强流脉冲电子束发射度和亮度的测量

介绍了用多孔板—荧光屏与双孔准直器—Rogowski线圈相结合的方法,测量强流脉冲电子束发射度与亮度的实验研究工作。利用摄像机及图象数据微机处理系统,实现了实时测量。对国防科技大学的81—7M—O1强流脉冲电子束进行了实际测量,得到了其非规一化的边发射度为361cm·mrad,亮度为1283A·cm~(-2)·rad~(-2)的初步结果。     

强流电子束自磁场对能量沉积的磁增强效应

一、引言 苏联的库尔恰托夫研究所最早报导了强流相对论电子束与等离子体相互作用过程中能量沉积的磁增强效应,该所于1976年发表了实验结果,增强因子是10;随后美国的Sandia实验室报导的磁增强因子是2—5;C.Peugnet和R.Bailly-Salins等人用强流电子束在薄金靶上做实验,获得了2—3倍的增强效应。他们的实验结果与理论计算结果是相符合的。本文主要是用蒙特卡罗方法对电子束在束自磁场的作用下的运动进行了模拟跟踪,计算了电子在薄铜靶中沉积能量的磁增强效应。     

基于单准直透镜的阵列准直器研究

提出了一种基于单准直透镜和光纤阵列的阵列准直器, 深入研究了此种方案的光路无胶和光路有胶的两种实现方式; 并基于高斯光束传输矩阵和q参数相关理论, 从理论上详细地计算、推导了各变量之间的关系, 并进行了模拟仿真及实验验证, 得到了理论和实验一致的结果. 对两种实现方式的结构及封装设计也进行了初步的摸索和实验, 并制作出了性能良好的阵列准直器. 理论和实验表明, 该方案具有易加工、低成本、易封装、性能优等特点, 也易于扩展成多维阵列准直器, 可为可重构光分插复用器系统和光交叉连接系统的发展提供强有力的器件支撑.     

强流脉冲电子束表面改性CuFe10合金的显微组织和性能研究

研究了不同脉冲次数强流脉冲电子束表面改性对CuFe10合金组织及性能的影响。强流脉冲电子束处理CuFe10合金的重熔表面出现了火山坑和直径为100 nm到1 m的富铁球,表明了强流脉冲电子束处理CuFe10合金表面发生了液相分离。强流脉冲电子束脉冲轰击30次后,CuFe10合金表面的显微硬度与耐蚀性能均得到显著改善,主要是由于强流脉冲电子束轰击处理CuFe10合金表层引发的快速熔凝过程中表面发生了液相分离及晶粒细化的缘故。     

强流脉冲电子束表面改性CuFe10合金的显微组织和性能研究

研究了不同脉冲次数强流脉冲电子束表面改性对CuFe10合金组织及性能的影响。强流脉冲电子束处理CuFe10合金的重熔表面出现了火山坑和直径为100 nm到1 m的富铁球,表明了强流脉冲电子束处理CuFe10合金表面发生了液相分离。强流脉冲电子束脉冲轰击30次后,CuFe10合金表面的显微硬度与耐蚀性能均得到显著改善,主要是由于强流脉冲电子束轰击处理CuFe10合金表层引发的快速熔凝过程中表面发生了液相分离及晶粒细化的缘故。     

强流相对论电子束的数值模拟

我们研制了CEBQ程序和ENVLOP程序，模拟稳态相对论电子束在二极管区的产生和加速，以及电子束在阳极通道内的传输过程。CEBQ程序模拟二极管区电子轨道，当阳极电压为1．5MV时，阴极总发射电流为17．9kA，进入阳极通道内的传输电流为4．3kA，阳极入口处D=4cm的束发射度为24．9cm．mrad。ENVLOP程序使用线性近似下的包络方程，描述电子束包络在螺旋管引导磁场作用下的变化，讨论了外加引导磁场对包络的影响。计算结果表明，在合适引导磁场作用下，束包络起伏较小，进入阳极通道的束流(4．3kA)能全部通过。     

光纤准直器高回波损耗的理论分析与研究

在高斯光束传输理论的基础上，利用矩阵光学 原理和高斯光束耦合理论得出了斜面耦合自聚焦透镜型光纤准直器的回波损耗的数学表达式。分析了发迹光纤准直器的参数而引起回波损耗变化的原因。实验结果与理论分析比较吻合。     

强流脉冲电子束辐照对NiCoCrAlY涂层结构和性能的影响

采用低气压等离子体喷涂在DZ4镍基高温合金表面沉积NiCoCrAlY 涂层,并利用强流脉冲电子束（HCPEB）对其进行辐照处理。对HCPEB辐照处理前后的涂层的结构和性能分析得出,经HCPEB辐照处理后,疏松的涂层表面重熔,变得致密平整,产生微区光滑、熔坑和裂纹。X射线衍射分析表明,电子束辐照后涂层中的γ′相增多,涂层没有产生明显的残余微观内应力。900 ℃静态空气等温氧化试验结果显示,HCPEB辐照处理后,涂层的抗氧化性能明显提高。原因在于电子束辐照处理的涂层氧化后表面形成了更加完整的Al2O3保护层,同时γ′相的增加也有利于其耐氧化性能的提高。     

强流脉冲电子束辐照对NiCoCrAlY涂层结构和性能的影响

 采用低气压等离子体喷涂在DZ4镍基高温合金表面沉积NiCoCrAlY 涂层,并利用强流脉冲电子束（HCPEB）对其进行辐照处理。对HCPEB辐照处理前后的涂层的结构和性能分析得出,经HCPEB辐照处理后,疏松的涂层表面重熔,变得致密平整,产生微区光滑、熔坑和裂纹。X射线衍射分析表明,电子束辐照后涂层中的γ′相增多,涂层没有产生明显的残余微观内应力。900 ℃静态空气等温氧化试验结果显示,HCPEB辐照处理后,涂层的抗氧化性能明显提高。原因在于电子束辐照处理的涂层氧化后表面形成了更加完整的Al2O3保护层,同时γ′相的增加也有利于其耐氧化性能的提高。     

强流电子束泵浦百焦耳级氟化氪激光

本文介绍中国原子能科学研究院建造的强流电子束泵浦的百焦耳级氟化氪激光装置的主要性能,重点介绍脉冲功率技术和激光振荡器的一些关键技术。     

强流电子束在螺线管透镜作用下的聚焦特性

本文研究了由1.5MeV直线感应加速器(LIA)引出的2～3kA强流脉冲电子束在螺线管透镜作用下的聚焦特性。理论上,利用推导的非线性轨迹方程、K-V包络方程及解析方法研究了空间电荷效应、发射度、透镜球面像差和色散像差对最小焦斑直径的限制并对聚焦实验布局和参数进行了优化选择。实验上,获得了直径5～6mm的最小焦斑(包含90％电子)。实验结果与理论预估基本一致。     

一种消色差等时性强流束三磁铁偏转系统

 描述了一种由三块二极磁铁组成,无四极透镜的消色差等时性磁偏转系统及其设计方法。根据该系统有关色差性和时差性的关系式与TRACE 3D程序,设计了一个40MeV 、200A电子束的135°偏转系统,该系统显示了良好的消色差性和等时性。     

脉冲强流电子束的发射度测量

本文描述了利用多孔板测量脉冲强流电子束发射度的原理和方法。考虑了空间电荷和轴向磁场对测量的影响。实验参量是阴极形状、阳极网孔、二极管距离和电压、电流幅值。在直线感应加速器上、用天鹅绒平面阴极和腐蚀的钨网阳极,当束能为1.32MeV、束流为2kA时,测得均方根发射度ε_(rm)=79cm.mrad,相应规一化亮度B_n=4.8×10~3A/(cm.rad)~2。     

百焦耳级XeCl准分子激光实验研究

介绍了西北核技术研究所利用“闪光Ⅱ号”强流相对论电子束加速器作泵浦源研制的百焦耳级XeCl准分子激光器的主要性能和实验结果。     

电阻环法模拟测量电子束流的大小和位置

本文介绍了通过测量束流在输运管壁上形成的感应电流，来确定直线感应加速器束流大小、位置的一种方法。实验证明，这种测量方法不会影响电子束在管道中的传输，且测量精度高，装置简单，并可装在真空系统的外面，便于维修。     

注入激光腔的束电子能谱计算

介绍一种用于计算电子束穿透薄层物质后的能谱分布的简单蒙特卡罗模拟方法,并对具可靠性进行了论证。利用这种方法对相对论性电子束泵浦强激光时,具有一定能谱分布的电子束穿透阳极膜,撑条(HIBACHI)及主膜后的能谱变化进行了模拟计算。     

电子束与等离子体相互作用中的反常效应

本文对强流相对论性电子束与靶等离子体相互作用的反常吸收效应进行了理论研究。从符拉索夫方程出发,导出了强流相对论性电子束双流不稳定性效应解,并进行了弱碰撞修正,得到了相应的等离子体波增长率,对不同情况下出现反常效应的条件及机制进行了研究和讨论。     

电子束的收集

 为提高电子冷却装置中收集器的效率,研究了收集效率与几何参数,电、磁参数的关系,考虑了初级及反射电子的空间电荷作用,模拟计算了初级电子、反射电子在收集器区域的轨迹,由此得到了收集效率随电、磁参数的变化规律。结果表明,在合适的参数设置下,相对电流损失小于,收集效率达到。