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离子束材料表面改性技术,作为一门多学科相互渗透和交叉发展的边缘学科。由于具有独特的优点。在材料表面的优化处理方面有着广阔的发展前景。在这个领域中,国内、外的相关研究十分丰富。其工业化应用已经覆盖军事、民用等多个行业。 相似文献
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离子束注入对聚四氟乙烯表面改性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在剂量为1×1014~1×1017 ions/cm2的范围内,用能量为160 keV氮离子对PTFE表面进行注入处理,处理后的样品用可见(514.5nm)和傅立叶红外(1064 nm)喇曼(Raman)光谱以及扫描电镜进行检测.结果表明低剂量注入可导致弱C-C键的断裂,中等剂量时溅射损失效应明显,高剂量注入时微观结构强烈地变化并生成C=C双键. 相似文献
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应用碳化硅表面改性技术降低全息-离子束刻蚀光栅刻槽的粗糙度 总被引:1,自引:0,他引:1
采用具有良好比刚度和热稳定性的碳化硅材料作为基底,使用全息-离子束刻蚀技术制作了光栅。碳化硅材料表面固有缺陷导致制作的光栅刻槽表面粗糙度高,槽底和槽顶粗糙度分别达到了29.6 nm和65.3 nm (Rq)。通过等离子辅助沉积技术在碳化硅表面镀制一层均匀的硅改性层,经过抛光可以获得无缺陷的超光滑表面。XRD测试表明制备的硅改性层为无定形结构。原子力显微镜的测试结果表明:经过抛光后,表面粗糙度为0.64 nm(Rq)。在此表面上制作的光栅刻槽表面粗糙度明显降低,槽底和槽顶粗糙度分别为2.96 nm和7.21 nm,相当于改性前的1/10和1/9。 相似文献
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