共查询到19条相似文献,搜索用时 46 毫秒
1.
空间平均的角度散斑相关粗糙度测量模拟研究 总被引:1,自引:0,他引:1
角度散斑相关是一种不受表面粗糙度轮廓的间距特性影响的粗糙度幅度参量测量方法,它的数学模型通常建立在集平均的基础上。通过模拟计算随机粗糙表面的远场散斑场,以散斑图面上的空间平均代替常规的集平均来计算角度散斑相关系数,并应用集平均的数学模型反演粗糙度参量。结果证实了这种空间平均角度散斑相关粗糙度测量方法的有效性,在同一表面只需对少数个区域进行测量并对测得的粗糙度参量取平均,即可获得足够的测量精度。对于Rq大于2.0μm的表面,测量相对误差小于15%。根据最佳测量条件,该方法适用于大粗糙度表面。 相似文献
2.
3.
基于多色散斑延长效应的表面粗糙度测量及影响因素分析 总被引:5,自引:1,他引:5
粗糙表面在多波长激光束照射下形成的多色散斑场显示出散斑延长效应,利用此效应可以测量表面粗糙度,并且测量结果在一定条件下不受粗糙表面横向特征的影响。通过模拟计算随机粗糙表面的多色散斑场,以空间平均的多色散斑场局部自相关函数研究了平均散斑延长率〈χ〉对表面轮廓均方根偏差σh的依赖关系,分析了测量系统因素,如入射激光波长组合、成像器件光敏单元尺寸和动态范围对测量结果的影响。结果表明,以空间平均的局部自相关函数代替集平均的散斑自相关函数描述多色散斑延长效应是有效的;为达到一定的粗糙度测量精度,应选择合适的入射激光波长组合和合适的成像器件光敏单元尺寸。 相似文献
4.
从菲涅耳-基尔霍夫衍射公式出发推导出了粗糙面近场衍射方程。通过对观察面散斑光强统计特性的分析,提出了采用镜射光强分量法测量表面粗糙度的思想。为验证该方法的有效性,首先用计算机模拟产生具有不同统计特性的随机表面,然后对由随机表面产生的散斑场及其光强分布进行计算。计算结果表明,与传统的散斑对比度法相比,散斑镜射光强分量法测量弱粗糙表面粗糙度具有更大的适用范围和更高的测量精度,克服了散斑对比度法易受表面横向相关长度影响的缺点。通过实验对计算机模拟结果进行了验证。 相似文献
5.
6.
本文根据Leger激光散斑相干性理论,讨论测量表面粗糙度σ时两相干光束之间夹角的变化对测量精度和测量范围的影响,提出了合理选择夹角的理论依据,并从实验上得到了验证。 相似文献
7.
8.
假设弱散射体粗糙表面高度起伏服从高斯统计,在表面高度起伏分别服从高斯相关,指数相关,圆形相关的情况下,分析了由弱射体产生的远场高斯斑场相位差的条件统计分析。 相似文献
9.
10.
11.
12.
基于光切法的表面粗糙度检测的图像处理研究 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了表面粗糙度的检测方法,阐述了利用视频化改造后的9J型光切显微镜,基于光切法的表面粗糙度检测的数字图像处理方法,利用Canny算子进行边缘检测和保持连通的边缘细化算法进行细化处理,得到了较为理想的表面粗糙度轮廓曲线,为后续的表面粗糙度参数的计算奠定了基础。 相似文献
13.
14.
15.
Performance Optimization of Phase-Shifting Interferometry Using Data Average on Wide Range Roughness Measurement 总被引:1,自引:0,他引:1
Min-Sik Jo 《Optical Review》2004,11(1):55-59
Performance optimization of phase-shifting interferometry was investigated using data average on wide range roughness measurement. The interferometry performance was strongly affected by data average and an optimal data averaging condition of minimal measurement error was found. The high limit roughness level which makes the data average available for the interferometry performance optimization providing a reproducible and smallest roughness was determined to be about 5 _A rms roughness. Therefore, the optimal interferometry performance absolutely required data average for finer surfaces than about 5 _A rms roughness. On the other hand, the optimal interferometry performance for surfaces rougher than about 10 _A rms required little data average. The reliability of the optimal performance of phaseshifting interferometry was checked. 相似文献
16.
Dry etching is an important tool to fabricate various semiconductor photonic devices. The roughness of etched sidewalls should be avoided as it reduces the scattering loss. We present a spatial frequency analysis of the sidewall roughness of dry etched facets processed by reactive ion etching. A characteristic parameter corresponding to a correlation length is estimated to be ∼0.5 μm. In addition, its effect on reflectivities of etched reflectors is discussed. 相似文献
17.
18.
19.
将介质表面的小尺度粗糙度等效为覆盖在理想光滑表面上的多层等厚折射率渐变的薄膜,并通过特征矩阵计算多层等效膜模型的P光反射率与入射角的关系.将吸收介质的折射率虚部带入菲涅尔公式进行计算.运用COMSOL Mutiphysics软件对表面粗糙度和介质吸收进行建模和仿真计算.计算结果表明,小尺度表面粗糙度与介质吸收都会导致折射率测量产生误差.分别考虑以布儒斯特角和全反角作为折射率测量的手段,为了得到优于10-5的测量准确度,测量表面粗糙介质的折射率时,采用全反角进行判定;测量具有吸收效应的介质折射率时,采用布儒斯特角进行判定. 相似文献