软X射线激光用自支撑Zr滤光膜的制备及测量

 利用直流磁控溅射方法制备了质量厚度为200 μg·cm^-2,直径为20 mm的自支撑金属Zr滤光膜。用同步辐射光源和紫外可见分光光度计分别测量了滤光膜在软X射线和可见光波段的透射率,用俄歇电子能谱（AES）分析了膜中的元素含量。结果表明:Zr膜在13.9 nm波长的透射率达19%, 对可见光的抑制性能达43 dB。杂质、膜层氧化及表面污染是影响滤光膜软X射线光谱透射率的主要因素。     

软X射线激光用自支撑Zr滤光膜的制备及测量

利用直流磁控溅射方法制备了质量厚度为200 μg·cm-2,直径为20 mm的自支撑金属Zr滤光膜。用同步辐射光源和紫外可见分光光度计分别测量了滤光膜在软X射线和可见光波段的透射率,用俄歇电子能谱（AES）分析了膜中的元素含量。结果表明:Zr膜在13.9 nm波长的透射率达19%, 对可见光的抑制性能达43 dB。杂质、膜层氧化及表面污染是影响滤光膜软X射线光谱透射率的主要因素。     

软X光辐射烧蚀实验方法研究

 用强激光辐照金箔靶，以金箔背侧软X光辐射为基础，提出了软X光辐射烧蚀研究的新靶型、新方法，做了C₈H₈样品辐射烧蚀初步实验。     

类Ni稀土X光激光波段衰减膜的设计与研究

 对类Ni稀土X光激光波段衰减膜进行了设计,并根据设计结果,利用磁控溅射和旋转涂覆法分别制备了自支撑的Ag衰减膜和聚苯乙烯(C₈H₈)衰减膜。利用真空α能谱测厚仪和α-step100台阶仪分别对衰减膜的质量厚度和均匀性进行了测量,用Auger电子能谱(A ES)对Ag衰减膜进行了表面杂质分析。     

草酸铕颗粒微米层状颗粒的合成及其光学性能

在室温条件下, 以柠檬酸钠为辅助剂, 通过简单沉淀法合成了草酸铕Eu₂(C₂O₄)₃·10H₂O微米层状颗粒. 应用X射线衍射、X射线电子能谱、场发射扫描电子显微镜、光致发光光谱对Eu₂(C₂O₄)₃·10H₂O结构与性能进行了表征. 讨论了草酸铕微米层状颗粒可能的形成机理.     

薄膜光学 制膜技术与装置

O484．1 2006065249软X射线激光用自支撑Zr滤光膜的制备及测量=Prepa- ration and research of free-standing Zr filters for soft X-ray laser[刊,中]/张莉(同济大学精密光学工程技术研究所．上海(200092)),吴永刚…//强激光与粒子束．—2006,18 (6)．—953-956利用直流磁控溅射方法制备了质量厚度为200μg/cm~2、直径为20 mm的自支撑金属Zr滤光膜。用同步辐射光源和紫外可见分光光度计分别测量了滤光膜在软X射线和     

环戊酮光电离解离的实验和理论研究

本文介绍了真空紫外光电离质谱结合理论计算研究环戊酮单分子的光电离解离过程. 在9.0∽15.5 eV能量范围内,测量了环戊酮离子及其碎片离子的光电离效率曲线. 通过光电离效率曲线,将环戊酮分子的电离能确定为9.23±0.03 eV,并确认碎片离子为：C₅H₇O⁺,C₄H₅O⁺,C₄H₈⁺,C₃H₃O⁺,C₄H₆⁺,C₂H₄O⁺,C₃H₆⁺,C₃H₅⁺,C₃H₄⁺,C₃H₃⁺,C₂H₅⁺, C₂H₄⁺. 利用量子化学计算方法,在ωB97X-D/6-31+G(d,p)理论水平基础上,提出了C₅H₈O⁺的解离机制. 通过对环戊酮解离路径的分析,发现开环和氢迁移过程为环戊酮离子解离的主要路径.     

在水-四氢呋喃中纤维素转化为5-羟甲基糠醛及副产物鉴定

在酸性条件下,水-四氢呋喃混合溶剂中转化纤维素制备了平台化合物5-羟甲基糠醛(HMF)．在纤维素浓度仅为2.4wt%时,可以得到38.6%的HMF,但是随着纤维素浓度的增加,胡敏素和乙酰丙酸成为主要产物．利用液相色谱-多级串联质谱联用技术检测到了分子式为C₉H₁₆O₄、 C₁₀H₁₄O₄、 C₁₁H₁₂O₄、C₁₂H₁₀O₅ 和C₁₂H₁₆O₈的一系列副产物．C₉H₁₆O₄是通过四氢呋喃开环为1,4-丁二醇再与乙酰丙酸酯化反应得到,而C₁₀H₁₄O₄是通过四氢呋喃开环后与HMF醚化得到．C₁₁H₁₂O₄是由5-羟甲基糠醛与乙酰丙酸发生酯化反应得到,C₁₂H₁₀O₅是由HMF自身醚化得到,而C₁₂H₁₆O₈是HMF与葡萄糖经过缩醛反应得到．HMF的自身醚化反应及HMF与1,4-丁二醇的醚化反应是主要的副反应．     

氢原子的X射线新谱系的实验观测及其解释

 引出氢（氘）气放电产生的射线和粒子流打在非晶聚氘乙烯C₂D₄和有机玻璃C₅H₈O₂等靶上,测得其散射谱上有多条尖锐的X谱线,其中除一条外都是（不经散射的）原始谱中没有的。经反复证认,这些谱线不是靶中元素（如C或O）和可能包含的杂质元素的特征X射线,也不是原始谱中X射线的衍射线,更不可能是低能电子的轫致辐射经吸收后形成的峰,认为该谱线很可能是前所未知的一类新的原子态的X射线新谱系的一部分。用曾提出的一个“小氢原子”理论模型予以解释,即认为氢（氘）气放电中产生了“小氢原子”,其（在基态）电子轨道半径约为普通氢原子的玻尔半径的1/274,该小氢原子能级之间的跃迁能够很好地解释所测到的X射线新谱系。     

甲基环己烷在9∽15.5 eV能量区的真空紫外光电离研究

利用具有同步辐射源的反射式飞行时间质谱仪,研究甲基环己烷的真空紫外光电离和光解离. 观测到母体离子C₇H₁₄⁺和碎片离子C₇H₁₃⁺,C₆H₁₁⁺,C₆H₁₀⁺,C₅H₁₀⁺,C₅H₉⁺,C₄H₈⁺,C₄H₇⁺和C₃H₅⁺的光电离效率曲线. 测定甲基环己烷的电离能为9.80±0.03 eV,通过光电离效率曲线确定其碎片离子的出现势. 在B3LYP/6-31G(d)水平上对过渡态、中间体和产物离子的优化结构进行表征,并使用G3B3方法计算其能量. 提出主要碎片离子的形成通道. 分子内氢迁移和碳开环是甲基环己烷裂解途径中最重要的过程.     

自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究

软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层Na...     

高折射率光学薄膜的化学法制备研究

报道了一种以ZrOC12·8H2O为源,溶胶-凝胶法制备高激光负载高折射率薄膜的新方法。薄膜采用旋转镀膜法制备,对薄膜的结构、光学特性及激光损伤阈值进行了测量,有机粘接剂对薄膜折射率及机械强度的影响也作了探讨。以该薄膜与SiO2溶胶凝胶膜交替涂覆制成的多层高反膜,剩余透过率仅0.98%,激光损伤阈值达16J/cm2（3ns）。     

表面增强拉曼散射(SERS)光谱研究含偶氮基长链脂肪酸薄膜

表面增强拉曼散射（ＳＥＲＳ）光谱研究含偶氮基长链脂肪酸薄膜吴玉清赵冰徐蔚青陶艳春吴英李伯符（吉林大学超分子结构与谱学开放实验室１３００２３）ＳｕｒｆａｃｅＥｎｈａｎｃｅｄＲａｍａｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｉｃＳｔｕｄｙｏｆＡｚｏｂｅｎｚｅｎｅＣｏｎｔａ...     

Evolution of elemental distribution in free-standing structures of Zr/ZrSi<Subscript>2</Subscript> with MoSi<Subscript>2</Subscript> and ZrSi<Subscript>2</Subscript> protective coatings under annealing

An analysis of the in-depth distribution of elements in annealed samples of multilayer Zr/ZrSi₂ EUV filters with protective layers of MoSi₂ and ZrSi₂ was performed by secondary ion mass spectrometry (SIMS). The vacuum annealing of the samples was performed at temperatures of up to 720–950°C for 3–7 h and at a residual pressure of ∼10⁻⁷ torr. It was demonstrated that MoSi₂ coatings effectively inhibit the accumulation of oxygen by the heated film, which is the process that determines the optical degradation of the filter.     

2(8-羟基喹啉)-2(苯酚)合锆薄膜的制备与性能研究

设计合成了一种新型的有机电致发光材料2(8-羟基喹啉)-2(苯酚)合锆(Zr(OPh)₂q₂),制备了Zr(OPh)₂q₂薄膜,并利用红外光谱、差热-热重谱、扫描电镜、X射线衍射谱、UV吸收谱和荧光光谱等方法研究了其晶态、热稳定性、能带结构以及光致发光机理。结果表明,Zr(OPh)₂q₂的熔点为381.2 ℃,分解温度为467.1 ℃,具有非常高的热稳定性,利用真空热蒸镀方法很容易在经过净化处理的玻璃基底上形成高质量、无定形纳米级薄膜,在390 nm紫外光的激发下,Zr(OPh)₂q₂薄膜产生发光峰为525 nm、半峰宽度为107.6 nm的强黄绿色荧光,其粉体产生强黄色荧光,是一种性能优良的电致发光材料。     

Surface segregation of Al substrate metal on Zr film surface

Segregation of substrate Al on thin Zr film, Zr/Al/Al system was investigated by heating the specimen in a UHV chamber. Dual-cathode magnetron-sputtering source was used for deposition of Zr film as well as thin Al film to avoid aluminum oxide formation at Zr/Al interface. Al segregates on Zr film surface at 730 K. It was found that oxide-free interface between film and substrate is important for segregation in Al system. The diffusion coefficient calculated for surface segregation and inter-metallic compound showed that the grain boundary diffusion and bulk diffusion are very close in Zr/Al/Al system. Hence, it is important to control specimen heating to cause surface segregation by grain boundary diffusion.     

应用于WCDMA移动通信的高温超导滤波器设计

基于Sapph ire基片的双面YBCO超导薄膜,设计了应用于第三代移动通信系统—WCDMA移动通信系统的8节和12节高温超导滤波器。滤波器采用了Ω型谐振器,具有结构紧凑、易引入交叉耦合等特点。在引入交叉耦合之后,滤波器频率响应具有准椭圆函数的特性,其带边陡峭度比切比雪夫型滤波器提高了60%以上。     

自支撑聚酰亚胺/锆膜的制备及性能改善

 采用直流磁控溅射法制备自支撑锆(Zr)膜,采用二步法制备聚酰亚胺(PI)膜,在Zr膜表面沉积PI膜得到自支撑PI/Zr复合膜。均苯四甲酸酐(PMDA)和二甲基二苯醚(ODA)在二甲基乙酰胺(DMAC)中反应得到聚酰胺酸(PAA),然后PAA高温亚胺化得到PI;PI成膜时采用提拉法成膜。经国家同步辐射实验室计量线站测定,实际测量结果与理论分析一致,PI膜的引入虽然会导致自支撑薄膜透过率有所下降,但在类镍-银软X射线13.9 nm波段PI(200 nm)/Zr(300 nm)和PI(200 nm)/Zr(400 nm)自支撑薄膜的透过率仍然分别达到14.9%和7.5%。