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Prokhorov I. A. Voloshin A. E. Romanov D. A. Bolshakov A. P. Ralchenko V. G. 《Crystallography Reports》2019,64(3):392-397
Crystallography Reports - The real structures of epitaxial CVD films of germanium and diamond have been comparatively analyzed. The influence of the specific features of elastic-stress distribution... 相似文献
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本文利用发射电子法经由热灯丝CVD在Si(100)上获得了局域异质外延金刚石膜.由Raman背散射强度(在1332cm-1处)旋转角依赖关系表明,金刚石膜与Si(100)的定向关系为dia(100)∥Si(100)和dia[110]∥Si[110].在金刚石膜的成核阶段,位于衬底和灯丝之间的电极相对于灯丝施加一负偏压,获得的金刚石膜用扫描电镜和Raman谱表征.对实验结果进行了简要的讨论. 相似文献
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椭球谐振腔式MPCVD装置高功率下大面积金刚石膜的沉积 总被引:1,自引:0,他引:1
使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,在输入功率为9 kW,沉积压力为1.7 ×104 Pa和不同的气体流量条件下制备了金刚石膜.利用扫描电镜、激光拉曼谱对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质等进行了表征.实验结果表明,利用椭球谐振腔式MPCVD装置能够在较高的功率下进行大面积金刚石膜的沉积;在高功率条件下,较高质量的金刚石膜的沉积速率可以达到4 ~5 μm·h-1的水平,而气体的流量则会显著影响金刚石膜的品质及其沉积速率. 相似文献
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分别采用超声振动冲击和脉冲激光加热技术对开槽金刚石砂轮断续磨削加工聚晶金刚石过程中的机械冲击和热冲击进行了模拟实验研究.研究结果表明,在断续磨削加工过程中,由于开槽砂轮和工件之间接触面积变化引起的磨削力周期性变化,有利于聚晶金刚石材料加工表面上的晶粒产生脆性微细破碎去除;由于开槽砂轮和工件之间接触面积变化引起的热冲击,有利于聚晶金刚石材料加工表面上的晶粒产生微细裂纹和疲劳破碎.实验结果表明,开槽金刚石砂轮磨块切入部分的磨粒以破碎损耗为主,磨块切出部分的磨粒以机械磨耗、氧化、石墨化损耗为主. 相似文献
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Strelov V. I. Baskakov E. B. Bendryshev U. N. Kanevskii V. M. 《Crystallography Reports》2019,64(2):311-314
Crystallography Reports - The specific features of magnetron sputtering deposition of thin SmS films for thermoelectric generators that do not require any forced formation of temperature gradient... 相似文献
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本文采用恒沸腾水解法制备了颗粒度均一的亚微米晶ZrO2 (Y2O3)粉体,并以其为增韧相,在高温(1350℃)超高压(5GPa)条件下制备ZrO2 (Y2O3)+SiC+金刚石的聚晶烧结体(PCD).用XRD、SEM背散射分析、冲击韧性测定和磨耗比测定研究了不同含量Y2O3稳定的ZrO2粉体对SiC-金刚石聚晶烧结体结构及机械性能的影响,结果表明:ZrO2 (Y2O3)粉体中Y2O3含量<2.2mol;时,ZrO2以四方t相+单斜m相的混合相形式存在于烧结体的结合剂基体上,t相量随Y2O3含量增加而增加,对SiC-金刚石聚晶烧结体的增韧来源于相变增韧和微裂纹增韧的叠加,当Y2O3含量>2.2mol;时,ZrO2以100;t相存在,增韧机制为相变增韧.在2.0mol;~2.2mol;Y2O3含量范围内,PCD可获得较高的磨耗比和冲击韧性. 相似文献
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PDC材料烧结中钴在金刚石层中的扩散熔渗迁移过程研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对不同烧结阶段快速冷却固化的PDC实验样品金刚石层中钴的线分布(EDX)分析结果表明,PDC材料烧结中钴在金刚石层中的运动过程经历了三个基本阶段:(1)钴固相扩散;(2)钴液熔渗;(3)两次钴高浓度峰在金刚石层中的"波浪"式迁移过程.其中第一次钴高浓度峰与金刚石聚晶结构形成密切相关;而第二次钴高浓度峰则与聚晶晶粒异常长大密切相关.钴在金刚石层中的"波浪"式迁移过程是由金刚石-钴系统中金刚石溶解再结晶生长过程造成的,在这一过程中温度梯度grad T和碳浓度差ΔC是钴峰"波浪"式迁移的直接驱动力. 相似文献
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采用MOCVD方法在GaAs衬底上生长ZnO(002)和ZnO(100)薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
采用金属有机化学汽相沉积生长法(MOCVD),在不同的衬底表面处理条件和生长温度下,在GaAs衬底上生长出了ZnO薄膜。随着化学腐蚀条件的不同,可生长出优先定位不同的ZnO(100)和ZnO(002)薄膜。该薄膜的晶体结构特性是由X光衍射谱仪(XRD)所获得的,而其光学特性是由光荧光谱仪(PL)来测的。与ZnO(002)相比,ZnO(100)薄膜具有更优越的晶体结构特性,并且在同样的生长温度下都具有相似的光学特性。对于腐蚀条件不同的GaAs衬底所进行的XPS分析结果表明,ZnO薄膜优先定位变化的主要原因在于腐蚀过程中形成的富As层。 相似文献
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本文在分析国内外钻探用聚晶金刚石应用及性能基础上,研制开发耐高温界面生长型聚晶金刚石,采用0.05钴片或钴铁片(5;铁)扩散工艺,对工艺组装制备及合成工艺条件进行详细分析论证,建立一种界面生长型聚晶金刚石合成工艺,由于采用强酸处理方法去除残余金属钴存在处理不彻底及对性能影响大缺陷,通过分析国内外聚晶热稳定性基础上,得出生长型聚晶晶间结构即Co存在状态是提高热稳定性关键,通过降低进入聚晶金属Co含量和改变晶间物相及组成,即主要是改变金属Co存在状态,加入适量金属Ti、W,在扩散生长同时生成新的固溶体-硬质合金,即TiC-Co、 WC-TiC-Co固溶体,从而改变聚晶显微组织中残留Co存在状态,并对样品进行电镜扫描、电子探针分析、转靶X射线衍射分析等分析,研究证明其结构基本是D-D键结合的高晶体,晶粒金刚石之间是D-D键错综连接形成多孔网状结构,产品具有高自锐性和热稳定性,热稳定达到1473K.最后对生长机理进行初步分析,并提出界面生长机理. 相似文献
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利用自行研制的可调谐圆柱谐振腔式微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置的结构优势,设计了电极可调节的偏压加强MPCVD装置.采用脉冲激光沉积(PLD)法制备了Ir(100)/MgO (100)基片.采用偏压加强MPCVD装置进行了金刚石异质外延形核的探索,在Ir(100)/MgO (100)基片上实现了金刚石异质外延形核.扫描电镜结果显示,[100]取向的金字塔状外延金刚石晶粒的形核密度达108~109 cm-2. 相似文献
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A. A. Ramadan S. K. Abdel-Raheem A. M. El-Shabiny M. F. Kaid 《Crystal Research and Technology》1992,27(1):59-68
Copper thin films (5–150 nm) were prepared by vacuum deposition with different rates (0.7, 1.5 and 3 nm/s). The position, intensity and profile of X-ray diffraction lines were analysed to study the phases, the crystallographic preferred orientation as well as the residual strain and crystallite size. The fcc polycrystalline Cu phase was revealed and no oxide phases were identified. The films were highly oriented with 〈111〉 fiber texture. The ratio of P111/P200 increased with the film thickness. Thus, in case of amorphous substrate, the type of the crystallographic texture of a film depends mainly on the structure of the deposited material. The crystallite size increases while the residual strain decreases, as the film thickness or the deposition rate is increased. The crystallite size was very small compared with the film thickness. The effect of deposition rate was pronounced specially from 0.7 to 1.5 nm/s. 相似文献
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Polycrystalline stochiometric films of Sb2Te3 with different thickness were prepared on glass substrates by a flash evaporation technique at constant substrate temperature of 423 K. The thermoelectric power of these films was determined by measuring integrally the developed thermo — e.m.f. at different temperature differences between the hot and cold ends. The thermoelectric power of Sb2Te3 films was determined as a function of the temperature and thickness of the films. It was found that the Fermi level becomes pinned at higher temperatures. The values of γ, E0, and A parameters were determined as functions of the thickness of the films. The dependence of the thermoelectric power on the reciprocal thickness of the films was explained on the basis of the grain size effect. 相似文献