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采用分子束外延技术生长了GaAs/AlGaAs单量子阱得多量子阱材料。采用GaAs/AlGaAs超晶格缓冲层掩埋衬底缺陷,获得的量子阱结构材料被成功地用于制作量子阱激光器。波长为778nm的激光器,最低阈值电流为30mA,室温下线性光功率大于20mW。 相似文献
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报道了InAs/GaSb超晶格中波材料的分子束外廷生长技术研究.通过改变GaSb衬底上分子束外延InAs/GaSb超晶格材料的衬底温度,以及界面的优化等,改善超晶格材料的表面形貌和晶格失配,获得了晶格失配△a/a=1.5×10-4,原子级平整表面的InAs/GaSb超晶格材料,材料77 K截止波长为4.87 μm. 相似文献
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提出并生长了晶格匹配的HgSe/ZnTe超晶格系统,红外透射测试表明其禁带宽度落在红外波段的能量范围,将Zhu的关于ZnSe MBE生长模型加以推广,讨论了生长温度和束流条件对HgSe MBE生长的影响,并用分子束外延方法在160~180℃下生长了HgSe单晶薄膜。 相似文献
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首次报道了室温和非共振条件下,分子束外延(MBE)生长的CdTe/ZnTe超晶格的喇曼散射测量和分析。观察到最低级次的CdTe和ZnTe纵光学声子限制模,并用应力和限制效应精确计算了频移,得到的ZnTe纵光学声子频移理论值与实验结果符合得较好。特别指出,当CdTe和ZnTe层厚小于2nm时,声子频移的限制效应不可忽略,对所测样品的喇曼全谱作了分析。 相似文献
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在p-型HgTe/CdTe超晶格材料上制作金属-绝缘体-半导体(MIS)结构。报道了HgTe/CdTe超晶格的分子束外延生长、器件制作和测量结果。研究表明,比较宽的CdTe势垒阻碍了少子(电子)到界面的迁移,在77K强反型区域的低频电容不能达到绝缘层电容,类似于普遍MIS器件的高频C-V曲线。 相似文献
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在p-型HgTe/CdTe超晶格材料上制作金属-绝缘体-半导体(MIS)结构.报道了HgTe/CdTe超晶格的分子束外延生长、器件制作和测量结果.研究表明,比较宽的CdTe势垒阻碍了少子(电子)到界面的迁移,在77K强反型区域的低频电容不能达到绝缘层电容,类似于普通MIS器件的高频C—V曲线. 相似文献
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本文评述了分子束外延在以 ZnSe 为代表的宽带半导体材料及其超晶格结构研究中的最新进展。介绍了在晶格匹配和不匹配的衬底上分子束外延生长 ZnSe等Ⅱ-Ⅵ族宽带半导体和有关的材料分析。叙述了在 ZnTe,Zn(S、Se)以及磁性半导体 MnSe 和低磁性半导体 Zn_(1-x)Mn_xSe 上生长 ZnSe 所形成的超晶格和多量子阱结构,并在此基础上说明了一些相关的物理现象。 相似文献