电热辊道炉温度均匀性的优化方法

为了适应锂电池材料烧结工艺的要求,解决传统优化方法成本高、效率低的难题,介绍一种电热辊道炉温度均匀性优化方法,通过对比炉体结构参数对温度离散系数的影响,缩短窑炉结构优化周期,为电热辊道炉的结构优化提供理论指导。     

薄膜均匀性的有限元算法

应用有限元方法模拟计算了镀膜系统平行平面转盘在不同转速以及不同的镀膜时间下波分复用(DWDM)系统介质滤光片的成膜均匀性。结果表明,针对不同的膜料,合理选择转速和控制镀膜时间能够提高薄膜成膜的均匀性。     

改善隧道式微波干燥设备均匀性的研究

隧道式微波设备在干燥过程中存在物料温度不均匀的问题.本文采用在现有隧道式微波干燥设备中增加热风机,结合热风干燥温度均匀的优势,选用生物质颗粒作为研究对象,将热风干燥技术和微波干燥技术联合使用,从而改善微波设备干燥不均匀的现象.     

PECVD颜色均匀性的研究

根据多晶硅PECVD的制程原理,分别验证温度、流量、功率等工艺参数对镀膜质量的影响,寻求最佳参数,从而达到优化工艺,改善镀膜颜色质量,保证颜色均匀性的目的。     

LED背光源亮度均匀性改善方法

针对液晶显示器中直下式LED（1ight—emitting diode）背光源边缘亮度较低的问题,本文提出了一种LED非均匀排列提高背光源亮度均匀性的方法。在等间距排列的基础上,通过测量单颗LED的亮度分布函数,计算出水平和垂直方向上的LED不等间距排列距离,并对该距离进行优化调整。非均匀排列的LED背光源亮度均匀性仿真计算结果表明,背光源的全屏亮度均匀性可达到90％以上。     

磁控溅射台镀膜形貌及均匀性改善研究

针对目标磁控溅射台通孔结构侧壁覆盖能力差、镀膜均匀性差(8％左右)的问题进行设备优化改造;通过结构优化,其在高深宽比结构上的镀膜能力显著提升;同时将各类金属镀膜的均匀性指标提升至3.5％左右,提高金属薄膜性能可靠性,满足了工艺上各种高深宽比加工工艺的要求.     

电镀均匀性影响因素探究及改善

通过研究电镀过程中浮架、钛篮、液位对电镀均匀性影响,合理布局电镀铜缸体,改善电镀均匀性。同时找出影响均匀性能力主要影响因素,为均匀性提升提供改善依据。并提出可行性建议,给整个电镀能力提升提供思路及方向。     

补蚀系统改善蚀刻均匀性的研究

蚀刻线补蚀系统可改善蚀刻均匀性,但鉴于印制电路板尺寸、蚀刻铜厚等千差万别,现常规蚀刻补蚀系统难以满足多样化需求,应用价值不大。本研究通过优化改善补蚀系统,实现补蚀系统的灵活应用,大大改善了蚀刻均匀性。     

MEMS微结构电沉积层均匀性的有限元模拟

利用有限元软件ANSYS对MEMS微电铸Ni工艺进行电场模拟,研究了光刻胶厚度、线宽以及片内辅助电极参数对微结构表面电场分布均匀性的影响.根据模拟结果,利用微电铸试验研究了微结构单元尺寸以及辅助极距离和大小对于微结构层厚度均匀性的影响.模拟和试验结果均表明,微结构单元尺寸是影响其均匀性的主要因素之一,合理添加片内辅助极是提高微结构铸层厚度均匀性的有效方法.而且,有限元分析软件ANSYS可以对微结构的电镀过程进行有效的模拟分析.     

真空炉加热区的热场分析

加热区是真空炉的核心部分,加热区设计是否合理直接影响着真空炉的使用性能及其运营成本。运用有限元仿真对典型真空炉加热区的热场进行分析,并通过实验数据,进一步验证真空炉加热区的设计合理性,掌握了其温场的实际温度分布情况,为今后设计类似炉型的真空炉加热区提供重要参考依据。     

AMS2750E标准在真空炉中的应用

AMS2750E标准规定了各类真空炉型的温度校准精度和均匀性的要求,以及各类仪器、仪表的校准精度。目前各行业都在借鉴和使用该标准,而普通的真空炉不能满足AMS2750E标准要求。通过对其关键技术的解决和实施,研制了能够满足AMS2750E标准的真空炉,并且已经在航空、航天以及各行业领域内广泛使用。     

氮化铝陶瓷烧结炉温度均匀性对烧结产品质量影响的研究

氮化铝陶瓷是近年来广受关注的一种新型陶瓷材料,是剧毒氧化铍的替代材料,其在高功率电子领域有着相当广泛的应用前景,但是氮化铝陶瓷是难烧结的非氧化物陶瓷,陶瓷的烧结对氮化铝陶瓷性能的影响非常大,尤其是在氮化铝陶瓷批量生产过程中,陶瓷烧结炉的温度不均匀,将导致陶瓷性能的巨大差异。简要介绍了氮化铝陶瓷烧结炉温度均匀性对烧结产品质量的影响。     

真空中的基板加热温度检测

在真空环境中进行原子级别的薄膜生长,基板的表面温度监控是关键技术之一。针对不同尺寸的基板,通过热电偶测试基板近旁的温度和红外测温仪测试基板表面的温度,经过数据拟合获得两种测试方法所得温度的对应关系,基板表面的温度与近旁温度存在偏差,但两者之间存在较好的线性比例关系。     

烘干炉温度控制的研究与分析

SPL-1200太阳能印刷线中的烘干炉是印刷线中的重要组成部分,而精准的温度控制又是烘干炉的关键之所在。介绍了经典PID控制器的原理以及继电反馈参数自整定原理,设计了温度控制系统并对该参数整定方法给以实验验证,得到了较好的控制效果。     

真空热处理炉在汽车尾气净化器制造方面的关键性应用

介绍了真空热处理炉在制造汽车尾气净化器方面的应用。及汽车尾气净化器制作过程中对工艺的要求和其需要注意的地方。对真空热处理炉的应用是当今减少尾气排放的工作中最重要的一环。     

真空荧光显示管激发功率分布的均匀性分析

平板荧光显示管采用直丝阴极的结构方式使电子激发阳极荧光粉的功率分布不均匀，举例计算，在空间电荷限制区，头尾单元的激发功率相差３倍以上，正对阴极丝的地方与阳极上下沿的激发功率相差约３倍。制管中尺寸公差和工艺技术也会影响激发功率分布。调整栅阴极距离和采用适当工作电路可改善功率分布的均匀性；在结构条件允许时，采用校正电路可消除其不均匀性；较高的亮度水平可减轻或消除人眼对亮度不均匀性的视觉感受。     

广义预测控制算法在加热炉温度控制中的应用

以加热炉温度控制系统作为研究对象,搭建了加热炉数学模型,研究基于PID控制算法的控制方案。仿真结果表明,PID控制算法存在一些不足。在此基础上,提出了基于广义预测控制算法（GPC）的轧钢车间加热炉温度控制系统控制算法。仿真实验表明,这种方法可以提高系统的动态性能,比普通的PID控制具有更好的控制品质,它将会有较好的工程应用前景。     

光谱色散和分布式相位板联用对靶面辐照均匀性的改善

通过对分布式相位板和光谱色散匀滑技术联用的模拟计算,分析了联用实验中焦斑的变化,论证了非设计采样点光强的不可控性对焦斑匀滑质量的损害。模拟结果证实了光谱色散匀滑技术对色散方向上的焦斑均匀性的改善,焦斑不均匀性由58.30%降为19.50%。通过分析焦斑不均匀性与光谱色散匀滑积分时间的关系,发现5~6个光谱色散匀滑调制周期时得到最优匀滑效果。对焦斑频谱的分析显示,光谱色散匀滑技术可以有效抑制由非设计采样点光强引入的高频成分,26.3μm内的光强调制被平滑,同时很好地保持了由分布式相位板决定的焦斑低频包络,在实验与模拟中均得到很好验证。为进一步的分布式相位板与光谱色散匀滑技术联用设计提供了理论依据。     

用于T型谐振变换器的耦合电感设计与仿真

设计了一种新型绕组结构的谐振电感。用ANSYS软件对新型绕组结构电感进行有限元计算,结果表明:两个绕组电感量差别小,耦合系数高。用V-I曲线法测量了具有新型结构电感的电感量。将新型绕组结构电感应用于T型谐振电路,验证了设计的正确性。