一种新型的平面显示器--表面传导电子发射显示屏SED

以荧光粉为发光材料的阴极射线显像管CRT，应用了几十年，技术已经完全成熟。特别是它的发光材料——荧光粉，以其彩色还原准确，覆盖色域宽，亮度、对比度高，响应速度快，无残影，视角广阔，寿命长的优势，仍会长期存在。但由于它体积大，不可避免几何失真，X射线辐射大等弱点，无法进入大尺寸平板显示器的行列。     

表面传导电子发射显示SED板窥密

2004年10月一种新型的数字式平面显示板SED在日本的“CEATEC JAPAN 2004”展会上亮相。这种具有十数亿色显示能力、纯数字高清规格、色彩表现范围接近过去的1．5倍、暗处对比度达8600：1的平面电视机即将进入新一代大画面数字高清晰度电视的市场竞争。由于佳能和东芝联合公司在SED的产品化开发阶段停止了一切场合的信息披露，故人们对SED的技术和来龙去脉几乎是空白。但随着在“CEATEC JAPAN 2004”和2005年国际消费电子展上的亮相和两公司申报的相关专利，爱好者终于可以窥得一二。     

表面传导电子发射SED的制作及特性描述

表面传导电子发射（SED）作为下一代平板显示器被发展。表面传导发射习惯于通过喷墨打印工艺制作PdO薄膜（厚度大约10nm）。薄膜应用电压通电活化，从而获得良好特性的发射电子。当阳极电压10KV时，电流密度达到大约30mA／cm^2。而且，36英寸表面传导电子发射显示器（SED），由SCEs和类似于CRT的显示屏组成，同样被发展。     

表面传导电子发射显示器件概述及研究现状

表面传导电子发射显示（SED）是一种新型平板显示技术,跟现有主流显示技术相比,它在对比度、灰度级、色彩、动态响应及功耗等方面均有优势。本文在简单叙述了SED的发展历史、原理及结构之后,重点介绍了SED的技术核心——电子发射源的结构、各种工艺流程及最新进展,最后是对SED的性能和特点的简介以及市场展望。     

表面传导电子发射显示器件综述

表面传导电子发射显示是场致发射显示的一种,它由于在视角、动态图像、对比度以及色阶重现等各项图像品质指标上都出类拔萃,功耗较低,被认为是下一代平板显示器件的关键问题.本文主要介绍了表面传导电子发射显示器件的原理,元件制造方法、特点及发展前景.     

36英寸表面传导电子发射显示器

介绍36英寸表面传导电子发射显示器(SED)的工作原理、基本结构、关键制造工艺、主要特性以及SED的发展前景。     

表面传导电子发射显示器件电学特性研究

利用平板电容器和电磁场理论对表面传导电子发射显示器件的单个子像素在笛卡尔坐标系内建立合适的电学物理模型,并对其内部电场强度和电势进行了深入研究,推导出了模型不同部分的面电荷密度、电场强度和电势的具体表达式;为了形象地表征其电学特性,利用MATLAB6.5对电场强度和电势的分布情况进行了模拟,从理论上对模拟曲面给出了合理的解释,分析了子像素内部电子的发射机理和电学行为;最终理论计算和软件模拟印证了所建物理模型在误差允许的范围内是完全正确的。     

表面传导电子发射显示技术与器件

对表面传导电子发射显示器件的原理、结构及其发展历程进行了分析,重点针对表面传导电子发射性能的改进,从导电薄膜结构方面进行了讨论,并对有可能降低表面传导电子发射显示器件成本的方法进行了简单的分析。     

表面传导电子发射显示器电子发射源制作技术

表面传导电子发射显示器(SED)是最近开发的一种新型平板显示技术,具有高对比度、高灰度级、低功耗等优点。本文介绍了SED的工作原理及SED技术中处于核心地位的电子发射部件制造技术,并将各种电子发射部件制造技术进行了比较。     

表面传导电子发射显示技术进展

表面传导显示技术是结合了电子发射技术、微制造技术、CRT技术、大规模液晶显示器生产技术及半导体技术而研发出的新型平板显示技术。表面传导显示器除具有高亮度和高清晰度特性之外,还具有良好的频率响应特性、高对比度、高灰度级和低功耗等。本文对表面传导技术的诞生及发展进行了介绍,阐述了表面传导显示技术的显示机理及制作工艺,并就其发展前景和制约因素进行了分析。     

SED（表面发射显示）技术

最近日本佳能和东芝合资创建了SED公司，利用佳能拥有的表面发射电子技术和东芝拥有的平板显示技术将其相结合开发SED技术。SED技术类似于FED（场发射显示）．惟一的区别是冷阴极不同。SED采用表面发射冷阴极，其表面发射电子材料是氧化钯，阴极发射电压为十几伏．加速电压为10kV。现已试制了91cm（36in）300万像素的SED屏，响应速度为1ms，对比度为10000，亮度为300cd／m^2，     

含碳气氛对表面传导电子发射显示器发射性能的影响

采用实验的方法,研究了含碳气氛下表面传导电子发射显示器(SED)的电子发射性能.通过测量和比较普通真空环境与含碳气氛下电子发射的特性参数发现,通入含碳气氛能明显提高电子发射性能,器件电流If和发射电流Ie的值在通入含碳气氛后明显改变,表面传导电子发射效率ρ也明显提高.     

纳米裂缝位置可控的表面传导电子发射薄膜

提出一种新型结构的表面传导电子发射导电薄膜,该导电薄膜在中间位置向内有凹陷,基于电形成过程中焦耳热引起薄膜龟裂的原理,会在凹陷附近诱导纳米级裂缝形成,控制纳米裂缝形成位置。分析了此结构导电薄膜对裂缝产生位置的影响及2种不同电形成方法对裂缝形貌的影响,测试了电子发射性能,得到了发射电流特性曲线和发光图像。实验结果表明,这种新型导电薄膜能一定程度上控制纳米裂缝的形成位置,有利于改进表面传导电子发射的均匀性,在阳极高压2.0kV、阴极板电子发射单元施加的器件电压14V时,新型结构导电薄膜实现了均匀发光,发射电流最大为18μA。     

新薄型SED平面显示技术

一种采用全新技术的超薄电视将在今年年底问世。这就是日本佳能和东芝共同开发的——表面传导电子发射显示器SED（Surface-conduction Electron-emitter Display）。业界称这是继液晶和等离子之后的第3种超薄电视图1、图2。     

平板电视的后起之秀——SED电视机

正当轻薄靓丽、幅面巨大、色彩鲜艳的PDP等离子电视机价格不断降低，逐步进入普通家庭之时。2005年初日本索尼和东芝两大电子巨头却突然相继宣布将退出等离子电视机市场，这在世界消费电子领域激起了轩然大波。不过，与索尼公司低调的姿态不同，东芝公司则明确宣布，他们此举是为了全力投入SED电视机的重大战略决策，并宣布了其野心勃勃的SED的研发计划，以及发展SED电视的宏伟目标。     

中国电子CEC发展新型显示面板产业

平板显示产业作为国家战略性新兴产业,对我国电子信息产业的发展意义重大。平板显示产业是中国电子信息产业集团有限公司的主攻方向,中国电子依托中电熊猫、冠捷科技、彩虹集团等企业,可以实现从玻璃基板、液晶面板、驱动集成电路、模组到整机和终端的产业链核心关键要素的垂直整合,形成综合竞争优势。     

基于氧化锡和碳复合薄膜的表面传导场发射显示阵列的制作

提出了用氧化锡作为起伏层制作双薄膜型场发射显示器件,成功得到均匀稳定的发射,提供了一种以简单热蒸发工艺制造成本低廉的场发射平板显示器件的方法。在试验了薄膜的发射特性的基础上,成功制作了一个小型SED平板显示阴极阵列。介绍了阵列的结构和制作方法。为制作小型SED显示器件积累了经验。     

表面传导电子发射显示器微细结构光刻工艺的优化

研究了旋涂和光刻工艺对制备表面传导发射显示器(SED)微细结构的影响,分析正性光刻胶和旋涂工艺的作用机理,探讨光刻胶的平面旋涂工艺、曝光剂量、前烘对光刻图形的影响.借助旋涂技术将光刻胶转移在附有金属薄膜的玻璃基片上,利用紫外光对其进行曝光,通过视频显微镜、台阶仪对实验结果分析,优化实验工艺参数.结果表明,光刻胶留膜率随旋转速度增大而减少,随光刻胶的粘度增大而增大,光刻图形宽度随曝光剂量的增大而变窄,曝光剂量40～50 mJ/cm2,前烘110 ℃保温25 min条件下光刻图形边缘平整,为研制SED微细结构奠定了基础.     

场离子发射与场离子显示屏（FID）：一种新型彩色平板显示器

场离子显示屏（FID）是一种既能克服场发射显示屏（FED）制作的困难,实现极阴射线显像管（CRT）平板化,又能保持CRT优质图像和低廉价格的新型彩色平板显示屏,本文先介绍场离子发射的原理,然后介绍FID的结构和工作原理。