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高纯氧化镥中十四种稀土杂质的ICP-AES测定 总被引:3,自引:0,他引:3
镥是稀土元素中较有用,并且最昂贵的元素之一。我们研究了测定99.99%高纯氧化镥中14种稀土杂质的方法。实验部分试剂:氧化镥纯度为99.995%以上,其它14种稀土氧化物纯度均为99.95%以上,850℃在马福炉中灼烧之后,配成酸度为5%盐酸稀土标准溶液。仪器及工作条件:美国HFL-5000D型射频发生器,40.68MHz。民主德国PGS-2型两米平面光栅摄谱仪,光栅刻线651条/mm,用一级光谱。用改装的Goulden和Anthony的加热去溶装置,加热温度300℃。 相似文献
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高纯氧化镨中痕量稀土杂质的ICP-MS测定 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了用等离子质谱法测定高纯氧化镨中十三个稀土杂质。确定了仪器最佳工作条件,试验了功率,雾化器流量对基体抑制效应的影响,考察了镧、铈、镨氧化物离子及氢氧化物离子的干扰,选择了测定同位素,用标准加入法校正基体的抑制作用,以改善测量精度。通过加料回收及实际分析,认为本法具有耗样少、灵敏度高、操作简单的优点,可用于4N~6N纯度的氧化镨的分析。 相似文献
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ICP—MS测定高纯氧化镥中痕量稀土和非稀土杂质研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文报道了ICPMS直接测定高纯(99.999%~99.9999%)氧化镥中痕量稀土和非稀土杂质的新方法。对ICPMS测定中产生的谱干扰和基体效应进行了详细考查。试验结果表明:用Cs作内标,可有效地补偿因氧化镥引起的基体效应。方法的检出限在0.x~0.0xμg/L范围;相对标准偏差(RSD)(n=7)<10%。本法已应用于高纯氧化镥工艺流程分析和产品分析。 相似文献
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高纯氧化镨中痕量稀土杂质的ICP—MS测定 总被引:2,自引:0,他引:2
本文研究了用等离子质谱法测定高纯氧化镨中十三个稀土杂质。确定了仪器最佳工作条件,试验了功率,雾化器流量对基体抑制效应的影响,考察了镧,铈,镨氧化物离子及氢氧化物离子的干扰,选择了测定同位素,用标准加入法校正基体的抑制作用,以改善测量精度。通过加料回收及实际分析认为本法具有耗样少,灵敏度高,操作简单的优点,可用于4N-6N纯度的氧化镨的分析。 相似文献
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感耦等离子体质谱法测定高纯氧化镥中14个痕量稀土杂质 总被引:3,自引:1,他引:3
本文报道了用感耦等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯氧化镥中14个稀土杂质的方法。镥基体对测定元素无谱线干扰,但对测定信号产生显著抑制作用。加入内标后有效地补偿了这种基体抑制效应,方法检出限为0.005~0.03ng/mL。样品加标为0.01μg时,回收率为90%~103%。精密度(RSD)为1.4%~4.2%。方法简单,不需分离富集,样品消耗量少(10mg)。14个稀土元素的总测定下限(10)可达0.58μg/g可直接测定纯度为99.9%~99.9999%的氧化镥中稀土杂质。 相似文献
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高纯氧化钕中稀土杂质的化学光谱分析 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用P507萃淋树脂色谱法,盐酸为淋洗剂,偶氮胂Ⅲ柱上显色,对高纯氧化钕中稀土杂质进行分离富集。富集倍数为1000倍。富集物用干渣法光谱测定,测定下限∑RE为6ppm,变异系数 8—25%,可用于纯度为99.999%氧化钕中14个稀土杂质元素的测定。 相似文献
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高纯氧化钆中稀土杂质的化学光谱分析 总被引:4,自引:1,他引:4
化学光谱法是高纯稀土分析的主要方法,近年来,以P507萃淋树脂为固定相的萃取色谱法,对稀土元素的分离进行了系统的研究。本工作是在高纯氧化钕中14个稀土杂质化学光谱分析的基础上,研究高纯氧化钆中稀土杂质的分离条件。在φ14×1000的恒温色层柱上,以盐酸为淋洗剂,偶氮胂Ⅲ柱上显色,梯度淋洗,分离富集高纯氧化钆中稀土杂质,富集倍数2000倍以上,富集物经化学处理,光谱测定。测定下限∑RE7ppm,变异系数为10—25%,适用于99.999%氧化钆中14个稀土杂质元素的测定。 相似文献
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ICP-AES法测定高纯氧化铕中稀土杂质元素 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了锌粉还原 5709萃淋树脂分离富集 ICP AES法测定高纯氧化铕中14个稀土杂质元素的方法,用ICP AES法测定稀土元素工作曲线下限为(以氧化物计)镧为0.05mg·L-1,铈、镨、钇为0.25mg·L-1,钕、钐、铽、镝、钬为0.1mg·L-1,铒、铥、镱、镥、钇为0.05mg·L-1,回收率为90%~106%。方法简便、准确、快速,可用于99.99%氧化铕中14个稀土杂质元素的测定。 相似文献
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高纯氧化铕中微量稀土杂质的化学光谱测定 总被引:2,自引:0,他引:2
将高纯Eu2O2通过P507萃淋树脂分离富集,分离掉大量基体Eu2O3剩下微量稀土杂质用碳粉吸附,加KBH4作载体进行光谱测定,本方法可测定99.9999%,纯度的Eu2O3中微量稀土杂质。 相似文献
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使用国产仪器、设备及材料,对钼中痕量杂质元素的光谱分析中各主要条件进行了试验与研究。确定直流电弧阳极激发,一次同时测定钠、镁、铝、铁、钴、镍、锰、铜、钛、钒、铬、硅、铅、铋、锡、锑、镉十七个杂质元素。测定下限为0.1~3ppm,测定下限总量为17.3ppm,单次测定标准偏差4.5~20%。实验部分1.仪器设备、材料及试剂光谱仪—WPG-100型平面光栅摄谱仪,一级光谱倒数线色散为8埃/毫米。光源—半导体硅整流设备GZH5-18型。电极—光谱纯石墨电极φ6毫米。 相似文献
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高纯氧化钪中稀土杂质的电感耦合等离子体质谱法测定 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了用电感耦合等离子体质谱法测定高纯氧化钪中15个稀土杂质的方法。考察了基体效应及内标的作用,采用I或Cs为内标可很好补偿基体SC的影响。方法检测限为0.013-0.085ng/ml,加料回收率为91.2%-105.7%,相对标准偏 1.4%-8.1%。 相似文献
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