可卷型L_2-偏差的水平置换方法构造混合水平设计

提出了一种通过置换因子的水平来构造具有较小可卷型L_2-偏差的混合水平均匀设计的新方法.首先建立了混合水平设计的平均可卷型L_2-偏差与广义字长型的定量关系,并以具有较小广义字长型的混合水平设计为初始设计,对其作水平置换,计算其可卷型L_2-偏差,找到具有最小的可卷型L_2-偏差的设计就是相对较好的设计.为了使算法更加有效,还运用了可卷型L_2-偏差的两个性质.数值结果显示通过这种方法构造的设计在可卷型L_2-偏差下表现良好.     

混合偏差下因析设计的均匀性模式

均匀性模式是研究因析设计低维投影性质的重要方法.本文在混合偏差下针对实际应用中最为广泛的二水平、三水平因析设计从投影的角度讨论了其均匀性模式.对于二水平设计获得了其均匀性模式的下界;利用水平置换的方法研究了三水平设计的均匀性模式并获得了其下界.数值例子表明本文中获得的下界均是可达的.     

U-型设计的对称化L2-偏差的下界

均匀设计是部分因子设计的主要方法之一,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性,其关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.该文给出了4水平对称U-型设计的对称化L2-偏差的下界,以及2、3混水平和2、4混水平非对称U-型设计的对称化L2-偏差的下界.     

混水平列扩充设计的混偏差的下界

扩充设计作为一种新型的试验设计,近年来受到学者越来越广泛地关注.扩充设计包括初始设计与跟随设计两部分.在许多跟随设计中,在跟随阶段可以加入一些另外的2-水平或3-水平因子,因为它们在初始阶段可能被忽略但又十分重要.该文在均匀性准则下,给出了列扩充设计在混偏差下的解析表达式及相应的下界,列举了混偏差意义下的混水平列扩充近...     

混合偏差下多水平的均匀列扩展设计

列扩展设计是添加试验因素,并安排跟随试验的一个重要方法.本文分别构造了四水平和五水平的列扩展设计,基于平均混合偏差准则研究了该类设计的均匀性,并得到了四水平和五水平列扩展设计的平均混合偏差的一个新的下界.数值例子表明本文中构造的列扩展设计具有非常高的效率.     

倍扩设计的构造及其均匀性

均匀设计作为一种空间填充设计,由于具有灵活的试验次数和模型稳健性被广泛运用到各个领域.倍扩方法在构造具有优良性质的二水平部分因析设计中起着非常重要的作用.本文将二水平设计的倍扩构造方法推广至四水平,二、四混水平设计,分别提出了四水平和二、四混水平倍扩设计的新概念,在可卷L_2-偏差意义下研究了二水平,四水平,二、四混水平倍扩设计与其初始设计均匀性之间的关系.同时获得这些倍扩设计的可卷L_2-偏差的新下界,这些下界为评价倍扩设计的均匀性提供一个基准.最后讨论了倍扩设计的均匀性.     

8×4×2~n设计纯净两因子交互作用成分最大数的界

混水平部分因析设计在各类试验中有广泛应用.纯净效应准则是用于选取最优部分因析设计的重要准则之一.本文考虑含有一个八水平因子、一个四水平因子和若干二水平因子的8×4×2~n混水平设计,给出了分辨度为Ⅲ和Ⅳ的该类混水平设计包含纯净两因子交互作用成分最大数的上界和下界.下界通过构造特定设计而得到.     

混水平均匀设计的构造

我们用离散偏差来度量部分因子设计的均匀性,本文的目的在于寻找一些构造混水平均匀设计的方法,这些方法比文献中已有的方法更简单且计算成本更低.我们得到了离散偏差的一个下界,如果一个U 型设计的离散偏差值达到这个下界,那么该设计是—个均匀设计.我们建立了均匀设计与组合设计理论中一致可分解设计之间的联系.通过一致可分解设计,我们提出了一些构造均匀设计的新方法,同时也给出了许多均匀设计存在的无穷类.     

三水平U-型设计在对称化L_(2-)偏差下的下界

均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性.不管使用哪种偏差,关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.本文应用条件极值的方法得到了三水平U-设计在对称化L_(2-)偏差下的下界,该下界可作为寻找均匀设计的一个基准.     

混水平列扩充设计的均匀性

在许多工业应用中,通常分步应用跟随设计来考察输入(因子)和产出(响应)间的关系.在许多跟随设计中,在跟随阶段可以加入一些另外的两水平或三水平因子,因为它们在初始阶段可能被忽略但又十分重要.文章在均匀性准则下,提出了中心化L2-偏差意义下的混水平列扩充均匀设计,给出了列扩充设计在中心化L2-偏差下的解析表达式及相应的下界,其可作为搜索均匀设计的基准.进一步,具有一个附加区组因子的列扩充设计是均匀的当且仅当未加区组因子时的列扩充设计是均匀的.     

Lee偏差下二三混水平因子设计的最优添加

根据序贯试验通过一个阶段试验接着另一个阶段试验不断扩充的特征,新的试验点将会被添加到已经选好的设计中,因此,如何设计一个好的序贯试验是一个非常有意义的问题.在Lee偏差度量下,本文研究均匀的非对称拓展设计,并用它来做序贯试验.本文建立二三混水平拓展设计的Lee偏差与其初始设计和附加设计的Lee偏差之间的解析关系,为构造(近似)均匀的拓展设计提供了理论支撑.为了给出筛选、评价拓展设计的准则,本文给出拓展设计Lee偏差的下界.此外,还通过一些数值例子来进一步说明、解释本文的理论结果.     

三水平部分因析设计的中心化L2偏差均值的几个结果

中心化L₂偏差已被用来作为部分因析设计均匀性的度量,并用来区分几何非同构设计.中心化L₂偏差均值也被用来度量部分因析设计均匀性,这样就可以对现有最小低阶混杂设计进行水平置换,从而获得中心化L₂偏差最小的均匀最小低阶混杂设计.本文里,我们针对三水平部分因析设计讨论中心化L₂偏差均值的性质,给出中心化L₂偏差均值与正交性准则,最小低阶矩混杂准则之间的解析关系,同时给出中心化L₂偏差均值的两个下界.     

两水平U-型设计的扩大设计在投影加权对称偏差下的均匀性

均匀设计以其稳健和使用方便、灵活的特性而广受欢迎.为获得实验目标区域内散布均匀的设计点集,不同的均匀度量标准相继被提出.目前被广泛应用的有中心化L₂-偏差、可卷型L₂-偏差、混合偏差等.对称化L₂-偏差具有更好的几何性质,但受限于投影均匀性差的缺陷,使用范围十分有限.为了改进对称化L₂-偏差的低维投影均匀性,基于指数加权方式的投影加权对称化L₂-偏差的概念被提出,加权后的对称化L₂-偏差既能保留原偏差的各种优良性质,同时有效克服原来的缺陷并有更优异的表现.折叠翻转是构造因子设计时非常有用的技巧.本文利用投影加权对称偏差来作为评价折叠翻转方案的最优性准则,得到了两水平U-型设计在一般折叠翻转方案下扩大设计的投影加权对称偏差的下界,该下界可以作为寻找最优折叠翻转方案的基准.     

均匀的三水平扩展设计

以计算机技术为基础的模拟已被广泛应用于系统工程和高科技领域的发展中.计算机试验和设计已成为科技文献讨论的热点.扩展设计作为一种新型的试验设计近年来受到越来越广泛地关注.评价设计的最优性准则有很多,均匀性准则是其中的一种.均匀设计以其经济性和同时研究多个高水平因子时具有试验处理的灵活性被广泛接受,尤其是在对模型信息知之甚少时.本文以最优的U-型设计为基础,应用条件极值的方法讨论三水平扩展设计在三种常见偏差下的均匀性,得到了三水平扩展设计在三种常见偏差下的下界,该下界可作为寻找三水平均匀扩展设计的一个基准.     

四水平计算机试验设计的构造

编码理论在最优设计的构造中已被广泛应用.本文通过修正Gray映射编码变换来构造用于计算机试验的四水平均匀设计,其效率通过离散偏差进行刻画;同时也给出了离散偏差的下界,这个下界可作为获得最优设计的一个基准.     

折叠反转设计的中心化L_2偏差值的一些下界

在二水平因子跟随试验中,折叠反转技术是一种非常典型的方法和技巧.这种技术通过折叠反转初始设计的一个或多个因子的水平符号,可以获得一个具有很好统计推断性质的新设计(称为折叠反转设计).初始设计与其折叠反转设计组合在一起所形成的新设计称为组合设计.该文在完全折叠反转方案和部分折叠反转方案下分别得到了组合设计在中心化L_2偏差下的一些下界.所得到的这些下界可以作为寻找最优折叠反转方案的一个标准,因此,该文的结果给出了用均匀性准则来寻找最优折叠反转方案的理论依据,进一步说明了均匀性在因子设计中的有用性.     

混合水平正交设计的最优选择

利用矩阵象方法,首先将强度2下混合水平正交设计的混杂度量,推广到强度t下混合水平正交设计的混杂度量,然后通过这些混杂度量指标,给出了强度t下混合水平正交设计的四个分辨度指标,其具有水平置换不变性,并能同时用于等水平情形和混合水平情形。最后对混合水平正交表OA(18,6~13~6,2)进行了实例计算,并讨论四个分辨度的差异性。     

扩大设计的中心化L_2-偏差的新下界

在构造两水平因子设计时,折叠反转是非常有用的技巧.折叠反转设计是通过改变初始设计中一个或多个因子的符号产生的跟随设计.通过把折叠反转设计中的处理加到初始设计中所得到的设计称为扩大设计.本文中,我们应用条件极值的方法得到了一般折叠反转方案下扩大设计在中心化L_2-偏差下一个新的下界,它可以作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.     

2(n1+n2)-(k1+k2)42混合水平裂区设计包含纯净效应的条件

混水平部分因析裂区设计在各类试验中有广泛应用. 在三因子及更高阶交互作用可以忽略这一很弱的假设下, 试验者可以得到纯净主效应或者纯净两因子交互作用成分的无偏估计. 本文给出了含有两个四水平因子和若干二水平因子的混水平裂区设计包含各类纯净主效应或者纯净两因子交互作用成分的条件以及构造相应设计的方法.     

关于最小偏差LH设计

:本文对 LH设计编差的计算进行了研究 ,并得到了 LH设计偏差的下界 ,对寻求整体最优 LH设计进行了讨论