吲哚碳菁染料的合成及光谱特征

在吡啶中, 吲哚啉碘盐与原乙酸三乙酯缩合合成了一些新的吲哚碳菁染料.根据紫外-可见光谱, 荧光光谱讨论了它们的取代基和光谱特征的关系.     

N—苄基吲哚三碳菁染料的合成及性能

合成了５种Ｎ－苄基吲哚三碳菁染料，通过红外光谱、核磁共振氢谱及元素分析确证了其结构，并研究了电子吸收光谱、荧光光谱、光稳定性及溶解度。结果表明，染料溶液和膜的最大吸收波长均为７８０￣８３０ｎｍ；染料在二氯乙烷中的溶解度大于在乙醇中的溶解度；氮原子上苄基的吲入极大地改变了染料的光稳定性（与ＨＩＴＣＩ比较）。     

吲哚菁染料的研究进展

吲哚菁染料以其特有的结构, 已成为在光谱增感、光盘存储、生物分析、太阳能电池等方面应用广泛的染料品种之一. 综述了十五年来吲哚菁染料的合成进展, 对其应用现状作了简要介绍.     

新型吲哚碳菁染料的合成及表征

通过简单而有效的方法合成了14个二碳菁和三碳菁染料,其中大多数是新化合物,同时研究了染料的组成和性质之间的关系。     

吲哚碳菁染料的合成及其光谱特性的研究

将(未)确定的1-(3'-磺酸丙基)2,3,3-三甲基吲哚啉内盐与原乙酸三乙酯在吡啶或酸酐中回流合成了五个氮原子上带有磺酸丙基的取代吲哚碳菁染料. 这些染料和杂环氮原子上带有烷基取代的吲哚碳菁相比, 它们具有较高的熔点, 在极性溶剂中具有较高的溶解度. 这些染料的最大吸收值在540～580nm之间, 并具有较高的消光系数(1～2×10^5L·mol·cm^-^1) .     

N-苄基吲哚三碳菁染料的合成及性能

合成了5种N-苄基吲哚三碳菁染料,通过红外光谱、核磁共振氢谱及元素分析确证了其结构,并研究了电子吸收光谱、荧光光谱、光稳定性及溶解度。结果表明,染料溶液和膜的最大吸收波长均为780～830nm;染料在二氯乙烷中的溶解度大于在乙醇中的溶解度;氮原子上苄基的引入极大地改进了染料的光稳定性(与HITCI比较).     

水溶性七甲川吲哚菁染料的合成及其在含CTAB溶液中的光谱研究

本文合成并表征了一种水溶性七甲川吲哚菁染料,测试了染料在不同溶剂和不同浓度的表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)中的吸收和荧光光谱性质.结果表明:染料的最大吸收和荧光发射光谱值(乙醇中)分别是796nm和813nm.随着溶剂的黏度增大,染料的荧光强度逐渐减弱.CTAB形成胶束前,随着CTAB浓度的增大,染料的吸收...     

含喹啉环端基不对称三甲川菁的合成与性能

含喹啉环端基不对称三甲川菁的合成与性能姚祖光，陈峡华，张清华（华东理工大学精细化工研究所，上海，２００２３７）关键词菁，电子吸收光谱，光稳定性，光谱增感菁染料是一种卤化银乳剂的有效光谱增感剂［１］，近年来随着光源的变化，特别是半导体激光器的研制成功，...     

吲哚二碳菁染料的合成

合成了五种N－烷基吲哚二碳菁染料，通过质谱、核磁共振氢谱及红外光谱确证了化合物结构。测定了化合物在溶液中的紫外吸收光谱和溶解度，讨论了溶解度、熔点与染料分子结构的关系。     

含N-烷基吲哚环方酸菁染料的合成及性能

本文合成了七个N-烷基取代吲哚环的方酸菁染料,通过红外光谱、核磁共振氢谱、质谱与元素分析确认其结构。测定它们的电子吸收光谱、熔点、溶解度和光褪色。结果表明共轭链上引入方酸桥环提高了光稳定性,N-烷基对染料的λmax的影响很小,但较大地改进了溶解度与熔点,带有支链的烷基有更好的溶解性能。     

含吡喃鎓牟欢猿迫状ㄈ玖虾铣杉肮庑阅

合成了八个新的含吡喃端基的不对称三甲川染料，通过元素分析、ＩＲ光谱及￣１Ｈ－ＮＭＲ谱确证了这些化合物的结构。最大吸收波长在６３０—６８０ｎｍ，有大的半峰宽。     

氯取代硫三碳菁染料的合成及性能

本文合成了七个硫三碳菁.其中四个具有桥环的菁染料。测定了它们的电子吸收光谱,讨论了结构对光稳定性的影响。并发现镍络合物能有效地抑制菁染料的光退色。     

新型吡喃鎓方酸菁染料溶剂效应、聚集行为研究

本文研究了五个吡喃鎓方酸菁染料的溶剂效应,发现最大吸收峰波数υ与函数f(n,ε)存在较好的线性关系,而Bayliss函数项(n²-1)/(2n²+1)决定了吸收光谱的位移变化Δυ,同时还分析了氢键相互作用对理论函数模型的误差.根据染料的聚集动力学证实了染料在正丙醇/水(4:21,体积比)体系中确有二聚体的产生,并发现了两组不同的聚集特性.此外,使用APCIMS质谱技术证实Dye3二氯甲烷浓溶液中也产生了二聚体.     

菁染料和份菁染料的合成及其溶液的光稳定性研究

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器,研究了菁染料和份菁染料的光降解动力学.研究结果表明,染料在乙腈溶液中的光褪色反应遵循假一级或零级动力学衰减.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料具有相对较好的光稳定性.     

含吡喃鎓端基的苯乙烯染料合成及电子吸收光谱

多甲川染料已广泛用于银盐感光材料、电子照相、染料激光器、光记录介质及太阳能转换体系等方面。其中苯乙烯多甲川染料具有宽的吸收光谱,引起人们的重视。我们曾合成了含吡喃鎓多甲川染料,它们与含氮杂环的多甲川染料相比,吸收波长红移,并具有极好的光化学稳定性。本文合成了含吡喃鎓端基的二甲川及四甲川苯乙烯染料,测定了电子吸收光谱。     

菁染料薄膜的光谱性能及稳定性的研究

本文研究了6种长链菁染料薄膜的光谱特性与光稳定性,以及两种抗氧剂对其薄膜光稳定性的影响。研究表明,结构相近的菁染料利用旋涂法成膜后,光稳定性与其母核的结构有关,依吲哚>喹啉> 唑>噻唑>硒唑顺序而变,与溶液状态下相类似,两种抗氧剂均为有效的单重态氧猝灭剂,都能提高菁染料的光稳定性。且抗氧剂的用量对染料的稳定性也会产生一定的影响     

菁染料单分子膜覆盖的铂电极的电化学特性

L-B膜作为一种单分子膜技术已经得到了广泛的应用。最近很多人用电化学方法研究覆盖有L-B膜电极的特性^[1,2]。许多工作^[3-5]证明了脂肪酸L-B膜具有很强的抑制离子透过和抑制电子隧道电流的能力。