镜面磨角法检测硅芯片上的多层薄膜

本文介绍一种可以用来剖析大规模集成电路芯片上多层薄膜分布的“镜面磨角—干涉显微镜”观测法。膜间界面比较清楚,使用国产6JA型干涉显微镜,可以拍照得到清晰的显微图象,能够以270A°的精度检测薄膜的厚度,还可以测出厚膜的平均折射率。文中给出了实验照片。     

过氧聚钨酸薄膜上光栅的制备

用过氧聚钨酸（PPTA）水溶液，通过离心涂膜法在显微镜载玻片上制备了具有光滑表面且厚度为100nm的PPTA薄膜，利用PPTA薄膜在紫外光照下可研制光栅以及其它光学元件的薄膜材料，具有很高的利用价值。     

多层介质中电磁波的反射与透射

从电磁场的边值关系出发导出了任意多层的层状介质中反射和透射电磁波的振幅与层状介质表面入射电磁波的振幅之间的关系。并对一些层状结构作了数值计算，绘制了曲线图。     

磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响

本文主要讲述了SV-TMR结构中以自由层为模拟的多层膜SiO2/NiFe/Ta与SiO2/NiFe/Ru中,不同厚度的保护层钽(Ta)和钌(Ru)对磁性层NiFe的影响.我们采用振动样品磁强计(VSM)和X射线衍射仪(XRD)对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,结果表明:改变保护层厚度时,两种样品的饱和磁化强度不变,随Ru厚度的增加,样品SiO2/NiFe/Ru的矫顽力也增加.同时用XRD测量发现,以Ru为保护层生长的样品比Ta为保护层生长的样品具有更好的织构,更好的结晶性.Ru比Ta更适合做磁电阻多层膜的保护层.     

电化学制备Ni-Cu/Cu超晶格多层膜

采用单槽双脉冲恒电位制备了超晶格Ｎｉ－Ｃｕ／Ｃｕ多层膜，测试结果表明：Ｎｉ－Ｃｕ层与Ｃｕ层间界面清晰，各层均匀连续、相互覆盖，具有良好的周期结构；Ｎｉ－Ｃｕ４．６ｎｍ／Ｃｕ１．４ｎｍ是具有良好外延生长的超晶格结构，铜、镍生长的择优取向面为［１１１］晶面，该材料表现出特殊的阳极溶解性能．     

一类非线性奇摄动问题的多层解

利用匹配渐近展开法,讨论一类非线性奇摄动边值问题中边界层内存在两个特异极限的多层解.首先,构造原问题的外部解;其次,利用伸长变量,求得了两个特异极限,进而得到了对应问题的两个内部解;最后,研究了边界层位于三种不同位置的多层解,利用匹配原则,求出了各种情形解的一致有效     

多层与高层框架的侧向变形剖析

多层与高层框架在侧力作用下的侧向变形,国内外的各资材中,都认为是“剪切型”的,或谓以“剪切型”变形为主,因而高层框架可用等效剪切梁代替之[1—9]。作者认为这种说法并不正确,因高层框架的侧向变形,能与梁的剪切变形可比拟的部分,即剪切型变形的量值仅占整个变形的一小部份,而主要的还要“弯曲型”变形。此外,本文认为各资料提出的高层框一剪体系框架与剪力墙之间的相互作用力的大小与变化规律的说法亦是不妥当的。     

二层多目标优化问题的灵敏度分析

借助集值优化问题的灵敏度分析,讨论了上层无扰动,下层带扰动参数的二层多目标最优化问题的灵敏度分析。     

指数分布无失效数据的Bayes估计多层Bayes估计

给出了指数分布无失效数据在时刻ｔｉ的失效概率Ｐｉ＝Ｐｒ｛Ｔ＜ｔｉ｝的Ｂａｙｅｓ估计、多层Ｂａｙｅｓ估计，从而得到了时刻ｔｉ的可靠度的估计。     

面向对象多层分布并行逻辑语言MDP－PROLOG~（＋＋）的设计

本文探讨了逻辑、面向对象、多层并发等方法的融合，介绍了一个较规范、较通用的面向对象多层分布并行逻辑语言ＭＤＰ－ＰＲＯＬＯＧ＋＋，论述了该语言面向对象设施和并发执行设施的设计．该语言不仅可在多层分布并行系统上实现，也可在小规模粗粒度的并行系统上实现．     

成败型试验中无失效数据的多层Bayes分析

在有些情况下,很难确定产品的寿命类型,有时虽然产品的寿命分布类型已知,但获得的仅仅是失效个数,而无精确的失效时间,特别是在高可靠定时截尾寿命试验中,经常出现无失效,即失效个数为0的情况.对于此种无失效数据的可靠度,在可靠度的先验分布为负对数伽玛分布时给出了它的Bayes     

下层带扰动参数的二层多目标最优化问题有效点集的锥次微分稳定性

关于集值映射最优化问题有效点集的稳定性问题,一些学者在半连续意义下得到比较系统的结果。近年,在锥次微分意义下又获得更深入的描述。借助集值映射最优化问题有效解(点)的锥次微分稳定性理论,讨论了上层无扰动,下层带扰动参数的二层多目标最优化问题有效点集的锥次微分稳定性。