,与其它整形系统比较,该棱镜最大的优点是能保证光束同轴。最后以一     

从蘸笔纳米刻印术到力化学打印

蘸笔纳米刻印术(dip-pen nanolithography,DPN)作为一种独特的纳米加工手段,具有在各类基底上书写精细图案的能力.自20世纪末诞生以来,研究者们对DPN中的墨水输运原理有了更深入的理解,同时受惠于材料学的发展并结合复杂生化反应体系,数种基于DPN衍生的纳米加工技术被开发出来.与此同时,依靠机械作用...     

薄膜光学 光学薄膜参数测试

O484．5 2006065262纳米多孔氧化铝薄膜厚度的反射光谱测量方法研究=Re- search of thickness measurement of nano-porous alumina films based on reflection spectra[刊,中]/熊丹(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州(310027)),章海军…//光学仪器．—2006,28(2)．—89-92提出一种基于反射光谱的纳米多孔氧化铝(PA)薄膜厚度测量的方法。当白光照射PA薄膜时,分别从薄膜上、下表面反射的两束光线发生干涉。根据布喇格公式,若已知反射干涉光谱相邻两个极大值对应的波数差和薄膜的     

利用干涉光刻技术制备LED表面微纳结构

为了制备大面积周期性微纳米结构以提高LED的发光效率,建立了劳厄德(Lloyd)干涉光刻系统。简单分析了该干涉光刻系统的工作原理,并介绍了利用干涉曝光工艺制备一维光栅、二维点阵、孔阵列等纳米结构图形的具体实验过程。最后对纳米图形进行结构转移,制备出了金属纳米结构。实验结果表明:利用劳厄德干涉光刻系统,可以在20 mm×20 mm大小的ITO衬底上稳定制备出周期为450 nm的均匀光栅或二维点阵列图形结构,它们的占空比也是可以调节变化的。     

光电子技术与器件 光放大、控制与器件

TN152 2005010519 共聚焦生物芯片扫描仪中PMT电流增益的自动控制= Auto gain control of the PMT used in confocal biochip scanner[刊．中]／王立强(浙江大学国家光学仪器工程技术研究中心．浙江．杭州(310027))．陆祖康…∥光子学报．- 2004,33(3)．-314-317 根据共聚焦生物芯片扫描仪获得的图像．设计了计算机控制下的PMT电流增益自动控制系统。根据计算生物芯片图像的灰度分布与期望灰度分布的差异,得到期望灰     

Au/Ag纳米颗粒的成像技术与应用

基于10 nm尺度图形加工技术,通过改变金属纳米结构的大小和形貌,利用金属纳米结构的表面等离子体共振性能开发出SEM纳米彩色图片制作技术,使得图形的像素在60 nm尺度可控(约100万dpi)。利用图像处理技术可以快速生成加工版图,而通过电子束曝光和沉积技术则能够得到结构不同的Au/Ag纳米颗粒。结果表明:由于结构不同的Au/Ag纳米颗粒的表面等离子体共振性能不同,使其发光性能覆盖了可见光波段。本文通过改变Au/Ag纳米颗粒的大小,利用图像处理算法对不同大小的Au/Ag纳米颗粒进行排列组合,从而得到SEM纳米彩色图片。     

光学仪器 观测、投影仪器

TH741.52007043928投影机光学性能自动测试系统的研究=Study of automat-ic measurement systemfor the characterization of projector[刊,中]/赵慧芳(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室.浙江,杭州(310027)),刘向东…//光学仪器.?2007,29(1).?62-66建立了一个精度高、操作方     

光学仪器 眼镜、放大镜、显微镜、望远镜

TH742．9 2006065459液相型AFM的研制与金属腐蚀原位研究=AFM in liquid and on-spot study of metal corrosion[刊,中]/林晓峰(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室．浙江,杭州(310027)),章海军…//光电子·激光．—2006,17(5)．—638-640介绍了新型液相型原子力显微镜(AFM)的工作原理、系统结构和独特性能,讨论了该AFM在金属腐蚀研究中的应用。利用液相型AFM对碳钢在NaCl溶液及Pb在     

光学相关论题 海洋光学

V249．32 2005043187 空间坐标一致性光学测量方法研究=Study of optical measurement method for consistency of spatial coordinate [刊,中]／沈景鹏(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江,杭州(310027)),张旭…／／光学仪器．-2005,27 (1),-8-11 介绍了一种导引头光轴坐标与惯性导航坐标安装误差的光学测量方法,阐述了此方案的原理、测量步骤,简要     

合肥国家同步辐射实验室同步辐射光刻研究

同步辐射光刻技术是Ｘ射线光刻技术的重要发展，适用于深亚微米乃至纳米级图形的 超微细加工，特别是ＬＩＧＡ技术的出现大大拓展了同步辐射光刻的应用领域．使它不仅适合于超大规模 集成电路等平面微结构的加工，也适合于具有复杂构造的三维立体结构和器件的制作．文章简要介绍了 ＮＳＲＬ光刻光束线和实验站概况及研究工作进展．     

CoFe2O4纳米颗粒的结构、磁性以及离子迁移

聚乙烯醇(PVA)溶胶凝胶法制备出CoFe2O4纳米微粉,用X 射线衍射研究了铁氧体纳米颗粒的结构.测量了CoFe2O4纳米颗粒80-873 K的变温穆斯堡尔谱,发现纳米颗粒的磁转变温度范围为793-813 K,比块体材料的磁性转变温度要低.CoFe2O4纳米颗粒的德拜温度θA=674 K,θB=243 K,比块体材料要小.CoFe2O4纳米颗粒超精细场Hf随温度的变化符合T3/2+T5/2定理.当温度较高时,平均同质异能移IS随温度的升高而减小,并呈线性关系.     

光学仪器 医用光学仪器

TH733 2005010782 数码眼底荧光血管造影术及光学系统设计=Fluorescent blood vessel angiography for fundus oculi by digital camera and its optical system design[刊．中]／张益民(福建福光光学仪器有限公司．福建,福州(350015)),陈平怀∥福光技术．-2004,26(1)．-30-33 介绍数码相机在眼底荧光血管造影术中的临床应用。分析了该系统的光路特点．介绍了光学系统的设计和像差     

硅(001)图形衬底上锗硅纳米线的定位生长

纳米线的定位生长是实现纳米线量子器件寻址和集成的前提.结合自上而下的纳米加工和自下而上的自组装技术,通过分子束外延生长方法,在具有周期性凹槽结构的硅(001)图形衬底上首先低温生长硅锗薄膜然后升温退火,实现了有序锗硅纳米线在凹槽中的定位生长,锗硅纳米线的表面晶面为(105)晶面.详细研究了退火温度、硅锗的比例及图形周期对纳米线形成与否,以及纳米线尺寸的影响.     

原子尺度材料三维结构、磁性及动态演变的透射电子显微学表征

原子表征与操控是实现原子制造必须突破的物理瓶颈之一.像差校正电子显微学方法因其优异的空间分辨率,为实现原子精细制造提供了有力的表征手段.因此,利用电子显微学手段,在原子尺度对原子制造的材料及器件进行三维结构和性能的协同表征,对于深入理解原子水平材料操控的物理机理具有非常重要的意义.纳米团簇及纳米颗粒是原子制造材料与器件研究的主要对象之一,具有丰富的物理化学性质和较高的可操纵性.本文探讨纳米团簇/颗粒结构三维定量表征、使役条件下纳米团簇/颗粒结构演变定量表征、纳米颗粒/晶粒结构-成分-磁性协同定量表征等诸多方法与实例,阐明了电子显微学表征手段的突破和发展为实现精细控制的原子制造材料提供了坚实基础.     

光学工艺 微细加工技术与设备

TN305 2005010726 全数字化激光直写转台系统=An all-digital rotating platform system for laser direct writer[刊,中]／梁宜勇(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室．浙江,杭州(310027))∥光电工程．-2004,31(5)．-1-3,10 为提高极坐标激光直写设备的性能,设计了全数字化的转台系统,增强了与平台、调焦、光强系统的同步。提出数字锁相积分、可编程PID控制及变周期稳速判据等概念,并应用于转台控制器设计。配合改进的快速光强调制系统,使极坐标激光直写设备具备制作精确环、任意孤和变宽线条的能力。图5参5(严寒)     

优化掩模分布改善数字光刻图形轮廓

基于数字微反镜(DMD)的无掩模数字光刻系统可用于IC掩模制作或育接作为微结构的加工工具,有着广泛的应用前景.但理沦和实验均发现基于DMD数宁光刻系统加工连续表面微结构元件时,往往难以获得预期的图形轮廓,加工出的图形表面具有规则的振荡起伏.在深入探讨DMD灰度图形传递的基础上,分析了空间像畸变产生的物理机制,并提出用模拟退火算法来优化掩模图形,在5%的相对曝光量偏差范围内模拟表明优化有效地消除了表面起伏,最后利用优化的掩模实验加工出表面轮廓比较良好的轴锥镜阵列.该方法能有效改善面形质量,而且不存在掩模制作等问题,这对于制作高质量的微结构元件有重要意义.     

几何光学 光学系统、成像与分析

O4352006010016旋转椭球面折射成像的球差研究=Study of the sphericalaberration of refractedi mage onthe rotational ellipsoid[刊,中]/郑世旺(商丘师范学院物理与信息工程系.河南,商丘(476000))∥云南大学学报(自然科学版).—2005,27(6).—499-503研究单个折射面成像的球差是研究透镜及复杂光学仪器成像质量的基础。从折射定律出发,导出了旋转椭球面折射成像的精确球差公式,并由此比较了椭球面和球面及其透镜的成像质量。图3表2参12(杨妹清)TH7032006010017波前编码系统中相位掩模板的新设计=New design of cu-bic-phase-modulation …