锑化铟的热处理

本文叙述N型InSb单晶和含有大晶粒的双晶样品(n～1.23×10¹⁴—2.40×10¹⁵cm^-3,μ_e～5.15×10⁵cm²/V·sec—2.10×10⁵cm²/V·sec),在500℃下、不同气氛中进行热处理产生受主,引起热转换,而整块地变为P型样品,当继续热处理使温度达到熔点以上时,这种P型样品中的热受主消失了,而转变回到原来的N型样品;若把这种N型样品再在500℃下进行热处理,则它又整块地变为P型样品。我们对这一新发现的过程进行了一些研究,发现这种现象与材料的不同制备条件和热处理时的环境气氛不同有关,并对不同气氛下的循环热转换过程和熔化效应作了论述。在500℃下进行热处理所引起的热受主浓度与热处理时间的关系中,发现在热处理起始的一段时间内,热受主形成速率较大;随着热处理时间的增加,热受主浓度达到一个饱和值;若再加长热处理时间,则热受主浓度开始下降,这现象与硅的热处理现象相似。根据实验得到的新结果进行分析,认为这种热处理现象不象是外来因素的影响所引起的,而是一种原来存在于InSb中的内在因素所起的作用,推测可能是与氧和氢有关。最后我们对解释这种热处理现象的可能的机理进行了探讨。     

锑化铟的机械损伤

本文叙述由于发现区熔法制备的N型InSb单晶锭条的迁移率与锭条同处切下的矩形样品的迁移率之间的差别,超出测量误差范围之外,从而得到切割、研磨过程引入机械损伤及电极制备过程引入“热损伤”的看法,它们影响所研究的样品的电学性质。由电学性质的变化,测定了损伤深度约为0.2mm至0.4mm。由Read的位错散射理论所作的计算结果与实验结果比较,得到较好的符合,从而认为机械损伤主要是位错(即“位错裂隙”)的作用。同时,由实验结果,我们得到冷压焊金丝的电极制备方法比焊锡的好。     

连续波氧碘激光对光伏型锑化铟探测器的破坏阈值

 通过测量光伏型锑化铟探测器在不同功率密度的连续波氧碘激光辐照下性能的变化,得到其破坏阈值范围为26(089s)～113(14s)W/cm²。 理论上用一维热模型计算了探测器在激光辐照过程中温升和输出信号的变化过程,对实验结果进行了分析。     

连续波氧碘激光对光伏型锑化铟探测器的破坏阈值

通过测量光伏型锑化铟探测器在不同功率密度的连续波氧碘激光辐照下性能的变化,得到其破坏阈值范围为26(089s)～113(14s)W/cm2。 理论上用一维热模型计算了探测器在激光辐照过程中温升和输出信号的变化过程,对实验结果进行了分析。     

锑化铟中载流子的复合过程

用定态光电导及光磁电的方法测量了p型n型InSb在85—290°K之间的电子及空穴的寿命。在室温附近,所有样品的截流子寿命都趋于同一值,在290°K时为3×10^-8秒。从寿命的绝对值及温度依赖关系,以及掺杂对寿命的影响,可以肯定在室温附近起主要作用的复合过程是带间碰撞复合过程。在200°K以下,p型样品中的电子寿命与空穴寿命有很大差别,表明有陷阱作用。用位于价带之上0.05eV的复合中心及位于导带之下0.11eV的电子陷阱能完满地解释200°K以下的寿命与温度的依赖关系。     

锑化铟的物理特性及其应用

一、引言锑化铟(InSb)是近年来引起人们极大兴趣并被广泛研究的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料。 InSb和锗(Ge)、硅(Si)相比虽是一发现较晚的半导体材料,但自从1952年惠耳克尔(Welker),首先对InSb进行研究之后,十年来对InSb各方面的性能及其应用已做了很多研究工作。这主要是因为:(1)制备高纯度InSb的工艺相对地比较简单,较容易获得其纯度比Ge、Si或其他Ⅲ-Ⅴ族半导性化合物高一、二个数量极的单晶体。(2)由于InSb具有一些显著的     

自然现象中的噪声

一、时空频率的无规性 1733年,J.二斯威夫特(J.Swift)在一首诗中官道: 于是,博物学家发现, 小跳蚤们折磨大跳蚤, 更小的跳蚤又来捉弄它们, 生生不息,无休无止. 这几行诗揭示了物理学和生物学中一个重要概念,它表明我们观察到的许多自然现象中的动力学行为实际上是一系列不可见的层次间运动的结果.从一个层次到另一个层次的细微运动是由尺度因子来表征的.斯威夫特考虑到不同尺度下现象的自相似性:大尺度中的现象以不断缩小的同样形式在更小的尺度中重复,现在称具有这种特点的过程为分形.对于分形至今没有一个简单的定义,对它的描述总是体现…     

规则锑化铟团簇颗粒的制备

采用低能团簇柬流淀积（LECBD）装置，在不同温度的衬底上，制备得到不同形貌的锑化锢团簇颗粒，如三角形颗粒、六边形薄片和长方体颗粒等，形貌的差别认为是由锑化锢各向异性生长所致。     

规则锑化铟团簇颗粒的制备

采用低能团簇束流淀积(LECBD)装置,在不同温度的衬底上,制备得到不同形貌的锑化铟团簇颗粒,如三角形颗粒、六边形薄片和长方体颗粒等.形貌的差别认为是由锑化铟各向异性生长所致.     

锗、硅、锑化铟和砷化镓的热膨涨——用X射线衍射法测量

本工作是用X射线衍射法测量锗、硅和合金InSb及GaAs在不同温度的点阵常数,观察它们的热膨涨,并求得它们的膨涨系数。     

p型半导体金刚石膜的磁阻效应

在p型硅(100)衬底上,采用衬底负偏压微波等离子体CVD方法进行了p型异质外延金刚石膜的生长.用O₂等离子体刻蚀技术将金刚石膜刻蚀成长条形,利用四探针法在0—5T的磁场范围内测量了样品的磁阻.实验结果表明,p型异质外延金刚石膜可以产生较大的磁阻.在Fuchs-Sondheimer(F-S)薄膜理论的基础上考虑晶格散射、杂质散射和表面散射,通过求解Boltzmann方程,利用并联电阻模型研究了p型异质外延金刚石膜的磁阻效应,给出了磁阻和金刚石膜厚度、迁移率、空穴密度及磁场的关系.讨论了表面散射和价带形变对p型异质外延金刚石膜磁阻的影响,初步解释了p型异质外延金刚石膜产生较大磁阻的原因 关键词： 金刚石膜 异质外延 磁阻效应 电导率     

p-Hg1-xCdxTe材料中轻空穴的性质研究

通过变磁场霍尔测量方法,采用由迁移率谱和多载流子拟合过程相结合的混合电导法,在1.2-300K范围内,获得了两块分子束外延(MBE)生长的p-Hg1-xCdxTe(x=0.224)样品中的轻、重空穴以及体电子、表面电子的浓度和迁移率.此外,在实验中,还直接观察到了轻空穴对电导张量分量的贡献.实验值不仅具有明确的物理意义,而且有助于红外探测器模型的建立.     

掺杂浓度对p-GaAs的带隙变窄的影响

用光致荧光的方法对分子束外延生长的(110)方向的掺Be的GaAs带隙变窄随掺杂浓度的变化进行研究。结果表明:对于P-GaAs,带隙变窄主要是价带上移造成的,杂质能级(带)相对导带的位置不变。因此,电离能随着掺杂浓度的增加而减小。     

有源噪声控制技术

有源噪声控制是消除低频噪声的一种很有效的方法。这种技术在世界上普遍受到重视。目前英国、美国、法国、联邦德国、日本等国家都正在进行有源噪声控制技术的研究和应用。近年来在我国也逐步开展了这方面的研究。本文总结了有源噪声控制技术的发展历史;介绍管道和三维空间有源噪声控制技术的概况,为这方面的研究提供一些参考。     

p-HgCdTe反型层中子能带电子的基态能量

用变分自洽方法求解了ｐ－ＨｇＣｄＴｅ金属－绝缘体－半导体（ＭＩＳ）结构Ｎ型反型层子能带的基态能量Ｅ₀及其与表面电子浓度的关系，计算中考虑了窄禁带半导体Hg_1-xCd_xTe带间相互作用所引起的非抛物带结构、波函数平均效应、共振缺陷态、Ｚｅｎｅｒ隧穿、以及电场在屏蔽长度内的衰减等因素，导出了子能带基态能量Ｅ₀的计算公式并获得了与实验符合较好的结果。     

P型掺杂剂对InGaAsP/InP双异质结发光管特性的影响

本文研究了限制层中掺杂剂对InGaAsP/InP双异质结发光管特性的影响。结果表明限制层掺In-Zn合金或掺Mg的器件不易发生p-n结偏位,器件具有单一的长波长光谱峰,正常的I-V特性以及暗结构出现率低的特性,而限制层掺Zn当浓度≥1×1018cm-3时,外延片易发生p-n结偏位,导致器件的异常特性。并观察到在扩散结器件中,在85℃长时间老化过程中,有p-n位置移动现象发生。