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朱胜江 J.H.Hamilton A.V.Ramayya L.Chaturvedi J.Kormicki X.W.Zhao I.Y.Lee N.R.Johnson C.Backtach F.K.Mcgowan M.L.Halbert J.D.Cole 《中国物理 C》1992,16(6):539-545
用在束γ谱实验技术,对68Ge、65Ga与67Ga的高自旋态进行了研究.所用核反应为46Ti(25Mg,xpxn),束流能量为68MeV.在68Ge中,观测到新的8+以上的多带结构、带间的交叉跃迁及一个新的可能具有大形变的带.新的微观模型(EXCITED FED VAMPIR)的计算结果与实验数据比较得到满意的符合.在65Ga与67Ga中,给出了这两种核的新的能级图,观测到集体性很强的带结构. 相似文献
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Semi-insulating GaN is grown by using a two-step A1N buffer layer by metalorganic chemical vapour deposition. The sheet resistance of as-grown semi-insulating GaN is dramatically increased to 10^13 Ω/sq by using two-step A1N buffer instead of the traditional low-temperature GaN buffer. The high sheet resistance of as-grown GaN over 10^13 Ω/sq is due to inserting an insulating buffer layer (two-step A1N buffer) between the high-temperature GaN layer and a sapphire substrate which blocks diffusion of oxygen and overcomes the weakness of generating high density carrier near interface of GaN and sapphire when a low-temperature GaN buffer is used. The result suggests that the high conductive feature of unintentionally doped GaN is mainly contributed from the highly conductive channel near interface between GaN and the sapphire substrate, which is indirectly manifested by room-temperature photoluminescence excited by an incident laser beam radiating on growth surface and on the substrate. The functions of the two-step A1N buffer layer in reducing screw dislocation and improving crystal quality of GaN are also discussed. 相似文献
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A. Yildiz S. B. Lisesivdin S. Acar M. Kasap M. Bosi 《中国物理快报》2007,24(10):2930-2933
Resistivity and Hall effect measurements on n-type undoped Ga-rich InxGa1-xN (0.06 ≤ x ≤ 0.135) alloys grown by metal-organic vapour phase epitaxy (MOVPE) technique are carried out as a function of temperature (15-350 K). Within the experimental error, the electron concentration in Inx Ga1-x N alloys is independent of temperature while the resistivity decreases as the temperature increases. Therefore, Inx Ga1-xN (0.06 ≤ x ≤0.135) alloys are considered in the metallic phase near the Mort transition. It has been shown that the temperaturedependent metallic conductivity can be well explained by the Mort model that takes into account electron-electron interactions and weak localization effects. 相似文献
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综述了近几年国内铝土矿中镓分析方法的研究进展,叙述了用于微量镓分析测定的光度法、伏安法、原子吸收光谱法、电感耦合等离子体-原子发射光谱法、电感耦合等离子体-质谱法、X射线荧光光谱法等分析方法,对方法的优缺点进行了评述,并对今后微量镓分析测定方法进行了展望. 相似文献
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采用自行研制的立式MOCVD生长系统 ,以TMGa、TEGa为Ga源 ,在不同的生长条件下生长GaN单晶膜。然后对样品进行室温光致发光光谱测试、范德堡霍尔测量和X射线双晶衍射测试。实验结果表明 ,缓冲层的Ga源不同对GaN单晶膜质量影响很大 ;以TEGa为Ga源生长缓冲层及外延层 ,外延层不连续 ;以TMGa为缓冲层Ga源、TEGa为外延层Ga源 ,在此得到室温载流子浓度为 4 5× 1 0 17cm-3 ,迁移率为 1 98cm2 /V·s的电学性能较好的GaN单晶膜。研究结果表明 :使用TEGa为外延层Ga源生长GaN ,能有效地抑制不期望的蓝带的出现。 相似文献
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在Y3Ga5O12石榴石中,室温下采用紫外激光选择激发光谱研究了能量从Tb3+的5D3和5D4能级无辐射传递给Ce3+的2D3/2能级。实验结果符合Frster-IH直接无辐射传递理论。5D3(Tb3+)→2D3/2(Ce3+)能量传递是电偶-偶极子相互作用机理,其平均临界传递距离为R0=16.3?,而5D4(Tb3+)→2D3/2能量传递是起主导作用的电偶-偶极子相互作用,其平均临界传递距离为11.2?。在5D4的传递过程中,电偶-四极子相互作用也应予以考虑。
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古新安 朱韦臻 罗志伟 ANDREEV Y M LANSKII G V SHAIDUKO A V IZAAK T I SVETLICHNYI V A VAYTULEVICH E A ZUEV V V 《中国光学》2011,4(6):660-666
采用水平区熔法生长了碲(Te)掺杂浓度(质量百分比)分别为0.05%,0.1%,0.5%,1%,2%的硒化镓(GaSe)晶体,并分别对掺杂浓度为0.01%,0.07%,0.38%,0.67%,2.07%的GaSe∶Te晶体的光学性能进行了表征。首次研究了GaSe∶Te晶体中刚性层声子模式的转换。吸收光谱测试结果表明:当Te掺杂浓度小于0.38%时,振动中心位于0.59 THz附近的E'(2)刚性模式吸收峰强度可达最大值,这一过程与GaSe∶Te晶体光学性能的提高密切相关。但Te掺杂浓度的进一步提高会导致E'(2)刚性模式吸收峰强度逐渐减弱,当Te掺杂浓度为1%时,E'(2)刚性模式吸收峰基本消失。这两个过程与GaSe∶Te晶体光学质量的下降密切相关。因此,E'(2)刚性模式吸收强度达到最高时对应的掺杂浓度即是GaSe∶Te晶体中Te的最佳掺杂浓度,光整流产生太赫兹过程证实了此结论的正确性。 相似文献
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采用第一性原理分子动力学方法研究了高温下正常密度和高密度液体镓的结构和性质。结果与有关实验事实相符合,发现液体镓中仍残留着共价键相结合的镓分子,随着密度的增加,结构因子主峰右边逐渐发展成为一肩膀。并从能量角度讨论了液体镓结构因子中出现肩膀的物理原因。
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采用光度法测定了4,4',4",4"'-磺酸酞菁镓(TsPcGa)的二聚平衡常数Kd,讨论了PH值,离子强度、水温度等因素对Kd的影响。 相似文献
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古新安 朱韦臻 罗志伟 ANDREEV Y M LANSKII G V SHAIDUKO A V IZAAK T I SVETLICHNYI V A VAYTULEVICH E A ZUEV V V 《中国光学与应用光学文摘》2011,(6)
采用水平区熔法生长了碲(Te)掺杂浓度(质量百分比)分别为0.05%,0.1%,0.5%,1%,2%的硒化镓(GaSe)晶体,并分别对掺杂浓度为0.01%,0.07%,0.38%,0.67%,2.07%的GaSe∶Te晶体的光学性能进行了表征。首次研究了GaSe∶Te晶体中刚性层声子模式的转换。吸收光谱测试结果表明:当Te掺杂浓度小于0.38%时,振动中心位于0.59 THz附近的E'(2)刚性模式吸收峰强度可达最大值,这一过程与GaSe∶Te晶体光学性能的提高密切相关。但Te掺杂浓度的进一步提高会导致E'(2)刚性模式吸收峰强度逐渐减弱,当Te掺杂浓度为1%时,E'(2)刚性模式吸收峰基本消失。这两个过程与GaSe∶Te晶体光学质量的下降密切相关。因此,E'(2)刚性模式吸收强度达到最高时对应的掺杂浓度即是GaSe∶Te晶体中Te的最佳掺杂浓度,光整流产生太赫兹过程证实了此结论的正确性。 相似文献