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为了了解温度变化对光正反方向入射冰洲石晶体Wollaston棱镜分束角的影响,首先明确了棱镜的结构角和晶体中o光、e光的主折射率是决定棱镜分束角的两个因素;然后从温度对这两个因素的影响出发,从理论上对光正反方向入射冰洲石晶体Wollaston棱镜o光、e光分束角的温度效应进行了研究,结果表明:随温度的升高,光正反方向入射时Wollaston棱镜两分束角均在减小,但光正方向入射时o光分束角减小的幅度要比e光大得多,而光反方向入射时e光下降幅度要比o光大得多;总体上光反方向入射要比正方向入射分束角受温度的影响大,实验测试结果与理论分析相吻合. 相似文献
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入射角对偏光棱镜光强透射比的影响分析 总被引:1,自引:0,他引:1
标志激光偏光棱镜设计好坏的一个重要指标是棱镜的光强透射比,研究棱镜的光强透射比随入射角的变化有助于了解实验中光线非正入射时带来的光强损失。利用菲涅耳公式并考虑到多束光的干涉,得出了激光偏光棱镜的光强透射比公式,由该公式看出偏光棱镜的光强透射比与光束的入射角,胶合介质的折射率,入射波长,胶合层的厚度,入射面的方位及棱镜的结构角有关。通过对某些参数的合理设定,较系统地讨论了入射角对棱镜光能透射比的影响,得出了棱镜的光强透射比随入射角的变化规律。 相似文献
10.
Rochon起偏分束棱镜的结构设计 总被引:2,自引:1,他引:2
Rochon棱镜是一种重要的冰洲石起偏分束器。本文通过分析棱镜结构设计中涉及的切割角、偏向角、半视场角和所用胶合剂的折射率等因素,提出了一种设计方法,并形成计算机程序,不仅可以优化结构参数;还可以对棱镜的若干性能作出预测。 相似文献
11.
基于斯托克斯参量的光弹性应力分布及成像方法研究 总被引:4,自引:0,他引:4
提出了一种基于斯托克斯参量测量的实时光弹性应力测量及其成像的新方法,对该方法的原理及参量测量方法进行了深入研究。根据分振幅斯托克斯参量测量原理设计一个实验系统,利用Equator-Poles(E-P)法定标系统,采用4个性能一致的光电探测器实现光束斯托克斯参量的快速实时测量。用实验系统测量单色平面偏振光通过光弹性样品后的斯托克斯参量,求得出射与入射偏振光的相位延迟量,再求得样品的应力值。运用该方法对有应力分布的平板玻璃和轴向受压有机玻璃进行测量并扫描成像,得到它们的应力分布图像。结果表明,该方法能够准确、快速和无损地测量光弹性样品任意位置的应力,实现对应力的实时测量。 相似文献
12.
雪粒径的形状因素对积雪的反射光谱曲线影响较大,如何有效地刻画雪粒径的形状参数成为研究的热点。渐进辐射传输模型被广泛地应用于雪粒径反演,其对雪粒径形状的描述只采用了2个值(3.62对应于片状雪粒径,4.53为球形雪粒径),较难描述积雪的形状参数,同时为了反演积雪的雪粒径,这两个形状参数必须被提前固定,这大大降低了雪粒径的反演精度,为此提出了一种基于光谱库的雪粒径及形状参数反演算法(LUTMA)。首先利用渐进辐射传输模型建立不同粒径,不同形状参数的光谱库,然后采用光谱角指标进行匹配,最终获取积雪的粒径与形状参数。实验表明,基于光谱库的雪粒径及形状参数反演新方法与实测数据较为吻合。 相似文献
13.
C.M. CoetsierF. Testa E. CarretierM. Ennahali B. LaborieC. Mouton-arnaud O. FluchereP. Moulin 《Applied Surface Science》2011,257(14):6163-6170
Tungsten is widely used as deposited layer for the multi-level interconnection structures of wafers. The chemical composition of abrasive slurry plays an important role in chemical mechanical polishing (CMP) process. Removal of tungsten is driven by complex oxidation mechanisms between slurry components. The slurry for tungsten CMP generally contains oxidizer, iron catalyst, complexing agents and stabilizers in a pH adjusted solution of abrasive particles. Interaction between iron complex and H2O2 in the slurry is the main factor governing the chemical mode of material removal, oxidation potencies and kinetics.In this study, we investigate the effects of chemical additives in silica (SiO2)-based slurry on the removal rate of the tungsten film. Experiments were carried out in static batch as a preliminary study to understand and optimize chemical mechanisms in CMP-Tungsten process. Experiment designs were conducted to understand the influence of the chemical additives on the main performances of W-CMP. Used slurry, concentrated and retreated with chemical adjustments, is compared to the original slurry as a reference. 相似文献