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西北光学仪器厂技革组 《光学技术》1977,(1)
许多从事粗磨加工的工人都比较熟悉PM500粗磨机。多年来,它在光学零件的粗磨加工中发挥了一定的作用。但是,该机床设计时只考虑到粗砂加工,因此精度不高,零件加工后的平行差较大(约0.3毫米左右),不得不进行手修。并且机床的机械部位稳定性差,经常停工维修。为了能在PM500粗磨机上直接加工出达到粗磨完工要求的零 相似文献
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PM500平面铣磨机可加工直径为500毫米的平面光学零件和镜盘,除平面零件外,配上专用夹具也可以加工棱镜及其它具有平面的零件。该机床除手工装卸工件外,其余均为自动化,生产效率较高。下面谈谈该机床使用中的若干问题。一、概况平面玻璃的粗磨加工,要求得到良好的平面性(即平直度要好),并达到图纸要求的平行差,故在安装磨轮时,磨头轴线与工作台电磁吸盘平面的垂直度是非常重要的。西光厂在解决这一问题时,一方面调整工作台面与磨头轴的垂直度,另一方面又发现电磁吸盘本身有凸凹不平现象。他们利用已装好的金刚石磨轮把电磁吸盘磨一下(进刀量要 相似文献
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<正> 我厂在光学零件粗磨平面加工和棱镜成盘铣磨中,采用矩形工作台配置电磁吸盘和多用真空吸台、用切入式一次走刀贯穿铣磨方法加工各种大小不同平面或棱镜和柱形镜,比一般的铣磨法能提高工效3~4倍。一、磨削工作原理1.一般的平面铣磨机加工平面都在PM500型平面铣磨机或QM30透镜铣磨机上进行,其加工原理如图1所示。金刚石砂轮(1)高速回转并作慢速垂直进给,工件2作回转,用螺旋式进给方式使工件逐步磨削至所需尺寸后, 相似文献
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在大口径超精密平面光学元件加工中,环抛是一种重要的抛光技术,作为古典抛光的一种改进工艺,它在光学加工中得到了广泛的应用。但是它目前还存在着一些问题:对操作者的经验依赖太强,加工效率不高,加工质量也不稳定。根本原因是人们对抛光磨削的规律还认识不够,尤其是—些工艺参数的影响。 相似文献
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<正> 随着金属加工技术的日益发展,光学冷加工技术中某些工序如果借鉴金属加工技术的原理,大胆采用某些通用技术与设备,对光学零件冷加工而言是一场革新,M7475B立式磨床在冷加工中的应用就是一个典型的例子。与其它一些光学冷加工专用设备,如中国南京仪表机械厂生产的Q8820棱镜铣磨机和国营光辉机械厂生产的PM500平面粗磨机相比较,M7475B立式磨床集两者功能于一体,可进行 相似文献
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为了完善平面摇摆式抛光的理论并指导加工,基于Preston方程建立了平面摇摆式加工的去除模型,并使用该模型在Matlab中仿真计算元件上各点在不同加工参数情况下的去除量,最终得到不同加工参数情况下所产生的不同去除形貌。通过控制不同参数在430mm×430mm平面石英元件上进行抛光实验,验证去除模型的正确性,对比相同参数下仿真得到的去除形貌和加工后检测得到的面形图可知该去除模型能够正确预测不同加工参数时的去除量,从而证实了该模型能够准确、有效地指导摇摆式抛光。 相似文献
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对主动抛光盘在加工、测量状态下盘面的变形及提升的数学分析* 总被引:3,自引:2,他引:1
用主动抛光盘磨制非球面是一个动态的过程,必须保证在计算机控制下,主轴的移动、旋转。和抛光盘的旋转、倾斜、变形及升降,以及主镜的旋转都步调一致。推导出在模式中诸要点的位置、速度、加速度和时间的关系,并根据所加工的口径φ910mm,焦比为F/2的抛物面主镜参量和所用主动抛光盘的参量分析:1)主动抛光盘基板的变形特性。即它的变形量、变形的速度和加速度。以及近似公式与精确公式之间的差异;2)主动抛光盘背面的三个提升点运动规律。即它的升降量、升降的速度和加速度;3)主动抛光盘的变形量和它在差分变压器式线性微位移传感器(LVDT)测试架上所测得的测量量之间的关系;4)分析主动抛光盘的变形与提升的速度与加速度和抛光盘沿横梁的运动速度V1以及抛光盘自身的转速V2之间的关系和特性。此分析是主动抛光盘的数学基础,它为主动抛光盘的机械和电控设计提供了技术依据,为实现计算机控制下的6轴联动提供了保证。 相似文献
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<正> 一、概述PM500铣磨机的使用大大提高了粗磨整平工艺的机械化程度。但由于机床本身的精度以及磨轮、磨削量、进给量、冷却液等多方面因素的影响,粗磨光学零件之光洁度一般只能达到220~#~240~#砂面。国内粗磨平面一般采用的磨轮粒度均在JR60~#~100~#之间,其浓度为100%。粗磨完工所要求的零件表面光洁度等级一般为▽6。从我国粗磨平面的特点来看,一般要去除较大的加工余量,单面余量多在2~3毫米之间,有的零件磨削第一面时其余量竟达5毫米以上。这势必要求金刚石磨轮具有良好的磨削性能,也就是磨轮应选用青铜结合剂且粒度应较粗。实践证明,粒度在80~#~100~#的磨轮由于其磨削力小,用于PM500铣磨机是不合适的,目前普遍采用的粒度为60~#~70~#的金刚石 相似文献
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扫描补偿系统是3DLIF水体测量系统中实现大尺寸平面激光等光程扫描的关键部分,决定了平面激光光束在流体水槽中的定位精度;系统3 000 mm长的光程和500 mm宽的光源使定位精度难以保证。针对该问题,分析了扫描补偿系统中可能存在的误差因素和各项因素之间的影响关系,建立了相关误差模型并进行仿真分析,对得到的误差数据进行了多项式拟合,拟合结果显示,棱镜制造角差和平面反射镜绕z轴的俯仰为影响位置误差的主要因素;为了减小误差,进一步分析拟合结果,得到了两项因素之间的关系表达式,提出了以仿真结果指导装调来减小误差的方法。最终仿真结果显示,通过该方法使平面激光在水槽中的位置误差可以从0.618 mm减小到0.103 mm。 相似文献
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光学平面绝对检验方法的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
应用两种方法对三个高精度平面进行了测试。第一种方法是Fritz的三面互检法,它利用Zernike多项式的特性拟合三个面四次组合测量得到的干涉图,然后求出三个面的Zernike多项式系数,从而得到三个面的面形偏差。第二种方法是奇偶函数法,根据函数的奇偶性,把平面的面形函数分解为四类:偶奇、奇偶、偶偶和奇奇函数,分别求出各分量,从而得到三个面的三维面形偏差。对两种方法都编制了理论模拟和实测程序,并进行了实验,实现了无参考面的高精度平面面形测试。 相似文献
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针对变包含角平面光栅单色器前置平面镜(PM)受热负载而导致的单色器分辨率降低问题,提出优化聚焦常数(Cff)补偿分辨率的方法。首先,计算不同Cff值时PM的热功率吸收谱,在此基础上对镜面热负载进行热-结构耦合分析,得到不同热负载时PM表面热变形的变化量;然后,结合理想分辨率公式和光线追迹软件求出加热负载的单色器分辨率;最后,优化Cff实现分辨率的补偿。研究结果表明,以软X射线谱学显微光束线站为例,当出射光能量为1 000 eV时,将Cff由1.8优化至1.84,单色器分辨率即可与无热负载时的相同,该优化方法可有效补偿单色器分辨率的降低。 相似文献
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针对变包含角平面光栅单色器前置平面镜(PM)受热负载而导致的单色器分辨率降低问题,提出优化聚焦常数(C ff)补偿分辨率的方法。首先,计算不同C ff值时PM的热功率吸收谱,在此基础上对镜面热负载进行热-结构耦合分析,得到不同热负载时PM表面热变形的变化量;然后,结合理想分辨率公式和光线追迹软件求出加热负载的单色器分辨率;最后,优化C ff实现分辨率的补偿。研究结果表明,以软X射线谱学显微光束线站为例,当出射光能量为1 000 eV时,将C ff由1.8优化至1.84,单色器分辨率即可与无热负载时的相同,该优化方法可有效补偿单色器分辨率的降低。 相似文献
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单球面超薄透镜厚度小、球面半径较大,使用传统的球面加工方式速度慢、加工难度大;而使用平面加工方式,拆胶后零件变形较大,无法稳定满足球面半径以及中心偏的要求。为了降低成本、稳定量产这类产品,采用了双面抛光和平面加工相结合的方式,找到了一种简便快捷的加工方法;同时结合使用平面干涉仪,提供了一种中心偏检测方法,有效地解决了产品加工难和检测难的问题。为这类产品的大规模生产和检测提供了支持。 相似文献
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<正> 直读式测量角度的光学仪器,绝大多数都装有玻璃度盘。我们使用QM08A透镜铣磨机对该零件的孔进行加工,周期短、效率高、节约材料和辅料,孔的精度在批量(约500件) 相似文献
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王守义刘卫国李世杰惠迎雪周顺冯瑶 《光学技术》2020,(6):757-762
KDP晶体在惯性约束核聚变光学系统中具有十分重要的作用,针对如何制造出满足应用要求的KDP晶体元件仍然是一个难点的问题。进行了采用飞切加工技术对KDP晶体平面元件的加工工艺研究。介绍了飞切加工的技术原理,以及影响表面粗糙度的因素;通过相应的工艺实验,对KDP晶体加工检测过程中可能影响表面粗糙度的各个因素进行了研究。实验结果表明:金刚石刀具参数、加工参数、以及加工后表面清洁方式都会影响表面粗糙度,但是金刚石刀具参数对表面粗糙度的影响最大。采用前角为-45°、圆弧半径为5.0mm的金刚石刀具,以及最优的加工参数,可以获得表面粗糙度Sa优于1nm的超光滑表面。研究结果对飞切加工KDP晶体平面元件提供了有效的工艺方案,具有广泛的工程应用价值。 相似文献