(GaAs)_1(AlAs)_1(001)超晶格与闪锌矿结构Ga_(0.5)Al_(0.5)As合金虚晶能带的对应性

基于线性丸盒轨道原子球近似(LMTO-ASA)数值计算,比较(GaAs)_1(AlAs)_1(001)超晶格与闪锌矿结构Ga_(0.5)Al_(0.5)As合金虚晶能带本征态,发现它们可以用Ⅲ价和Ⅴ价原子平面的分波态进行统一描述,用这种方法详细分析超晶格与闪锌矿结构合金在布里渊区Γ,M(X)和R(L)诸点主要能带本征态之间的对应关系,讨论了超晶格布里渊区能带折叠对本征态的影响。     

(InAs)1/(GaSb)1超晶格纳米线第一原理研究

半导体纳米线作为纳米器件的作用区和连接部分具有理想的形状, 把电子运动和原子周期性限制在一维结构当中.通过体材料的已知特性, 有效地选择材料组分使纳米线的低维结构优点更加突出.此外, 还可以通过其他方式来调整纳米线特性, 如控制纳米线直径、晶体学生长方向、结构相、表面晶体学晶面和饱和 度等内部或固有的特性;施加电场、磁场、热场和力场等外部影响. 体材料InAs和GaSb的晶格常数非常相近, 因此InAs/GaSb异质结构晶格失配很小, 可生长成为优良的红外光电子材料.另外, 体材料InAs在二元III---V化合物半导体中具有最低的有效质量, 这使得电子限制在InAs层的InAs/GaSb超晶格具有良好的输运特性. 本文通过第一原理计算研究轴线沿[001]和[111]闪锌矿晶体学方向的 (InAs)₁/(GaSb)₁超晶格纳米线(下标表示分子或双原子单层的数量) 的结构、电子和力学特性, 以及它们随纳米线直径(线径约为0.5---2.0 nm)的变化规律.另外, 分析了外部施加的应力对电子特性的影响, 考察了不同线径(InAs)₁/(GaSb)₁超晶格纳米线的电子带边能级随轴向应变的变化, 从而确定超晶格电子能带的带边变形势.     

形变超晶格Si/Ge的能带结构

用经验的紧束缚方法对短周期的(Si)_n/(Ge)_m形变超晶格的电子态进行了计算。结果表明,由于布里渊区折迭的要求,只有当n+m=10时超晶格才可能产生直接能隙。对周期为n+m=10的超晶格,Γ,N,△处的导带谷间的相对位置对直接能隙的形成具有决定作用,而n的大小与衬底的组分对此有极大影响。(Si)₆/(Ge)₄和(Si)₈/(Ge)₂超晶格在Si_1-xG 关键词：     

应力对(GaP)1/(InP)1(111)超晶格体内和表面电子结构的影响

考虑到应力对超薄层(GaP)₁/(InP)₁(111)结构中Ga-P和In-P键长的作用为均匀分布的情况,本文提出在紧束缚近似下,将应力的影响直接反映到Harrison的交迭积分项中,并利用Recursion方法全面计算了由Keating模型确定的稳定(GaP)₁/(InP)₁(111)超晶格体内和表面的电子结构,结果表明,这种材料的带隙为1.88eV,它比体材料GaP(2.91eV)和InP(1.48eV)的平均值小 关键词：     

生长在GexSi1-x合金衬底(001)面上的应变GaAs层的电子能带结构

采用紧束缚方法计算了GaAs/Ge_xSi_(1-x)(001)的电子能带结构.按GaAs的畸变势常数实验值决定紧束缚参数随键长变化的标度定律指数.计算时同时考虑由应变引起的键长和键角变化对电子能带结构的影响.计算结果表明:当衬底合金组分x<0.3时,应变GaAs层将由直接能隙结构转变成间接能隙结构.除L点导带能谷外,其它各导带底能谷的电子电导率有效质量均基本保持不变.为了使应变GaAs层仍保持较好的电学特性,衬底合金组分x最好大于或等于0.5. 关键词：     

应变超晶格(ZnS)1/(ZnSe)1的光学性质

用linear mufin tin orbital能带方法，计算Si衬底上（ZnS）_n/（ZnSe）_n（001）超晶格的能带结构，计算中采用外加调整势进行带隙修正．在得到较准确的能带结构和波函数的基础上，计算该超晶格系统的光学介电函数虚部ε₂（ω）．结果表明，该超晶格系统的光学性质结合了ZnS和ZnSe体材料光学性质的特点，在相当宽的能量范围内有较好的光谱响应．并且该超晶格系统是直接带隙材料，在光电器件应用中有很大潜力． 关键词：     

应变层超晶格(InAs)n(InP)n(001)电子结构的LMTO计算

基于Linearized-Muffin-Tin Orbitals(LMTO)能带方法,采用内部求和计入空d轨道的处理,对(InAs)_n(InP)_n(001),(n=1,2,3)应变层超晶格的电子结构进行了第一性原理计算。得出了其能带结构,态密度分布(对n=1)。考察了In4d轨道对能带计算的影响,并采用冻结势方法求出了(InAs)_n(InP)_n(001),(n=1,2,3)的价带边不连续值△E_v。 关键词：     

(CdSe)1(ZnSe)3/ZnSe短周期超晶格多量子阱的共振Ramam谱

在(CdSe)₁(ZnSe)₃/ZnSe短周期超晶格多量子阱中,根据一维线性链模型计算的结果与实验结果的比较表明,我们在不同的共振条件下分别观察到了来自多量子阱的阱中和垒中ZnSe限制纵光学声子模的Raman散射。与GaAs/AlAs量子阱的偏振选择定则不同,在共振条件下,我们在两种偏振配置下都观察到了阱中ZnSe限制模LO₁,并认为这种不同可能来源于样品特殊的电子子带结构和光学声子行为。 关键词：     

应变层超晶格(InAs)n/(GaAs)n的电子结构与价带能量不连续性

采用内部求和d轨道处理下的线性丸盒轨道方法,对在GaAs衬底上生长的应变层越晶格(InAs)_n/(GaAs)_n(001),(n=1,2,3,4,5)的电子结构进行了第一性原理计算,得出了其能带结构、带隙值和态密度分布.本文得出的(lnAs)_1(GaAs)_1在布里渊区中各高对称点的能隙值与从头赝势方法的计算结果相一致,得出的带隙值与光致发光实验结果符合得很好.为了确定该系统的价带能量不连续值(△E_(?)),并全面考虑各因素对其的影响,本文提出一种基于自治超原胞计算及其冻结势处理下的形变势方法.该方 关键词：     

生长在GexSi1-x(001)衬底上应变GaAs层的价电子能带结构与光学性质

采用紧束缚方法对生长在Ge_xSi_1-x(001)衬底上的应变ＧａＡｓ层的价电子能带结构和空穴的三次非线性光学极化率x⁽³⁾进行了计算结果表明，由于应变的存在，使ＧａＡｓ层的空穴有效质量和价带态密度变小，而使偏振方向在（００１）面内的三次非线性光学极化率x_xxxx⁽³⁾变大． 关键词：     

自发有序Ga0.5In0.5P合金的静压光致发光研究

在０—７ＧＰａ静压范围内测量了自发有序Ga_0.5In_0.5P合金的室温光致发光谱．三块样品的常压带隙能量分别比无序样品低１１５，９２和４３ｍｅＶ，它们的压力系数也从无序样品的９２ｍｅＶ／ＧＰａ分别减小到７５，８１和８３ｍｅＶ／ＧＰａ．用Γ-Ｌ相互作用模型可以同时解释有序合金的带隙能量的降低以及压力系数的减小．得到的Γ-Ｌ相互作用势分别为０.１９，０.１５和０.１０ｅＶ．表明在自发有序Ga_0.5In_0.5P合金中存在着的     

FexMn1-x合金在GaAs(001)表面外延的结构和磁性

报道了对于0≤x≤1的Fe_xMn_1-x合金在GaAs(001)表面上分子束外延的结构与磁性的实验结果,当x>0.8时,Fe_xMn_1-x合金以单晶体心立方结构生长;当x<0.35时,则以单晶面心立方结构生长;对于0.35xMn_1-x生长的结构比较复杂,而正是在这一区域中,该合金发生了从铁磁相到反铁磁相的转变. 关键词：     

Modulation of the coupling of a near-surface GaAs/Ga0.7Al0.3As quantum well with its free surface

The states confined in a GaAs/Ga_0.7Al_0.3 quantum well interact with the states localized at the free surface of its topmost barrier when the thickness of this barrier is decreased below ≈400Å. We show here that this interaction and hence the behaviour of carriers confined in the well can be modulated by in situ treatments applied to this free surface.     

STUDY ON THE STABILITY OF GaAs/AlGaAs SUPERLATTICE STRUCTURE

This paper reports the stability of GaAs/AlGaAs superlattice structures after theorem annealing, Zn diffusion and MeV Si⁺ ion implantation. The MeV Si⁺ ion implantation induced damage in GaAs/AlGaAs superlattices, its annealing properties, and the effects on superlattice structure stability are reported as well. Thermal annealing at 650℃ for 30min has little effect on superlattice structure. Zn diffusion may induce superlattice layer disordering. And annealing at 650℃ for 30min can eliminate damage caused by 2.3MeV,1.5×10¹⁵ cm^-2 Si⁺ ion implantation, which cannot induce superlattice layer disordering.     

Ta对C—15相V2Hf和V2(Zr0.5Hf0.5)系列声子性能的影响

本文用中子飞行时间方法对C-15相的超导材料V₂Hf,V₂Ta和V₂Hf_0.8Ta_0.2以及V₂Zr_0.5。Hf_0.5和V₂Zr_0.5Hf_0.33Ta_0.17的热中子非弹性散射谱作了测量,并计算出相对的广义声子态密度。结果与早先发表的Nb对C-15相V₂Zr和V₂(Hf_0.5Zr_0.5)系列声子性能的影响一致:声子频率随超导转变温度T_c增加而软化,随T_c减小而硬化。这表明,对于此类材料弹性软化在一定程度上对提高T_c起了作用。结果还进一步表明V₂Zr或V₂Hf与V₂(Zr_0.5Hf_0.5)之间有着质的差别,V₂Hf加Ta后,T_c增加,声子频率软化,而V₂(Zr_0.5Hf_0.5)加Ta后,T_c减小,声子频率则略有硬化。这与V₂Zr和V₂(Hf_0.5Zr_0.5)加Nb的结果是一致的。此结果可以用角动量分波表象的能带论方法分析电-声耦合相互作用得出的杂化理论来定性解释。 关键词：     

Al-Ni-Co三元系中(Ni,Co)3Al4的晶体结构——一种由空位控制的新合金相

(Ni,Co)₃Al₄。是Al-Ni-Co三元系中的一种三元相,其均匀存在范围在室温为,55—58.5A/0 Al,26—35A/0 Ni和10-15.5A/0 Co。这个三元相属立方晶系,空间群为O_h¹⁰-Ia3d,每晶胞含112个原子,在室温的点阵常数为α=11.3962?。这个结构是由64个CsCI型基本结构单位堆垛而成的一种超结构。在这64个基本结构单位中,有16个体心位置是有序地空着的,在16(b)的等效位置上构成了16个八面体空位。基本结构单位的角位置16(a)和48(f)都由Al原子占据着,而心位置48(g)则由Ni原子和Co原子无规地占据着。由于空位的存在,原子位置从其原来的CsCl型结构单位位置有所偏离;测定的结果是,x_f=0.010,x_g=0.369。从合金相的存在范围及原子在结构内的分布情况,这个合金相的理想化合式决定为(Ni,Co)₃Al₄,每单胞含16个化合式量。 关键词：